測量裝置的製作方法
2023-12-06 13:22:06 1
專利名稱:測量裝置的製作方法
技術領域:
本發明涉及一種根據權利要求1的前序部分所述的測量裝置,尤其涉 及一種用於測量樣品池中運動的樣品顆粒的測量裝置,例如用於測量樣品
顆粒的速度,以及由此導出的樣品顆粒的電泳遷移性、動電位(c電位)
和布朗值的測量,該測量裝置具有安^4樣品池兩端的用於填充和排空樣 品池的填充裝置和排空裝置,以及用於輻射和觀察顆粒的輻射裝置和觀察 裝置。
背景技術:
下面描述這種測量裝置的一個應用實例,其中需要強調的是,本發 明並不僅僅適用於這個應用實例。
膠質、乳劑或固體懸浮液和混合劑必須經過儘可能長的時間保持穩 定和均勻。因此,要求越高,配方就越複雜。 一種使分散材料穩定的可 能的方法是,優化同種類粒子間的靜電推斥,以避免這些顆粒的凝結。 另一個在本文中所感興趣的一組問題是,研究有針對性的不穩定以及分 散材料的分離,使得從離解作用中重新獲得水用於循環。相當大比例的 用於分散材料分解的措施涉及到粒子荷電,只不過在這種情況下,使電 荷儘可能為零。為了能夠操控它們,在所有情況下都必須知道電荷比。 c電位反映了這個電荷。利用傳統的方法一一微電泳,能夠對其進行測量。
在微電泳方法下,藉助於雷射和顯微鏡來輻射和觀察存在於樣品池 形式的電泳槽中的懸浮或乳劑帶電粒子。利用通過顯微鏡拍攝的圖片能 夠推導出顆粒的速度。電場中顆粒的速度即是電荷量度,其電位能夠作 為G電位來描述和測量。
這類測量的根本問題在於,測量設備及其組件(雷射-顯微鏡-樣品 池)間相互準確的定位。此外,能夠容易地填充和清理樣品池也是必要的。
發明內容
本發明的目的是,提出一種在開頭所述的測量裝置,其應該儘可能 簡單地填充和容易地清理,與此同時保持非常高的測量精度。
該目的通過權利要求1所述的測量裝置得以實現。
尤其是該目的是通過在開頭所述的測量裝置得以實現,其中藉助於 樣品池支座安裝樣品池的體部。此時填充裝置和排空裝置僅僅固定在樣 品池上,使得僅僅通過樣品池支座來確定或限定樣品池相對於周圍環境 的位置。
因此本發明的要點是,大多數大而重的用於樣品池填充和排空的裝 置不影響樣品池本身的定位。在某種程度上可以說,樣品池也可以用作 支撐元件(與其實際目的相反)。
填充和/或排空裝置最好可拆卸地固定在樣品池上,在此利用緊固裝 置。因此可以容易地清理樣品池。如果緊固裝置包括快速鎖合件,尤其是 卡口式接頭,那麼樣品池的清理就變得格夕卜簡單。而且無需藉助任何工具 就可以進行。
如果設有電極(如上述列舉的實例中),那麼其能夠安裝於不同的 地方。最好在填充和/或排空裝置上安裝有與樣品接觸的電極,使得樣品池 能夠構成為沒有任何在清理時有阻礙的部件。
在一個優選的結構形式中,樣品池支座包括兩個可以吸收力的局部 支座,尤其是一個垂直局部支座和一個水平局部支座。這兩個局部支座呈 一定角度一一特別是呈卯度角一一沿著貫穿樣品池兩端的縱向軸線伸展。 局部支座構成為點支座,這允許特別精確的校準。藉助於支撐M或支樞 點能夠特別筒單和精確地製作點支座。
這兩個局部支座中的一個局部支座包括三個用於限定一個平面的支撐 點並且支撐著樣品池的一個表面。另一個局部支座包括兩個用於限定一條 直線的支撐點,其中該直線不垂直於縱向軸線延伸,而最好平行於縱向軸 線延伸。利用這兩個支撐點可以以確定的方式支撐與上面提到的樣品池的
第一個表面相鄰接的表面。這樣產生的5點支座提供了垂直於樣品池縱向 軸線的靜態確定支座。按這種方式,相對於樣品池周圍環境,尤其是相對於雷射源和觀察顯微鏡,可以提供一個無錯誤的並且可重複確定的樣品池 支座。
