電弧離子鍍膜裝置的製作方法
2023-12-03 17:24:26 1
專利名稱：電弧離子鍍膜裝置的製作方法
技術領域：
本發明涉及一種電弧離子鍍膜裝置。
背景技術：
電弧離子鍍是物理氣相沉積技術的一種，其是將真空弧光放電用於蒸發源的一種真空離子鍍膜技術。在電弧離子鍍技術中，靶材既是陰極材料的蒸發源，又是發射等離子體的離子源。由於電弧離子鍍具有離化率高，所製備的薄膜與基材的結合力好等優點而被廣泛地應用。
目前應用較多的電弧離子鍍裝置，靶材通常為圓柱狀，且通常懸掛於反應室的腔壁上。但由於靶面較小(通常是直徑100_，高度為40_)，沉積範圍有限，難以鍍制大面積工件，在大工件上沉積薄膜時，會導致薄膜厚度和顏色不均勻。為提高鍍膜均勻性，通常會採用多個靶材交叉錯配的方式懸掛於反應室的腔壁上，但這同時會使鍍膜設備反應室的結構變得複雜，且不利於靶材的拆卸與維護。發明內容
有鑑於此，提供一種有效解決上述問題的電弧離子鍍膜裝置。
一種電弧離子鍍膜裝置，其包括一反應室及可拆卸地設置於反應室中央的多個靶材和多個分隔板；該多個分隔板為相交設置，每一分隔板包括一側面，該多個分隔板的所述側面鄰接設置；所述每一靶材位於相鄰的二分隔板所圍成的區域內。
本發明電弧離子鍍膜裝置的設計節省了反應室的配置空間，可實現在大面積的基材上鍍膜，更能克服一般電弧離子鍍膜裝置的沉積速度低和頻繁更換靶材的缺陷。
圖1為本發明較佳實施例的電弧離子鍍膜裝置的剖面示意圖；圖2為本發明較佳實施例的電弧離子鍍膜裝置的示意圖。
主要元件符號說明
權利要求
1.一種電弧離子鍍膜裝置，其包括一反應室，其特徵在於該電弧離子鍍膜裝置還包括可拆卸地設置於反應室中央的多個靶材和多個分隔板；該多個分隔板為相交設置，每一分隔板包括一側面，該多個分隔板的所述側面鄰接設置；所述每一靶材位於相鄰的二分隔板所圍成的區域內。
2.如權利要求1所述的電弧離子鍍膜裝置，其特徵在於該多個分隔板的所述側面相交，且使相鄰的二分隔板相交之間形成的角度均相等。
3.如權利要求1所述的電弧離子鍍膜裝置，其特徵在於所述靶材為圓柱靶。
4.如權利要求1所述的電弧離子鍍膜裝置，其特徵在於反應室的底板上分別設置有多個靶材電源，並分別與相應的靶材相連接。
5.如權利要求1所述的電弧離子鍍膜裝置，其特徵在於該電弧離子鍍膜裝置還包括一圍繞靶材及分隔板設置的轉架系統，該轉架系統用以裝載基材。
6.如權利要求5所述的電弧離子鍍膜裝置，其特徵在於所述轉架系統包括一內轉架及一外轉架，該內轉架設置於靶材與外轉架之間；該外轉架設置於內轉架與反應室腔壁之間。
7.如權利要求6所述的電弧離子鍍膜裝置，其特徵在於當反應室的中心點、靶材及內轉架上的基材成一直線時，內轉架上的基材與靶材靶面的距離為200-400mm。
8.如權利要求6所述的電弧離子鍍膜裝置，其特徵在於當反應室的中心點、靶材及外轉架上的基材成一直線時，外轉架上的基材與靶材靶面的距離為350-600mm。
全文摘要
一種電弧離子鍍膜裝置，其包括一反應室及可拆卸地設置於反應室中央的多個靶材和多個分隔板；該多個分隔板為相交設置，每一分隔板包括一側面，該多個分隔板的所述側面鄰接設置；所述每一靶材位於相鄰的二分隔板所圍成的區域內。本發明電弧離子鍍膜裝置的設計節省了反應室的配置空間，可實現在大面積的基材上鍍膜，更能克服一般電弧離子鍍膜裝置的沉積速度低和頻繁更換靶材的缺陷。
文檔編號C23C14/32GK102994960SQ20111027105
公開日2013年3月27日 申請日期2011年9月14日 優先權日2011年9月14日
發明者張新倍, 黃登聰, 彭立全 申請人:鴻富錦精密工業(深圳)有限公司, 鴻海精密工業股份有限公司