佳能光刻機最好水平（日本佳能傳來消息）

2023-08-06 11:46:22

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光刻機對晶片製造的作用是非常大的，晶片工藝能發展到怎樣的程度，得看光刻機是否支持相應納米製程的光刻技術。

就像生產5nm晶片必須使用EUV光刻機，通過EUV光刻機13.5nm波長實現更精細的曝光。

不過日本傳來消息，新型光刻機或明年交付，採用3D技術實現封裝性能提升。這是怎樣的光刻機設備呢？ASML下一代NA EUV光刻機能實現翻盤嗎？

提到光刻機，來自荷蘭的ASML公司是不可忽略的。這家企業生產的DUV，EUV光刻機壟斷了全球中高端光刻機市場。

但其實許多人不了解的是，還有一個國家在光刻機領域也有深厚的積累。雖然和ASML的中高端光刻機市場地位有些差距，但在ASML實現崛起之前，在這個國家的光刻機企業面前也只是襯託。

這個國家就是日本，其分別擁有佳能和尼康這兩大光刻機巨頭。表面上看日本佳能，尼康是做照相機的，實際上他們長期發展的業務也包括光刻機。而且佳能傳出消息，其加快新型光刻機行動，或將在明年進行交付。

根據日經中文報導，佳能正在開發一款3D光刻機，預計2023年上半年發布。

這則消息說明佳能並未因落後ASML而停止光刻機研發，不過讓人感到好奇的是，佳能的3D光刻機究竟是個怎樣的產品呢？和ASML的經常被提及的DUV，EUV光刻機有什麼區別。其實區別非常大。

佳能3D光刻機是用在後道晶片封裝產業的，專門為封裝企業提供更好的封測技術支持。之所以是3D光刻機，就是因為可以實現3D封裝效果，並且是以立體的方式呈現。

如果還不夠了解的話，可以參考網上不斷流傳的晶片堆疊概念，把兩顆晶片堆疊使用，以先進封裝工藝實現串聯，共同發揮出強大的性能水準。

而佳能的3D光刻機就是專門做這個的。不過由於這臺3D光刻機還沒有實際發布上市，所以會有怎樣的3D封裝效果還不確定，一切都得等到有關產品亮相才能得到答案。

至於ASML的DUV，EUV光刻機，這種光刻機主要用於前道光刻，專門在矽片上曝光晶片線路圖。

過程中會把掩膜版上的晶片圖形以類似照片曝光衝洗的原理，印製在矽片。可以說ASML的前道光刻機是晶片製造最重要，也是難度最高的一大工藝。晶片製程能不能做到高端工藝，很大程度都需要EUV光刻機。

伴隨著新型光刻機或明年交付，ASML擔心的正在發生。一旦佳能3D光刻機大規模量產上市，並且給晶片製造提供新的性能提升思路，到時候晶片製造追求晶片性能提升的方式就未必是從ASML採購高端EUV光刻機了。

而是選擇從3D光刻機出發，運用晶片封裝，結合晶片堆疊技術降低對EUV光刻機的需求度。

ASML著急自由出貨就是擔心有朝一日市場上會出現替代品，儘管3D光刻機和EUV光刻機不是一個區間產品，但帶來的晶片性能提升卻是十分顯著的。

不過值得一提的是，ASML已經在研發下一代的NA EUV光刻機了。這臺下一代的NA EUV光刻機將採用高數值孔徑系統，相比普通版本的EUV光刻機，新一代的光刻機可以實現更高的解析度，晶片密度可以增加2.9倍，晶片面積縮小1.7倍。

按照ASML的說法，就是使用了這臺光刻機之後，客戶將大大降低晶片製造的複雜步驟。

那麼ASML下一代NA EUV光刻機能實現翻盤嗎？如果單純從NA EUV光刻機的性能角度來看，的確十分吸引晶片製造巨頭們的注意力，到時候肯定會不遺餘力選擇進購。

但是NA EUV光刻機的造價已經達到了近20億人民幣，ASML去年僅生產了42臺普通的EUV光刻機，要是量產NA EUV光刻機，產能可能會更少。

這也決定了這臺設備價值十分昂貴。相比之下，佳能3D光刻機的造價肯定比ASML的NA EUV光刻機更有優勢，操作難度也會更加簡單。

若晶片性能提升效果都是類似的，那麼誰會成為主要選擇將一目了然。因此ASML能否靠NA EUV光刻機實現翻盤，得看有多少客戶願意大量入手才行了。

佳能或將在明年交付3D光刻機，這對於ASML來說，顯然是出乎意料之外的。擔心的事正在發生，能不能靠新一代EUV光刻機實現翻盤，首先至少得將設備造出來才行。到時候才能進行一切答案的驗證。

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