輻射裝置(雷射)以及觀察裝置(顯微鏡)直接或間接地與用於限定 它們相對彼此位置的樣品池支座一起連接。因此,在拆除並再安裝上樣品 池後,無需進行進一步的事後的校準,就能夠總是在該裝置上重複進行 測量。
接下來藉助於附圖詳細地闡述本發明的實施例。 圖1示出具有支座的樣品池的分解示意圖,
圖2示出圖1中沿平面II-II的截面圖,
圖3示出具有填充和排空裝置的樣品池的縱向截面分解圖,
圖4示出圖3中沿直線IV-IV的視圖,
圖5示出圖3中沿直線V-V的截面圖,
圖6示出圖3中沿直線VI-VI的截面圖,以及
圖7示出根據圖3在組裝狀態下的布置截面圖。
具體實施例方式
在下面的描述中,同樣的參考標號用於同樣的並且具有相同功能的 部件。
圖1為樣品池10的示意圖。通過其上部頂面,輻射裝置1向樣品 池內部發射雷射束。與此同時,觀察裝置2通過與樣品池頂面相垂直的 正面對樣品池內部進行觀察。如此調焦,使得焦距在樣品池內部預先規 定的一點交匯。
樣品池支座40用於支撐樣品池10,並且具有固定在底板46上的在 此示出為角狀的支架47、 48。圖1中前面的支架48的垂直面上具有兩 個支撐滾珠43、 43,,在其水平面上具有一個支撐滾珠44。另一個,即圖1中後面的支架47的垂直面上具有一個支撐滾珠43",在其水平面 上具有一個支撐滾珠44,。在圖1中也示出支撐滾珠43、 44在樣品池 IO上的布置(用虛線表明)。藉助於支撐滾珠43、 43,、 43"構成了一個 水平支座42,其在水平方向上逆著彈簧45、 45,的壓力支撐樣品池10, 彈簧45、 45,將樣品池10在水平方向上壓在支撐滾珠43、 43,、 43"上。
形成垂直局部支座41的支撐滾珠44、 44,承受重量,即垂直方向上 的力。因此可以明確地限定樣品池10直到其在縱向軸線X上的位置。 在另 一方面,在X軸上的位置對於輻射裝置1和觀察裝置2來說不起任 何作用,從而不必確保其確定的位置。圖2中再次描述了在組裝條件下 各組件的相互關係。此外,樣品池最好藉助於彈簧被壓緊在垂直局部支 座41上。
^L據圖3至圖6,樣品池IO包括體部11,它以本身已知的方式由平 行平面板構成。法蘭盤12和13緊固地安裝在樣品池10的兩端,對於 玻璃體部來說,最好採用燒結的方法。在法蘭盤12、 13或傳導阻滯塊 25、 35上設有用於密封件14、 15的溝槽,密封件14、 15能夠構成為O 型密封圏。在法蘭盤12、 13中有孔16、 17,使得樣品池10兩面都是敞 開的。
填充裝置20放置在圖3中所示的視圖的右側,並且排空裝置30放 置在圖3中所示的視圖的左側。對此法蘭盤12、 13相對於它們的中心 軸非對稱,這尤其可以從圖5和圖6中得知。填充裝置20以及排空裝 置30具有緊固環21或31,其開孔相應於法蘭盤12、 13的外周形成。 因此能夠如同利用卡口式接頭一樣將填充裝置和排空裝置30安置在法 蘭盤12、 13上,並且能夠相對樣品池10扭轉,使得在密封件14、 15 壓緊的情況下填充裝置20和排空裝置30牢固地連接於法蘭盤12、 13 並因此連接於樣品池10。
填充裝置20和排空裝置30包括第一傳導阻滯塊25和第二傳導阻 滯塊35,在其內部分別形成空腔27和37。利用蓋23和33從外面將空 腔27、 37封閉,蓋23和33通過密封件24或34藉助於連接裝置(這 裡未示出),例如螺釘,固定在傳導阻滯塊25、 35上。
電極22或32固定在蓋23、 33上,使得它們在組裝條件下突入到
7空腔27、 37中,其中電極22、 32通過向外延伸的導線與用於產生電泳 作用場的電源相連接。
可由閥28阻斷的輸入管26通入到空腔27中,排出管36通入到空 腔37中。如圖7所示,在組裝條件下,通過這些管可以將樣品液體填 充到所合成的空腔中。
