等離子體顯示板濾光片的製作方法

2023-07-28 06:33:21 4

專利名稱：等離子體顯示板濾光片的製作方法
技術領域：
本發明涉及在等離子體顯示板(PDP)上使用的光學濾光片，它具有包括高衝擊強度在內的改善的性能特徵。
背景技術：
已知PDP比陰極射線管(CRT)或液晶顯示器(LCD)更適於具有擴大的平面畫面的高清晰度電視(HDTV)，但是它具有以下問題釋放有害的電磁幹擾(EMI)/紅外(IR)發射；在其表面上的高適光反射；以及由注入的He氣發出的橙色光引起的比CRT低的色純度。因此，已經在等離子體顯示板的前方應用濾光片來解決上述問題。
根據EMI屏蔽能力，可以將PDPs分成兩種類型，工業PDPs(A類)和個人PDPs(B類)。工業PDP濾光片一般通過在基片的一側交替層疊諸如Ag的金屬層和具有高折射率的氧化物層，以形成EMI/IR屏蔽層，並且在基片的另一側或兩側形成抗反射(AR)層來生產。日本專利公開第11-74683號公開了個人PDP濾光片的製造方法，所述方法包括在兩個透明基片層之間放置導電網，在基片的觀察者側粘附AR膜，並在基片的與觀察者側相反的一側粘附NIR屏蔽膜，以及在NIR層上施以AR膜。日本專利公開第13-134198號也提供了一種個人PDP濾光片的製造方法，所述方法包括在透明基片的表面上連續粘附導電網和AR膜，並在基片的另一側形成NIR屏蔽膜。
在PDP濾光片的製造中，一般使用厚度為2.0～3.5mm的鋼化或半鋼化玻璃板作為基片。但是，這種玻璃板的比重為2.6，並且難以生產輕質PDP濾光片。因此，已經建議將諸如丙烯醯基板的塑料樹脂片用作透明基片，但是這種樹脂片的耐熱性低。
另外，當簡單地將PDP濾光片置於PDP的前面時，在PDP和濾光片之間形成的空氣層誘導入射光線的雙反射，從而降低對比度。
為了解決上述問題，韓國專利公開第2001-39724號和日本專利公開第13-33622號公開了用透明粘合劑將塗有PET膜的電磁屏蔽層直接粘附在PDP前側的方法。也就是說，在PDP濾光片的生產中將透明的PET膜用作輕質、耐熱的基片，它可以直接粘附在PDP的表面上。
但是，通過使用PET膜作為透明基片而生產的PDP濾光片具有過低的衝擊強度，以至於不能保護PDP模塊免受外部衝擊。
因此，本發明的發明人已經致力於開發一種具有改善的性能特徵的PDP濾光片。

發明內容
因此，本發明的一個目的是提供一種具有改善的衝擊強度的輕質PDP濾光片。
根據本發明的一個方面，提供了一種PDP濾光片，其包括抗反射(AR)膜、近紅外(NIR)屏蔽膜、透明基片和電磁幹擾(EMI)屏蔽膜，其中透明基片是包括至少兩個透明塑料樹脂層和至少一個置於塑料樹脂層之間的粘合劑層的薄膜疊層。


當結合附圖時，本發明的上述和其它目的及特徵將從下面的描述中變得清楚，附圖分別顯示圖1本發明的透明薄膜疊層基片的實例，一個具有兩個透明樹脂層和一個透明粘合劑膜層；另一個具有三個透明樹脂層和兩個透明粘合劑層；以及圖2本發明實施例1的PDP濾光片的示意圖，它包括一個透明薄膜疊層基片。
具體實施例方式
本發明提供了一種等離子體顯示板(PDP)濾光片，其包括抗反射(AR)膜、近紅外(NIR)屏蔽膜、透明基片和電磁幹擾(EMI)屏蔽膜，其中透明基片是包括至少兩個透明塑料樹脂層和至少一個置於塑料樹脂層之間的粘合劑層的薄膜疊層。
