用於被覆基體(特別是玻璃基體)的二氟化二丁基錫粉末的製備的製作方法

2023-05-01 13:22:56 1

專利名稱:用於被覆基體(特別是玻璃基體)的二氟化二丁基錫粉末的製備的製作方法
本發明是有關在高溫被覆於基體特別是玻璃基體上，經熱分解之後可獲得氧化錫塗膜的二丁錫化二氟(D、B、T、F)粉末的製備方法。
由於這種塗膜往往能夠補強，著色玻璃製品的表面，進而還能給玻璃於特殊的光學的以及，或者是電的特性(特別是低放射率)，而被利用於玻璃製品方面。
特別是使用D、B、T、F粉末來獲得低放射率塗膜的例子在歐洲專利No 0039256已有記載。
D、B、T、F歷來是在酒精水溶液中由二氯二丁錫(D、B、T、cl、)及氟化鉀根據下述反應式製作的。
以上述方法獲得的D、B、T、F、含有雜質鉀。進而由氟化鈉以及另外的鹼或者是鹼土類的氟化物來合成D、B、T、F也是從所周知，不過如此獲得的D、B、T、F就含有雜質鈉，一般的則含有鹼或者鹼土類。
上述的鹼土類或者是鹼(例如鈉、鉀)是存在於被熱分解的塗膜裡捉捕游離電荷。因此該塗膜的光學的電的特徵就遜色於不含有這種雜質的塗膜的特徵。
進而在法國申請專利的FR 8304124及8304125裡所記載的類型有D、B、T、F粉末是使用噴塗在被覆蓋對象的基體如果粉末在噴嘴上流的分配，配量裝置內及在噴嘴內流暢以及不具有凝聚傾向的話就能獲得均勻的塗膜。然而存在於粉末中的鹼土類或者是鹼雜質(特別是鈉或者是鉀)會把粉末變為吸溫性的，因而就破壞了粉末的流動性，以致不能獲得均勻的塗膜。
多數的場合，通過多種補助操作中的一種方法(如精製操作)雖然能夠除去上述的雜質，不過這則要花費時間及經費。
本發明的目的旨在於提供不含有上述鹼土類或者鹼雜質(特別是鈉及鉀)而能夠生成更均質、更均勻而且不含降低機能之雜質的D、B、T、F化合物。
本發明所進一步的目的則是提供由具有能夠在分送給基體上的裝置內方便而有規則搬送的形狀及規格的粒子所構成的D、B、T、F粉末。
為此，根據本發明所提供的方法是由不含有鹼土類及鹼(如鈉、鉀)的化合物，特別是滷化錫〔如二氯二丁錫(C4H9)2SnCl2〕以及氟化銨特別是氟氫銨(NH4F9HF)合成D、B、T、F化合物。
進而根據本發明所提出的方法是通過在合成中以對D、B、T、F重量0.5～5%(較好是重量的1%)的比例往混合反應物內添加平均程度15nm的粉末來調整D、B、T、F粉末的形狀及粒度。
上述粉末最好是採用在市場上銷售的名為Aerosil R972的二氟化矽微細粉末。
為了調整D、B、T、F粉末的形狀及粒度，根據本發明所提出的方法是進一步通過迅速冷卻來進行再結晶。
這種再結晶的操作最好是在酒精(特別是甲醇)中進行，冷卻定為45～90℃。
進而再將此得的結晶化合物用氯不溶劑(如二氯甲烷)或者是氟氯系溶劑(如三氯三氟代乙烷)洗淨則更好。
以下都D·B·T·F·化合物粉末的合成例進行詳細地說明。
在第1槽內把D·B·T·cl·溶解於酒精(最好是甲醇)。在第2槽內則把氟氫銨(NH4F9HF)溶解於水中，然後把一個槽內的內容物倒入另一個槽內，使兩種溶液接觸使之生成D·B·T·F·沉澱物，同時還要進行攪拌以促進二種溶液的接觸。然後，回收生成之後的沉澱物，再乾燥，水洗，用如丙酮之類的溶劑洗淨之後去水並進行乾燥。
為了進行精製就要將此獲得的D·B·T·F·溶解於適合的溶劑如酒精(特別是甲醇)裡，然後使D·B·T·F·再結晶。上述操作可以反覆進行。
在進行回流加熱的上述之精製操作中，或者是在最後的精製操作中(多次進行操作的情形)最好是一邊攪拌一邊加入平均粒徑為15nm(一般為7～20nm)的，也就是D·B·T·F·粉末所要求的粒徑的1/1000的微細粉末。
作為微粒粉末是二氧化矽粉末，最好是使用市場上銷售的名叫Aerosil R 972的二氧化矽。
要使D·B·T·F成為結晶，至少要進行45℃(一般是45～90℃)的迅速冷卻，這種急速冷卻最好是在低溫的溶劑桶裡通過一邊注入D·B·T·F·基溶液一邊進行冷卻而達成的。
例如把D·B·T·F·溶解在69℃的回流加熱的甲醇裡注入這種高溫的D·B·T·F·的甲醇溶液，最好是把高溫的D·B·T·F·溶液注入於大約等於該溶液量的1/2量的冷酒精中，這樣就能在注入終了時也能夠進行充分的冷卻。注入時最好是對上述的冷溶劑進行連續的冷卻，這樣即使是對冷溶劑的需要量進行控制也能達成快速的冷卻。在上述的比例裡，最初是-20℃的冷溶劑，在高溫的D·B·T·F·溶液注入終了時就變為+25℃了，所以冷卻大約是45～90℃，通過這樣快速的冷卻，D·B·T·F·就以規則性的微粒被析出，這時粒徑15nm的粉末(特別是Aerosil)就起到作為結晶引發劑的作用。
