一種快速脫模裝置的製作方法

2023-08-09 14:30:26

本發明涉及脫模裝置領域，尤其涉及一種快速脫模裝置。

背景技術：

現有技術的衝壓模具一般包括上模、下模和衝壓動力設備，所述的上模固定於衝壓動力設備上，將物料（待衝壓件）置於上模和下模之間，開啟衝壓動力設備，使上模瞬間向下衝壓，將物料成型於上下模之間。大型的衝壓模具一般採用液壓機為衝壓動力設備，即採用液壓機完成合模動作。現有技術的衝壓模具在產品衝壓成型之後，將上模上升，產品就留在了下模，此時需要人工將產品從下模上取下，產品的脫模對衝壓模具的生產效率影響很大，現有技術的手工脫模和拿去產品嚴重影響了生產效率，同時手動拿取也會產生一定的安全隱患，為此我們設計出了一種快速脫模裝置來解決以上問題。

技術實現要素：

本發明的目的是為了解決現有技術中存在的缺點，而提出的一種快速脫模裝置。

為了實現上述目的，本發明採用了如下技術方案：

一種快速脫模裝置，包括上模座，所述上模座的一側設有下模座，所述上模座和下模座互相靠近的一側設有上模和下模，所述下模的型腔底部設有頂升裝置，下模內設有與頂升裝置相配合的空腔，所述頂升裝置包括一組頂板、兩組頂杆、兩組推桿、兩組齒輪和兩組定位轉杆，所述頂板遠離下模腔的一側鉸接有兩組頂杆，兩組所述頂杆遠離頂板的一端均轉動連接有推桿，且下模內設有與推桿相配合的滑動通道，兩組所述推桿遠離下模座的一側設有齒輪，兩組推桿靠近齒輪的一側均設有與齒輪相嚙合的齒，兩組所述齒輪的中央均固定連接有定位轉杆，下模內設有與定位轉杆相配合的轉動槽，且兩組轉動槽靠近型腔的一端設有兩組位置對稱的半球形的限位凸塊。

優選的，所述上模遠離上模座的一側設有與定位轉杆相配合的定位孔。

優選的，兩組所述齒輪均通過支撐軸安裝在空腔的內壁上。

優選的，所述頂板靠近頂杆的一側兩端均設有導向杆，空腔內壁上設有與導向杆相配合的導向槽。

優選的，所述導向杆靠近頂板的一側通過彈簧與導向槽的頂部相連。

優選的，所述定位轉杆遠離齒輪的一端設有錐形倒角。

與現有技術相比，本發明的有益效果是：本發明中，脫模時，向兩側轉動定位轉杆，齒輪的轉動可以將推桿向頂杆的方向推動，推板推動頂杆將頂板頂起，頂板將成型後的工件頂出，然後反向轉動定位轉杆，使頂板回到原位置，裝置結構簡單，操作簡單，可以快速的實現衝壓件的脫模，同時可以保證加工的精確度。

附圖說明

圖1為本發明提出的一種快速脫模裝置的結構示意圖；

圖2為本發明提出的一種快速脫模裝置的下模的俯視圖；

圖3為本發明提出的一種快速脫模裝置的下模的側視圖。

圖中：1上模座、2下模座、3上模、4下模、5頂升裝置、51頂板、52頂杆、53推桿、54齒輪、55定位轉杆、6轉動槽、7限位凸塊、8定位孔、9導向杆。

具體實施方式

下面將結合本發明實施例中的附圖，對本發明實施例中的技術方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例僅僅是本發明一部分實施例，而不是全部的實施例。

參照圖1-3，一種快速脫模裝置，包括上模座1，上模座1的一側設有下模座2，上模座1和下模座2互相靠近的一側設有上模3和下模4，下模4的型腔底部設有頂升裝置5，下模4內設有與頂升裝置5相配合的空腔，頂升裝置5包括一組頂板51、兩組頂杆52、兩組推桿53、兩組齒輪54和兩組定位轉杆55，頂板51靠近頂杆52的一側兩端均設有導向杆9，空腔內壁上設有與導向杆9相配合的導向槽，導向杆9靠近頂板51的一側通過彈簧與導向槽的頂部相連，頂板51遠離下模腔的一側鉸接有兩組頂杆52，兩組頂杆52遠離頂板51的一端均轉動連接有推桿53，且下模4內設有與推桿53相配合的滑動通道，兩組推桿53遠離下模座2的一側設有齒輪54，兩組齒輪54均通過支撐軸安裝在空腔的內壁上，兩組推桿53靠近齒輪54的一側均設有與齒輪54相嚙合的齒，兩組齒輪54的中央均固定連接有定位轉杆55，定位轉杆55遠離齒輪54的一端設有錐形倒角，上模3遠離上模座1的一側設有與定位轉杆55相配合的定位孔8，下模4內設有與定位轉杆55相配合的轉動槽6，且兩組轉動槽6靠近型腔的一端設有兩組位置對稱的半球形的限位凸塊7。

工作原理：工作時，將待衝壓件放到下模3上，然後使上模3下降，定位轉杆55插入定位孔8中，可以保證成型的準確度，成型結束後，上模3上升，定位轉杆55離開定位孔8，然後向兩側轉動定位轉杆55，齒輪54的轉動可以將推桿53向頂杆52的方向推動，推板53推動頂杆52將頂板51頂起，頂板51將成型後的工件頂出，然後反向轉動定位轉杆55，使頂板51回到原位置，導向杆9可以保證頂板51的豎直上升，且恢復原位置時，彈簧推動導向杆9，可以保證頂板51不會高出型腔的底部，限位凸塊7可以限制定位轉杆55位置，裝置結構簡單，操作簡單，可以快速的實現衝壓件的脫模，同時可以保證加工的精確度。

以上所述，僅為本發明較佳的具體實施方式，但本發明的保護範圍並不局限於此，任何熟悉本技術領域的技術人員在本發明揭露的技術範圍內，根據本發明的技術方案及其發明構思加以等同替換或改變，都應涵蓋在本發明的保護範圍之內。