本發明的特徵在於在PDP濾光片的製造中使用包括至少兩個透明塑料樹脂層和一個或多個置於樹脂層之間的透明粘合劑層的薄膜疊層作為透明基片，以改善衝擊強度以及光學性質，例如抗反射、電磁幹擾阻斷能力、NIR阻斷能力和色純度。
可以將包括至少兩個透明塑料樹脂層的具有高衝擊強度的本發明的PDP濾光片直接粘附在PDP的表面上，因此，本發明提供了能夠保護PDP元件免受外部衝擊的輕質、高性能的PDP濾光片。
圖1顯示了包括至少兩個透明塑料樹脂層和一個或多個透明粘合劑層的本發明的柔韌性薄膜基片的實例。透明薄膜層(1a、1b、1c)可以由具有80％或更高，優選90％或更高透光率的熱塑性樹脂組成，如聚對苯二甲酸乙二酯(PET)、聚碳酸酯(PC)、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)、三醋酸纖維素(TAC)、聚醚碸(PES)或它們的混合物。透明塑料樹脂層的厚度優選為25～250μm。
透明粘合劑樹脂層(2a、2b)的厚度優選為10～1000μm，更優選為25～500μm。粘合劑樹脂的代表性實例是乙烯乙酸乙烯酯(EVA)、(甲基)丙烯酸乙烯酯、(甲基)丙烯酸乙烯甲酯、金屬離子交聯的(甲基)丙烯酸乙烯酯、乙烯基乙酸羧乙烯酯、聚乙烯醇縮丁醛(PVB)樹脂、環氧樹脂、丙烯醯基樹脂、酚樹脂、有機矽樹脂、聚酯樹脂和聚氨酯樹脂，優選是乙烯乙酸乙烯酯(EVA)和聚乙烯醇縮丁醛(PVB)樹脂。
透明粘合劑樹脂膜以片狀形式如下製備混合樹脂與諸如UV或IR吸收劑的添加劑，接著用擠出機或滾筒碾壓並經滾塗或T模塗(T-die coating)而展平。將如此獲得的一個或多個粘合劑膜片置於兩個或多個透明塑料膜之間，接著在70～200℃，優選80～130℃的溫度下加熱並在真空中於1～10kgf/cm2，優選2～5kgf/cm2的壓力下擠壓約30分鐘，接著冷卻，獲得薄膜疊層基片(14)。真空可以為100mmHg或更低，優選為10mmHg或更低。
另外，在PDP濾光片的製造中可以使用諸如壓敏粘合劑(PSA)的膜形式的透明粘合劑。透明粘合劑可以是丙烯醯基或熱塑性彈性體。粘合劑可以與UV阻斷劑和諸如染料、抗老化劑或粘合劑增強劑的添加劑一起使用。
可以通過滾塗或染塗(dye-coating)而將透明粘合劑塗布在透明樹脂膜上，接著乾燥並粘附到另一個透明樹脂膜上，從而製備薄膜疊層基片。
本發明的PDP濾光片的製備的優選實施方案如圖2所示。
在透明薄膜疊層基片(14)的觀察者側連續塗布NIR阻斷/選擇性透光膜(12)和AR膜(11)。將電磁幹擾(EMI)屏蔽膜(13)和透明粘合劑膜(5)連續層壓在基片(14)的另一側上，從而得到本發明的PDP濾光片。
在NIR阻斷/選擇性透光膜(12)的製備中，可以加入選擇的光吸收劑和NIR阻斷顏料。光吸收劑的代表性實例可以是在韓國專利公開第2001-26838和2001-39727號中公開的衍生物顏料。在這種顏料中，位於四氮雜卟啉中心的金屬原子與選自NH3、H2O和滷素的配體配位，金屬選自Zn、Pd、Mg、Mn、Co、Cu、Ru、Rh、Fe、Ni、V、Sn和Ti。NIR阻斷顏料的代表性實例包括Ni絡合物和diimmonium化合物的混合物、有機顏料以及含有Cu或Zn離子的顏料。基於膜的總量，選擇的光吸收劑和NIR阻斷顏料分別可以以0.01～0.5％和0.3～5％的量加入。此外，基於膜總量，常規的偶氮、花青、二苯基甲烷、三苯基甲烷、酞菁、呫噸、二苯基乙烯、靛藍類或卟啉染料可以在膜(12)的製備中以0.05～3％的量加入。
