全程方向漸變型恆速平面研磨機的製作方法

2023-08-04 05:16:06 1

專利名稱：全程方向漸變型恆速平面研磨機的製作方法
技術領域：
本實用新型涉及約束平面研磨機運動軌跡的滑動裝置。
背景技術：
當前平面研磨機從運動方式來看，基本上分為兩大類一類是隔離盤作偏心運動，另一類是隔離盤作行星運動。作偏心運動的平面研磨機的研磨行程及速度的均一性較差，其研磨質量和研磨效率都不如行星運動平面研磨機好，而作內擺線軌跡的行星運動研磨機因軌跡連續大角度回折，運動不平衡，工件平面平行度不易保證，通過複合運動形成外擺線運動軌跡的行星運動平面研磨機，其研磨行程同一生較好，運動平穩，工件能較好地走遍整個研磨盤的工作表面，但其主要缺點是內、外銷子盤上的幾十個銷軸以及與之嚙合的行星盤牙齒容易磨損，需經常維修更換銷軸和行星盤。上述幾種平面研磨機均不能嚴格地保證工件表面上各點的研磨運動速度絕對相等，也不能保證表面研磨過程中運動速度恆定不變。
實用新型內容本實用新型的目的是研製一種全程方向漸變型恆速平面研磨機，它應具有工件平面相對於研磨盤的運動速度大小恆定，而方向沿圓周軌跡的切線方向循序漸變，工件相對研具平面作平行運動，保證工件表面上各點相對於研磨盤的滑動路程相等(即研磨行程的同一性)，保證工件上各點磨去的餘量相同，以保證被研磨工件平面的平面度和平行度，同時可使研磨盤上各點的磨損量相同，使研磨盤的幾何形狀精度保持長期不變，延長研磨盤工作面使用壽命的特點。本實用新型包含上研磨盤1、下研磨盤2、隔離盤3、偏心軸4、曲柄5、研磨盤託架6、主軸7，它還包含隔離盤滑杆8、左滑杆9、右滑杆10、滑塊12、滑塊11；下研磨盤2固定在研磨盤託架6上，隔離盤3設置在下研磨盤2的上面，上研磨盤1設置在隔離盤3的上面，隔離盤3可夾持工件在上研磨盤1和下研磨盤2之間活動，主軸7設置在研磨盤託架6的中心孔內，主軸7的上端與曲柄5的左端固定連接，偏心軸4的下端與曲柄5的右端固定連接，偏心軸4的上端與隔離盤3的下端活動連接，隔離盤滑杆8設置在隔離盤3內的水平通孔內並與其滑動連接，隔離盤滑杆8的左端固定在左滑杆9的中部，隔離盤滑杆8的右端固定在右滑杆10的中部，隔離盤滑杆8、左滑杆9和右滑杆10都處在一個水平面上，左滑杆9的兩端分別設置在同側的兩個滑塊11的通孔11-1內並與其滑動連接，右滑杆10的兩端分別設置在同側的兩個滑塊12的通孔12-1內並與其滑動連接，兩個滑塊11、滑塊12分別固定在機架上。本實用新型為單偏心結構，它不僅比行星運動研磨機結構簡單，而且比行星運動研磨機能更好地滿足研磨過程對運動及運動軌跡的技術要求。本實用新型具有研磨工件表面各點的運動軌跡為大小相等的圓周，滿足研磨軌跡的同一性要求；工件平面上各點相對於研磨盤的運動速度大小相等並且恆定不變，運動穩定性好，工件研磨方向沿圓周軌跡的切線方向循序漸變，可避免磨具在工件平面上產生重複軌跡，形成有紋研磨，易於獲得各向同性的高精研磨表面，並有利於提高研磨效率。工件研磨方向沿各向循環改變，可以減低工藝系統振動的影響以及降低對研磨盤表面粗糙度的要求。從而降低對設備製造精度的要求，而磨具粗糙度的提高還有助於研磨劑的存留，研具的磨損均勻，易於保證被研磨工件平面的平面度和平行度，並可延長研磨盤工作面的使用壽命的優點。本實用新型還具有操作方便，研磨機各零部件不易磨損，使用耐久、可靠，研磨效率高、質量穩定的優點。