然後就對這種析出物進行乾燥、洗淨，乾燥及分級。在這個階段裡，最好採用氯系溶劑(例如二氯甲烷)以及氟氯系溶劑(例如三氯三氟代乙烷)或者是這種溶劑的溶液，根據不同的場合進行多次的洗淨就能夠除去附著在生成結晶的酒精(本例是甲醇)和損壞流動性的殘存的二氯二丁錫並能促進乾燥。
這種洗淨最好是採用特殊的技法也就是所謂的「清沏化」的方法來進行。這種洗淨根據不同的場合也可以在別的階段進行，但是效率就降低了。這因而通過上述方法就能獲得平均粒徑15～25μ的D·B·T·F·的球形粒子。
上述粒子不凝聚且分布良好，因而就具有形成流動性良好的粉末的性質。
這種良好的流動性是基於粒子的形狀及方法，由於不含有鉀、鈉，一般的是鹼或者是鹼土類等雜質，所以粒子不會感到有水份和在合成中被導入，起著結晶引發劑作用的Aerosil微細粉末含包圍著粒子可以幫助相互的滑動。
基於上述的方法，作為實施例是從156Kg的D·B·T·cl 256Kg的甲醇，44Kg氟氫銨以及240Kg的水製備成125Kg的D·B·T·F·(乾燥的基礎物質)。
然後把這125Kg溶解於200Kg甲醇裡，再加上1.25Kg的Aerosil，再把如此獲得的溶液以大約5分鐘時間注入1000Kg的-20℃的甲醇裡，然後再進行乾燥、洗淨，再乾燥，按60μ分級之後就能獲得100Kg可以使用的D·B·T·F。
因而這種D·B·T·F·粉末就可以用來在玻璃基體上(特別是玻璃基體)形成被覆，進而也能塗抹於別種基體(例如金屬、陶瓷等)。
如上所述本發明之D·B·T·F·由於不含有雜質鹼或者是鹼土類，因而其所構成的塗膜具有優越的光學的、電的特性。
進而由於本發明之D·B·T·F·粉末具有良好流動性的粒子形狀，在被噴射於基體上時能夠暢流於噴嘴內並不具有凝聚的傾向，所以能夠獲得均勻的塗膜。
勘誤表 CPCH856592
勘誤表
權利要求
1.二丁錫化二氟(D·B。T。F。)之固體化合物的製備法所具有的特徵是，本質上就是讓不含有鹼土類及鹼(特別是鉀及鈉)的化合物，也就是滷化錫(特別是二氯二丁錫)以及氯化氨(特別是氟氫氨)反應而形成的方法。
2.專利要求範圍第1項所記載的方法之特徵是，讓滷化錫的酒精溶液和氟化氨的水溶液相接觸，然後回收這二種溶液接觸時生成的析出物、水洗後在可以獲水的溶劑(如丙酮)中進行洗淨。
3.專利要求範圍第1項以及第2項所記載的方法之特徵是，讓滷化錫和氟化氨的反應生成物在酒精(特別是甲醇)中至少要進行一次再結晶來進行精製。
4.專利要求範圍第3項所記載的方法之特徵是，在進行再結晶操作中或者多項操作時，於最終的操作中添加粒徑為7～20nm(最好是15nm)的微細粉末。
5.專利要求範圍第4項所記載的方法之特徵是，粉末是Aerosil R 972類型的二氧化矽。
6.專利要求範圍第3至第5項之一所記載的方法之特徵是，通過把合成之後的D·B·T·F·的酒精溶液(特別是甲醇溶液)快速地冷卻來進行結晶。
7.專利要求範圍第6項所記載的方法之特徵是，冷卻至少是45℃。
8.專利要求範圍第6項及第7項所記載的方法之特徵是，通過把D·B·T·F的高溫酒精溶液迅速地注入，大約為該容液量 1/2 量的冷酒精(特別是甲醇)中來進行快速冷卻。
9.專利要求範圍第8項記載的方法之特徵是，在注入中冷卻高溫溶液所注入的酒精。
10.專利要求範圍第1至第9項之一所記載的方法之特徵是，合成物是用氯系溶劑(二氯甲烷)以及氟、氯系溶劑(例如三氯三氟代乙烷)或者是這種溶劑的溶液進行洗淨。
11.專利要求範圍第10項所記載的方法之特徵是;在採用再結晶的方法來進行精製後作上述的洗淨。
專利摘要
本發明是關於二氟化二丁基錫(D、B、T、F)粉末的製備方法。所具有的特徵是，讓不含有鹼土類及鹼(特別是鉀和鈉)的化合物，特別是二氯二丁錫及氟氫氨反應而形成的方法。根據本發明的方法可製成高質量的氧化錫的熱分解覆蓋層，並能獲得不會感到有水分且流動性良好的粉末。
文檔編號C07F7/00GK85106946SQ85106946
公開日1987年4月22日 申請日期1985年9月15日
發明者瓊-皮埃爾·克赫夫, 阿姆爾·奎羅米斯 申請人:日本板硝子株式會社導出引文BiBTeX, EndNote, RefMan