可以將透明樹脂和染料溶解在有機溶劑中以塗布在薄膜疊層基片(14)上，並形成NIR阻斷/選擇性透光膜(12)。透明樹脂可以是聚(甲基丙烯酸甲酯)(PMMA)、聚乙烯醇(PVA)、聚碳酸酯(PC)、乙烯乙酸乙烯酯(EVA)、聚乙烯醇縮丁醛(PVB)或聚對苯二甲酸乙二酯(PET)，並且基於溶劑的量，以5～40％的量加入。溶劑的代表性實例包括甲苯、二甲苯、丙酮、甲基乙基酮(MEK)、丙醇、異丙醇、甲基溶纖劑(methylcellusolve)、乙基溶纖劑(ethylcellusolve)和二甲基甲醯胺(DMF)。可以向膜組合物中加入諸如自由基反應抑制劑的穩定劑，以阻止染料的降解。
膜組合物的塗布方法可以通過常規塗布技術進行，例如滾塗、染塗或旋塗方法。為了獲得滿意的NIR阻斷能力，乾燥的塗層的厚度優選在1～20μm的範圍內，更優選在2～10μm的範圍內。
NIR阻斷/選擇性透光膜(12)也可以通過在透明樹脂疊層基片的一個表面上塗布NIR膜組合物，並且向膜(12)的另一側施以透明粘合劑直至約25μm的厚度而形成。
AR膜(11)可以如下形成首先在厚度為75～250μm的透明膜的一個表面上塗布耐劃的丙烯醯基樹脂，然後形成低折射率層或者交替形成具有高和低折射率的透明層，並且向AR膜(11)的另一個表面施以透明粘合劑直至厚度為約25μm。可以將脫除膜(removal film)(圖2中未顯示)粘附於透明粘合劑上。AR膜的塗布可以通過真空塗布、輥塗或染塗方法來進行。優選將AR層塗至λ/4-λ/4的厚度(λ波長)。
EMI屏蔽膜(13)可以如下製備向厚度為75～250μm的透明膜的一個表面施以由金屬纖維或金屬塗布纖維製成的導電網，並且向EMI屏蔽膜(13)的另一個表面施以透明粘合劑直至25～50μm的厚度。另外，可以在導電網層上形成厚度為25～50μm的透明粘合劑層(15)。粘合劑層(15)可以用來將這樣獲得的PDP濾光片與PDP部件連接。
本發明在下面提供的實施例中得到進一步描述和例示，但是它們並不限制本發明的範圍。
PDP濾光片的製備實施例1將EVA片(2a)(由Sekisui Chemical Co.生產，厚度250μm)夾在兩個高度透明的PET膜(1a、1b)(厚度125μm)之間，並在10mmHg或更低的真空中在130℃下加熱30分鐘，並在5kgf/cm2下擠壓，從而製備包含兩個PET層的透明薄膜疊層基片(14a)(圖1A)。
使用滾筒層合機以1.0m/min的速度將125μm厚的包含八苯基四氮雜卟啉(Nippon Chemical pharmaceutical Co.以IRG022銷售)作為染料的NIR/選擇性光吸收膜(12)置於薄膜基片的一個表面上，然後使用滾筒層合機以1.0m/min的速度將125μm厚的AR膜(11)置於NIR/選擇性光吸收膜(12)上。向薄膜基片(14)的另一個表面施以具有網型的銅箔(13)(厚度125μm，線寬10μm，線距300μm，開口面積比93％)，並且使用滾筒層合機以1.0m/min的速度將樹脂粘合劑塗布的聚酯膜(15)置於箔層(13)的表面上，從而製備薄膜疊層。