為了清理樣品池,可以將總裝置(圖7所示)從樣品池支座40上拆下。 然後,相對樣品池10扭轉來拆下填充裝置20和排空裝置30。此時就能夠 對樣品池10進行清理。以相反的方式就可以簡單地重新組裝。
參考標記清單
1輻射裝置
2觀察裝置
10樣品池
11體部
12法蘭盤
13法蘭盤
14密封件
15密封件
16孑匕
17孑匕
20填充裝置
21緊固環
22電極
23蓋
24密封件
25第一傳導阻滯塊
26輸入管
27空腔28閥
30排空裝置
31緊固環
32電極
33蓋
34密封件
35第二傳導阻滯塊
36排出管
37空腔
40樣品池支座
41垂直局部支座
42水平局部支座
43、43,、43" 支撐滾珠
44、44,支撐滾珠
45、45,壓縮彈簧
46底板
47支架
48支架
權利要求
1. 一種用於測量樣品池(10)中運動的樣品顆粒的測量裝置,例如用於測量顆粒的ζ電位或布朗值,所述測量裝置具有安裝在樣品池兩端的用於填充和排空樣品池(10)的填充裝置(20)和排空裝置(30),以及用於輻射和觀察顆粒的輻射裝置(1)和觀察裝置(2),其特徵在於,藉助於樣品池支座(40)安裝樣品池(10)的體部(11),並且填充裝置(20)和排空裝置(30)僅僅固定在樣品池上,使得僅僅通過樣品池支座(40)來確定/限定樣品池(10)相對於其周圍環境的位置。
2.如權利要求1所述的測量裝置,其特徵在於,填充裝置(20)和 /或排空裝置(30)藉助於緊固裝置(21、 31)可拆卸地固定在樣品池 (10)上。
3.如前述權利要求中任一項、尤其是權利要求2所述的測量裝置, 其特徵在於,緊固裝置(21、 31)包括快速鎖合件,尤其是卡口式接頭。
4.如前述權利要求中任一項所述的測量裝置,其特徵在於,在填 充裝置(20)或排空裝置(30)上安裝有與樣品接觸的電極(22、 32)。
5,如前述權利要求中任一項所述的測量裝置,其特徵在於,樣品 池支座(40)包括兩個吸收力的局部支座(41、 42),尤其是一個垂直 局部支座(41)和一個水平局部支座(42),這兩個局部支座呈一定角 度、尤其是呈90度角沿著貫穿樣品池(10)兩端的縱向軸線(X)伸展。
6.如前述權利要求中任一項所述的測量裝置,其特徵在於,局部 支座(41、 42)構成為點支座。
7.如前述權利要求中任一項、尤其是權利要求6所述的測量裝置, 其特徵在於,點支座包括支撐滾珠(43、 44)或支樞點。
8.如前述權利要求中任一項、尤其是權利要求5或6所述的測量裝 置,其特徵在於, 一個局部支座(42)包括三個用於限定一個平面的支 撐點,另一個局部支座(41)包括兩個用於限定一條直線的支撐點,其 中所述直線不垂直於縱向軸線(X)延伸,而最好平行於縱向軸線(X) 延伸。
9.如前述權利要求中任一項所述的測量裝置,其特徵在於,輻射 裝置(1)以及觀察裝置(2)直接或間接地與用於限定它們相對彼此位 置的樣品池支座(40)互相連接。
全文摘要
本發明涉及一種用於測量樣品池中運動的樣品顆粒的測量裝置,例如用於測量顆粒的ζ電位或布朗值。所述測量裝置具有安裝在樣品池兩端的用於填充和排空樣品池的填充裝置和排空裝置以及用於輻射和觀察顆粒的輻射裝置和觀察裝置。為了能夠相對輻射裝置和觀察裝置總是正確地或以確定的方式定位樣品池,藉助於樣品池支座安裝樣品池的體部。並且填充和排空裝置僅僅固定在樣品池上,使得僅僅通過樣品池支座來確定和限定樣品池相對於周圍環境的位置。
文檔編號G01N27/453GK101454661SQ200780019751
公開日2009年6月10日 申請日期2007年5月21日 優先權日2006年5月31日
發明者漢諾·瓦赫爾尼希, 阿希姆·赫格 申請人:漢諾·瓦赫爾尼希