氣體雷射印章雕刻機的製作方法

2023-07-19 03:45:56

專利名稱：氣體雷射印章雕刻機的製作方法
技術領域：
本實用新型涉及雷射技術在印章雕刻領域中的應用。
自古以來，印章就不僅是群體的權力象徵，也是個人的獨特信物。就其雕刻工藝的漫長發展過程來看，有兩次較大的變革第一次變革是從個體手工雕刻發展為機械化製作或模壓生產，它將印章雕刻由個人操作推向了集體化、產業化；第二次變革是八十年代原子印章製作技術的出現，它使得印章雕刻走向了規範化和社會化，這是一次重要的工藝變革。
但是，原子印章的製作仍需要龐大的成套設備，眾多的操作人員，複雜的工藝流程，較高的技術要求和生產成本，而且還存在廢液排放、汙染環境等問題。電腦原子印章製作系統的出現，雖然解決了原子印章製作時菲林(FILM)製作的工藝問題，簡化了部分工序，但是現行工藝存在的問題仍然沒有得到根本性解決。
雷射雕刻技術的出現，給印章雕刻業帶來了第三次重大的技術變革，它是集雷射技術、計算機技術、數控技術於一體，並與印章雕刻生產實際相結合的產物。YAG雷射雕刻機的出現是這種技術的象徵，它跨越了原子製作中的繁瑣加工工序，從設計到製作，一步完成，大大縮短了印章的製作周期，降低了生產成本，提高了印章製作的效率和質量。
CO2雷射印章雕刻機是在YAG雷射雕刻機的基礎上，經過不斷改進而開發的新技術，改進的主要表現在於所使用的雷射雕刻光源的不同。
本實用新型的目的是採用連續CO2雷射器替代脈衝YAG固體雷射器，且與光學系統和導軌一同安裝在工作檯上成為一體。
本實用新型的任務是通過以下技術方案完成的。CO2雷射器1與光學系統的全反射鏡2、3、4和透鏡5及XY坐標系統的導軌8、9一同安裝在工作檯7上構成一整機。全反射鏡3固定在導軌9的一端，該端在固定導軌8的滑槽內動配合，全反射鏡4與導軌9相連接，且可沿導軌9移動。
以下結合附圖詳細說明本實用新型的技術內容


圖1是本實用新型的結構原理示意圖。
從
圖1的配置來看，CO2雷射器1、光學系統及X－Y導軌8、9及工作檯7上是組合成一體的。CO2雷射器1用來產生高功率密度的雷射光束，其波長為10.6um；光學系統由全反射鏡2、3、4與透鏡5組成，用來實現雷射束從雷射光源到印章材料表面的光束傳輸和聚焦；X－Y導軌8、9及工作檯7用來實現雷射束在印章材料雕刻表面的二維移動。
本實用新型所產生的積極效果是1.整機成本降低，結構更加緊湊；2.CO2雷射光束的高質量，使印章製作質量進一步提高；3.CO2雷射器的高效率，使整機的耗能降低；
4.CO2雷射器採用封離式結構，兩個諧振腔與雷射管在製作時就封裝在一起，而不像YAG雷射器，兩個諧振腔與工作物質棒分離，因此，CO2雷射印章雕刻機不存在YAG雷射雕刻機在使用時雷射腔的精密調節問題，從而大大簡化了雷射印章雕刻機的操作，同時減少了配套調光儀器。
以下結合附圖列舉最佳實施例
圖1是本實用新型的最佳實施圖。
見
圖1，氣體雷射印章雕刻機，是採用CO2雷射器1作雷射雕刻光源，用微機直接輸入各種字符或藉助於光電掃描儀進行各種圖案、手寫體文字的輸入；印章製作排版軟體用來設計各種標準和非標準的公、私章，並配有簡，繁各種字體的漢字庫，字體和字號的大小可任意選擇。微機通過發生指令信號，控制CO2雷射器1發生雷射束，該雷射束經全反射鏡2、3、4及凸透鏡5組成的光學系統，聚焦於印章材料的表面，同時微機控制全反射鏡3和4的移動，使雷射束在X和Y兩方向作組合運動，通過雷射與印章材料6的特殊相互作用(化學效應、刻蝕效應、汽化效應等)就可以在印章材料6上刻出所需要的印章。
其中印章材料6置於工作檯7的表面上，全反射鏡3固定在導軌9的一端，全反射鏡4與導軌9相連接並沿導軌9移動，導軌8與導軌9相互垂直，微機發出的控制指令，控制全反射鏡3與導軌9一起沿導軌8在X方向運動，全反射鏡4沿導軌9在Y方向移動。
權利要求1.一種氣體雷射印章雕刻機由微機、氣體雷射器(1)和光學系統的全反射鏡(2)、(3)、(4)、透鏡(5)；X-Y坐標系統相互垂直的導軌(8)、(9)所組成，其特徵是所述的氣體雷射器(1)是CO2雷射器，與光學系統的全反射鏡(2)、(3)、(4)、透鏡(5)及X-Y坐標系統的導軌(8)、(9)一同安裝在工作檯(7)上，且構成一整機。
2.根據權利要求1所述的氣體雷射印章雕刻機，其特徵是所述的光學系統中全反射鏡(3)固定在導軌(9)的一端，該端在固定導軌(8)的滑槽內動配合，全反射鏡(4)與導軌(9)相連接，且可沿導軌(9)移動。
專利摘要本實用新型涉及一種CO
文檔編號B44B3/00GK2178642SQ9323599
公開日1994年10月5日 申請日期1993年12月23日 優先權日1993年12月23日
發明者孟廣君, 王傳富, 黃欣明, 王又青, 孟全奎, 庫庚 申請人:孟廣君