醫用高壓靜電治療膜的製造方法
2023-12-08 01:46:36 1
專利名稱：醫用高壓靜電治療膜的製造方法
技術領域：
本發明屬於一種醫療器械產品——醫用高壓靜電治療膜的製造方法。
背景技術：
在現有技術領域，該種治療膜的製造方法為電暈注入法、電子束注入法和等離子注入法等，其中電子束注入法由於注入設備採用電子加速器，導致製造成本昂貴，操作維修複雜，所以並不常用；電暈注入法簡單易行，成本低廉，但其產品質量較差，注入的電荷密度低，不均勻，易走失，治療效果差；等離子注入法較上述方法有較大優勢，但仍存在激發、電離的條件不穩定，產品批次之間重複性較差，注入電荷的能量相對較低(表面電位一般在-200V～-500V)，對治療效果也有影響。
發明內容
本發明的目的是創建一種新的工藝方法製造醫用高壓靜電治療膜。使其激發電離條件更穩定，諧振腔中自由電子的動能大幅提高，從而使產品表面電荷能量大幅提高，使產品獲得更高的技術性能和治療效果。
本發明的技術方案是醫用治療膜基材為高分子膨化微孔膜，膜厚0.1mm～0.2mm，將其置於諧振腔內，採用充氬等離子濺射工藝，以高頻電磁場作為激發源，將其直接連接到電離諧振腔外的環狀電極上，諧振腔內抽真空至0.05mmHg時，充入少量的氬氣，以保證電離過程的穩定和注入電荷能量及密度的提高，使腔內真空保持在0.05mmHg～10mmHg，施加能量後，腔內以氬氣為主的混合氣體被電離，產生大量等離子體，其中氬原子中激發出的自由電子較氧、氮中激發出的電子具有更大的電子功能，同時由於諧振腔屬減壓系統，腔中的自由電子具有較大的平均自由程，因而大量高動能電子濺射到預先置入腔內的醫用高分子膨化微孔膜內，被膜內的離子阱俘獲而形成帶有高能量的表面負電荷的靜電治療膜，而腔內的正離子和中性粒子由於其質量遠大於電子，僅具極小功能故大部分不參與濺射過程，因而本工藝製造的醫用治療膜駐有均勻的高能表面負電荷(表面電位達-600V～-1000V)。採用充氬等離子濺射的製造方法使得電離過程更穩定，注入電荷能量大幅度提高，保證了產品的重複性和一致性。所採用的高頻電磁場源，功率為2KW～3KW，作用電壓6KV，激發頻率16MHz。所採用的等離子體諧振腔尺寸直徑為φ160mm，長為600mm，腔外環狀電極間距500mm，其表面電位值達-891.8V(500片平均)。
本發明的優點是採用充氬等離子濺射工藝，腔外環狀電極，諧振腔內真空至0.05mmHg時，充入少量氬氣，腔內以氬為主的混合氣體被電離，產生大量等離子體，被膜內的離子阱俘獲而形成帶有高能量的表面負電荷的靜電治療膜，其表面電位值為-600V～-1000V。用於組織扭挫傷、骨折骨裂、關節無菌性炎症和風溼腫瘤，具有很好治療效果。
圖1為本發明的工藝流程設備圖具體實施方式
下面結合圖1進一步說明本發明是如何實施的本發明設備由高頻電磁場源1、諧振腔2、氬氣瓶3和真空泵4組成；其製造方法是將醫用高分子微孔簿膜為基材置於諧振腔內，以帶有循環箱11的高頻電磁場源1，其功率為2KW～3KW，作用電壓6KV，激發頻率16MHz，通過其腔外環狀電極11，極間距500mm，連結到諧振腔腔體2上，諧振腔長600mm，直徑為φ160mm，以作施加激發能量之用；氬氣供氣瓶3通過儲氣罐31和充氣閥32連接諧振腔2，以提供激發氣體；機械真空泵4通過抽氣閥41和放氣閥42連接到諧振腔2上，以完成諧振腔的抽氣、放氣過程；排氣管43將抽氣過程中的餘氣排放到工作間以外。諧振腔2為本發明的核心部件，由石英玻璃或優質玻璃製成，濺射對象—醫用高分子膜基材21，經由腔體密封門22進出諧振腔，濺射時間為2分鐘。以上外部部件通過上述連接共同完成充氬等離子激發濺射過程。所得醫用高壓靜電治療膜，其表面電位值為-891.8V(500片平均)。
權利要求
1.一種醫用高壓靜電治療膜的製造方法，其特徵在於醫用治療膜基材為高分子膨化微孔膜，置於諧振腔內，採用充氬等離子濺射工藝，以帶有循環水箱的高頻電磁場作激發源，其功率為2KW～3KW，作用電壓為6KV，激發頻率為16MHz，將其直接連接到電離諧振腔外的環狀電極上，極間距為500mm，諧振腔長800mm，直徑為φ160mm，以作施加激發能量之用；以提供激發氣體的氬氣瓶，通過儲氣罐和充氬閥連接諧振腔；真空泵通過抽氣閥和放氣閥連接到諧振腔上，使諧振腔內真空保持在0.05mmHg～10mmHg。
2.根據權利要求1所述的一種醫用高壓靜電治療膜的製造方法，其特徵在於當諧振腔內真空度達到0.05mmHg時，充入少量氬氣，以保證電離過程的穩定和注入電荷能量及密度的提高。
3.根據權利要求1所述的一種醫用高壓靜電治療膜的製造方法，其特徵在於所述的醫用高分子治療膜基材，採用聚四氟乙烯膨化微孔膜，其膜厚為0.1mm～0.2mm。
全文摘要
一種醫用高壓靜電治療膜的製造方法，其特點是醫用治療膜基材為高分子膨化微孔膜，置於諧振腔內，採用充氬等離子濺射工藝，以帶有循環水箱的高頻電磁場作激發源，其功率為2KW～3KW，作用電壓為6KV，激發頻率為16MHz±3MHz，將其直接連接到電離諧振腔外的環狀電極上，極間距為500mm，諧振腔600mm，直徑為φ160mm，以提供激發氣體的氬氣瓶，通過儲氣罐和充氬閥連接諧振腔；真空泵通過抽氣閥和放氣閥連接到諧振腔上，當諧振腔內真空度達到0.05mmHg時，充入少量氬氣，以保證電離過程的穩定和注入電荷能量及密度的提高。所得到的醫用高壓靜電治療膜，兩面具有表面均勻的負電荷表面和高能表面電位，用於組織扭挫傷、骨折骨裂、關節無菌性炎症和風溼腫瘤的治療。
文檔編號C23C14/46GK1493372SQ03150740
公開日2004年5月5日 申請日期2003年9月2日 優先權日2003年9月2日
發明者藍肇廣 申請人:上海海蒂電子科技有限公司