一種印後加工工作檯的製作方法

2023-07-10 15:23:41 2

本發明涉及一種工作檯，特別涉及一種印後加工工作檯。

背景技術：

印版印版，其表面處理成一部分可轉移印刷油墨，另一部分不轉移印刷油墨的印刷版。現有的印版在工作完畢後，需要回收利用，有些則需要重新修復才能再次利用，目前修補印版通常都是在平面的工作檯上操作，該工作檯不方便修補印版，而且也不具有擺放印版的功能。

技術實現要素：

本發明主要是解決現有技術所存在的技術問題，從而提供一種可以將印版放置在滑槽上，通過導向塊可以放置多張印版，底座起到支撐的作用，從而方便工作者檢測印版與修補印版，還可以將待修補的印版放置在固定盤上進行處理的印後加工工作檯。

本發明的上述技術問題主要是通過下述技術方案得以解決的：

一種印後加工工作檯，包括底座，底座為圓柱形形狀，底座上設有若干固定塊，相鄰兩個固定塊之間設有開槽，底座的頂部中間位置設有旋轉盤，旋轉盤的外周面設有旋轉槽，旋轉盤的頂部中間位置設有插杆，插杆的端部設有固定盤，固定盤的外周面設有若干固定柱，每個開槽均設有導向塊，導向塊上設有滑槽，導向塊的底端兩側壁設有插柱，插柱插接在固定塊內，導向塊的底端設有連接塊，連接塊與固定盤連接，連接塊與導向塊的底端連接部分設有傾斜面，連接塊設有連接槽，固定柱設置在連接槽內，固定盤的中間位置設有中心柱，插杆的端部插接在中心柱的底部內。

進一步地，所述插杆的外周面套裝有限位環，限位環布置在固定盤的底部。

進一步地，所述限位環與插杆為一體結構。

進一步地，所述限位環的直徑大於插杆的直徑。

進一步地，所述固定塊的頂部設有插孔。

採用上述技術方案的印後加工工作檯，由於底座為圓柱形形狀，底座上設有若干固定塊，相鄰兩個固定塊之間設有開槽，底座的頂部中間位置設有旋轉盤，旋轉盤的外周面設有旋轉槽，旋轉盤的頂部中間位置設有插杆，插杆的端部設有固定盤，固定盤的外周面設有若干固定柱，每個開槽均設有導向塊，導向塊上設有滑槽，導向塊的底端兩側壁設有插柱，插柱插接在固定塊內，導向塊的底端設有連接塊，連接塊與固定盤連接，連接塊與導向塊的底端連接部分設有傾斜面，連接塊設有連接槽，固定柱設置在連接槽內，固定盤的中間位置設有中心柱，插杆的端部插接在中心柱的底部內，所以可以將印版放置在滑槽上，通過導向塊可以放置多張印版，底座起到支撐的作用，從而方便工作者檢測印版與修補印版，還可以將待修補的印版放置在固定盤上進行處理。

附圖說明

為了更清楚地說明本發明實施例或現有技術中的技術方案，下面將對實施例或現有技術描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本發明的一些實施例，對於本領域普通技術人員來講，在不付出創造性勞動的前提下，還可以根據這些附圖獲得其他的附圖。

圖1為本發明印後加工工作檯的結構示意圖；

圖2為本發明印後加工工作檯的部件分解圖；

圖3為圖2中A區域的細節放大圖；

圖4為本發明所述導向塊與固定盤的連接結構示意圖；

圖5為本發明所述固定盤的結構示意圖；

圖6為本發明所述導向塊的結構示意圖。

具體實施方式

下面結合附圖對本發明的優選實施例進行詳細闡述，以使本發明的優點和特徵能更易於被本領域技術人員理解，從而對本發明的保護範圍做出更為清楚明確的界定。

如圖1至圖6所示，一種印後加工工作檯，包括底座1，底座1為圓柱形形狀，底座1上設有若干固定塊2，相鄰兩個固定塊2之間設有開槽3，底座1的頂部中間位置設有旋轉盤12，旋轉盤12的外周面設有旋轉槽13，旋轉盤12的頂部中間位置設有插杆10，插杆10的端部設有固定盤7，固定盤7的外周面設有若干固定柱8，每個開槽3均設有導向塊4，導向塊4上設有滑槽5，導向塊4的底端兩側壁設有插柱9，插柱9插接在固定塊2內，導向塊4的底端設有連接塊16，連接塊16與固定盤7連接，連接塊16與導向塊4的底端連接部分設有傾斜面15，連接塊16設有連接槽17，固定柱8設置在連接槽17內，固定盤7的中間位置設有中心柱14，插杆10的端部插接在中心柱14的底部內；插杆10的外周面套裝有限位環11，限位環11布置在固定盤7的底部，限位環11與插杆10為一體結構，限位環11的直徑大於插杆10的直徑，固定塊2的頂部設有插孔6。

本發明印後加工工作檯，可以將印版放置在滑槽5上，通過導向塊4可以放置多張印版，底座1起到支撐的作用，從而方便工作者檢測印版與修補印版，還可以將待修補的印版放置在固定盤7上進行處理。由於插杆10的外周面套裝有限位環11，限位環11布置在固定盤7的底部，限位環11與插杆10為一體結構，限位環11的直徑大於插杆10的直徑，所以可以牢固地安裝固定盤7。與固定塊2的頂部設有插孔6，所以方便插接固定杆。

以上所述，僅為本發明的具體實施方式，但本發明的保護範圍並不局限於此，任何不經過創造性勞動想到的變化或替換，都應涵蓋在本發明的保護範圍之內。因此，本發明的保護範圍應該以權利要求書所限定的保護範圍為準。