圖1是本實用新型的整體結構示意圖，圖2是本實用新型的俯視圖，圖3是具體實施方式
二的整體結構示意圖，圖4是具體實施方式
二的俯視圖。
具體實施方式
一本實施方式由上研磨盤1、下研磨盤2、隔離盤3、偏心軸4、曲柄5、研磨盤託架6、主軸7、隔離盤滑杆8、左滑杆9、右滑杆10、滑塊11、滑塊12組成；下研磨盤2固定在研磨盤託架6上，隔離盤3設置在下研磨盤2的上面，上研磨盤1設置在隔離盤3的上面，隔離盤3可夾持工件在上研磨盤1和下研磨盤2之間活動，主軸7設置在研磨盤託架6的中心孔內，主軸7的上端與曲柄5的左端固定連接，偏心軸4的下端與曲柄5的右端固定連接，偏心軸4的上端與隔離盤3的下端活動連接，隔離盤滑杆8設置在隔離盤3內的水平通孔內並與其滑動連接，隔離盤滑杆8的左端固定在左滑杆9的中部，隔離盤滑杆8的右端固定在右滑杆10的中部，隔離盤滑杆8、左滑杆9和右滑杆10都處在一個水平面上，左滑杆9的兩端分別設置在同側的兩個滑塊11的通孔11-1內並與其滑動連接，右滑杆10的兩端分別設置在同側的兩個滑塊12的通孔12-1內並與其滑動連接，兩個滑塊11、滑塊12分別固定在機架上。
具體實施方式
二本實施方式與具體實施方式
一的不同點在於，左滑杆9和右滑杆10上各設有一個可在其上滑動的滑塊11、滑塊12，隔離盤滑杆8固定在隔離盤3上，滑塊11、滑塊12內的通孔11-1和通孔12-1的下面與通孔11-1、通孔12-1垂直地開有下通孔11-2、12-2，隔離盤滑杆8的左端設置在滑塊11的下通孔11-2內並與其滑動連接，隔離盤滑杆8的右端設置在滑塊12的下通孔12-2內並與其滑動連接，左滑杆9和右滑杆10的兩端分別固定在機架上。其它組成和連接關係與具體實施方式
一相同。
工作原理本實用新型的上研磨盤1和下研磨盤2固定不動，隔離盤3由曲柄5通過偏心軸4帶動並在隔離盤滑杆8、左滑杆9、右滑杆10的聯合限制下作平動，其中與隔離盤3構成滑動副的隔離盤滑杆8和左滑杆9、右滑杆10在隔離盤平面上垂直固連，而左滑杆9、右滑杆10與機架構成滑動副。工件放置在隔離盤3中，並隨隔離盤3一起作平動。
具體實施方式
二中，隔離盤滑杆8與兩端的滑塊11、滑塊12構成滑動副，而滑塊11、滑塊12僅可在隔離盤滑杆8相垂直的左滑杆9、右滑杆10上滑動，固定工件的隔離盤3由曲柄5在偏心軸4的帶動下經上述兩對導路相互垂直的滑動副的限制下一起作平動。從前述方案中可以看出，隔離盤(連同工件)固定不動，若對上下研磨盤採用具體實施方式
一或具體實施方式
二中對隔離盤相同的驅動及限制結構，則可以起到對工件同樣的研磨效果。
權利要求1.全程方向漸變型恆速平面研磨機，它包含上研磨盤(1)、下研磨盤(2)、隔離盤(3)、偏心軸(4)、曲柄(5)、研磨盤託架(6)、主軸(7)，其特徵在於它還包含隔離盤滑杆(8)、左滑杆(9)、右滑杆(10)、滑塊(12)、滑塊(11)；下研磨盤(2)固定在研磨盤託架(6)上，隔離盤(3)設置在下研磨盤(2)的上面，上研磨盤(1)設置在隔離盤(3)的上面，隔離盤(3)可夾持工件在上研磨盤(1)和下研磨盤(2)之間活動，主軸(7)設置在研磨盤託架(6)的中心孔內，主軸(7)的上端與曲柄(5)的左端固定連接，偏心軸(4)的下端與曲柄(5)的右端固定連接，偏心軸(4)的上端與隔離盤(3)的下端活動連接，隔離盤滑杆(8)設置在隔離盤(3)內的水平通孔內並與其滑動連接，隔離盤滑杆(8)的左端固定在左滑杆(9)的中部，隔離盤滑杆(8)的右端固定在右滑杆(10)的中部，隔離盤滑杆(8)、左滑杆(9)和右滑杆(10)都處在一個水平面上，左滑杆(9)的兩端分別設置在同側的兩個滑塊(11)的通孔(11-1)內並與其滑動連接，右滑杆(10)的兩端分別設置在同側的兩個滑塊(12)的通孔(12-1)內並與其滑動連接，兩個滑塊(11)、滑塊(12)分別固定在機架上。
2.根據權利要求1所述的全程方向漸變型恆速平面研磨機，其特徵在於左滑杆(9)和右滑杆(10)上各設有一個可在其上滑動的滑塊(11)、滑塊(12)，隔離盤滑杆(8)固定在隔離盤(3)上，滑塊(11)、滑塊(12)內的通孔(11-1)和通孔(12-1)的下面與通孔(11-1)、通孔(12-1)垂直地開有下通孔(11-2)、(12-2)，隔離盤滑杆(8)的左端設置在滑塊(11)的下通孔(11-2)內並與其滑動連接，隔離盤滑杆(8)的右端設置在滑塊(12)的下通孔(12-2)內並與其滑動連接，左滑杆(9)和右滑杆(10)的兩端分別固定在機架上。
專利摘要全程方向漸變型恆速平面研磨機，它涉及約束平面研磨機運動軌跡的滑動裝置。作偏心運動的平面研磨機的研磨行程及速度的均一性較差，作內擺線軌跡的行星運動研磨機因軌跡連續大角度回折，運動不平衡，工件平面平行度不易保證。本實用新型的隔離盤滑杆(8)設置在隔離盤(3)內的水平通孔內，隔離盤滑杆(8)的左端固定在左滑杆(9)的中部，隔離盤滑杆(8)的右端固定在右滑杆(10)的中部，隔離盤滑杆(8)、左滑杆(9)和右滑杆(10)都處在一個水平面上。本實用新型的研磨工件表面各點的運動軌跡為大小相等的圓周，滿足研磨軌跡的同一性要求；研磨方向循序漸變，可獲得各項同性的研磨表面，工件平面上各點相對於研磨盤的運動速度大小相等並且恆定不變，運動穩定性好。
文檔編號B24B37/07GK2592339SQ0320029
公開日2003年12月17日 申請日期2003年1月9日 優先權日2003年1月9日
發明者翟文杰, 王闖 申請人:哈爾濱工業大學