使用滾筒層合機以1.0m/min的速度將這樣獲得的薄膜疊層置於浮法玻璃(厚度2.0mm)上，從而得到PDP濾光片。
實施例2除了分別將兩個EVA片置於三片PET膜之間以外，重複實施例1的程序來製備包含三個PET層的薄膜基片(14b)(圖1B)。
實施例3除了使用高度透明的PET膜(厚度175μm)以外，重複實施例1的程序，獲得PDP濾光片。
實施例4除了使用高度透明的PET膜(厚度175μm)以外，重複實施例2的程序，獲得PDP濾光片。
比較例1將具有網型的銅箔(厚度125μm，線寬10μm，線距300μm，開口面積比93％)置於高度透明的PET膜(厚度125μm)的一側，並且依次向其上施以樹脂粘合劑和透明粘合劑(厚度25μm)。在PET膜的另一個表面上，使用實施例1的程序連續施以NIR/選擇性光吸收膜和AR膜，得到PDP濾光片。
物理特性用下述方法測量在實施例1～4和比較例1中製備的PDP濾光片的性質，結果如表1所示(1)可見光透光率(％)用VIS分光光度計(由N K Co.，USA生產)測量。
(2)衝擊阻力(lbft)根據KS L 2016表1

從上述結果可以看出，根據本發明製備的等離子體顯示板(PDP)濾光片包括包含至少兩個透明塑料樹脂層的薄膜疊層作為透明基片，它具有改善的衝擊強度和高透光率。
儘管本發明已經參照優選的實施方案得到描述和例示，但是在不偏離本發明的發明構思的前提下，可以對其作出各種變化和修改，本發明的構思應該僅受所附權利要求範圍的限制。
權利要求
1.等離子體顯示板(PDP)濾光片，其包括抗反射(AR)膜、近紅外(NIR)屏蔽膜、透明基片和電磁幹擾(EMI)屏蔽膜，其中透明基片是包括至少兩個透明塑料樹脂層和至少一個置於塑料樹脂層之間的粘合劑層的薄膜疊層。
2.權利要求1的PDP濾光片，其中透明塑料樹脂層的厚度為25～250μm，透光率為80％或更高。
3.權利要求1的PDP濾光片，其中粘合劑層包括透明粘合劑樹脂或透明粘合劑。
4.權利要求3的PDP濾光片，其中透明粘合劑樹脂是乙烯乙酸乙烯酯(EVA)和聚乙烯醇縮丁醛(PVB)樹脂。
5.權利要求3的PDP濾光片，其中透明粘合劑是包含丙烯醯基化合物或熱塑性彈性體的壓敏粘合劑(PSA)。
6.權利要求3的PDP濾光片，其中薄膜疊層如下製備將厚度為25～250μm的片形式的透明粘合劑樹脂置於基片膜之間，接著在70～200℃的溫度下加熱並在1～10kgf/cm2的壓力下擠壓。
7.權利要求1的PDP濾光片，其中將抗反射(AR)膜和近紅外(NIR)屏蔽膜置於透明基片的觀察者側。
8.權利要求1的PDP濾光片，其中將電磁幹擾(EMI)屏蔽膜置於透明基片與觀察者側相反的一側。
9.權利要求1的PDP濾光片，使用透明粘合劑將其直接粘附在等離子體顯示板的表面上。
全文摘要
本發明涉及等離子體顯示板(PDP)濾光片，其包括抗反射(AR)膜、近紅外(NIR)屏蔽膜、透明基片和電磁幹擾(EMI)屏蔽膜，其中透明基片是包括至少兩個透明塑料樹脂層和至少一個置於塑料樹脂層之間的粘合劑層的薄膜疊層。
文檔編號H05K9/00GK1509490SQ03800234
公開日2004年6月30日 申請日期2003年1月10日 優先權日2002年1月11日
發明者曺圭中, 金東暎, 樸贊洪, 李榮珍, 圭中 申請人:Skc株式會社