顯影劑保持元件、顯影設備、處理盒、成像裝置、製造方法

2023-04-27 12:17:21

專利名稱：：顯影劑保持元件、顯影設備、處理盒、成像裝置、製造方法
技術領域：
：本發明涉及一種顯影劑保持元件、顯影設備、處理盒和成^象裝置，它們用於例如複印機、傳真機、印表機等之中。更準確地，本發明涉及一種顯影劑保持元件和顯影i殳置，其通過^f呆持在顯影劑保持元件中的顯影劑傳送到顯影區域上，然後通過顯影在靜電潛像保持元件上的靜電潛像來形成調色劑圖像，其中顯影區^A靜電潛像保持元件和顯影劑保持元件相互面對並在其中形成間隙之處，並且還涉及包括該顯影設備的處理盒和成像裝置。而且，本發明涉及一種製造構成顯影劑保持元件外表面的中空體的方法。
背景技術：
：通過使用包括調色劑和磁性載體的一種所謂的兩組分顯影劑(以後筒稱為顯影劑)來形成圖像的多種顯影設備，用於成像裝置如複印機、傳真機和列印才幾中(見曰本專利申請未審公開的公開號No.2000-347506)。這種顯影設備包括用作顯影劑保持元件的顯影輥，通過將顯影劑傳送到與作為靜電潛像保持元件的感光鼓面對的顯影區域，並且然後通過用顯影劑，對形成在感光鼓上的靜電^^ii行顯影，來形成調色劑圖像。該顯影輥包括顯影套筒和裝在該顯影套筒中的》茲輥。顯影套筒由非^茲性材料以圓筒形狀來形成。》茲輥形成》茲場，為了使顯影劑在顯影套筒的表面上形成^茲刷。當顯影劑在顯影輥上形成/茲刷時，^茲性載體在顯影套筒上形成鏈條，沿著磁輥產生的磁力線，並且調色劑顆粒粘附到磁性載體鏈條上。作為改進這種類型的顯影輥的精確度和耐久性的方法，日本專利申請未審公開的公告號No.Hei8-160736提出了一種顯影套筒的結構，該顯影套筒包括大量^的^￡,每個^都有多角形的形狀，並JL^^的^^^卜的部分內包括細小的凸凹，並且提出了一種通#顯影套筒上形成導電的樹脂;11莫、金屬處理層和類似物來獲得凹凸的方法。但是在JP-ANo.Hei8-160736中描述的結構具有一些問題，如當顯影軟遽續使用時，通過包^^在顯影劑中的調色劑粘附到細小的凸凹區域而導致的顯影性能的降低的缺陷，和對於這種結構的顯影輥的製造過程複雜的缺陷。
發明內容本發明是在考慮上述背景而進行的，並且其目的是提供這樣一種顯影劑保持元件，其能夠在長時期形成高質量的圖像，不會發生由於顯影性能下降導致的密度不均勻，並且提供一種製造構成顯影劑保持元件的外表面的中空體的方法。而且，本發明的目的是提供一種包括這種顯影劑保持元件的顯影設備、處理盒和成像裝置。本發明的第一方面涉及一種包括磁場產生設備的顯影劑保持元件、和在其內部包括磁場產生設備的中空體、以A^f茲場產生設備的磁力的作用下，將顯影劑吸引到其外表面。中空體的外表面隨才;uM^是供了大量凹陷。而且，當通過^J]外表面的圓周方向輪廓曲線才y^亍頻率分析計算出頻譜時，在不超過i毫米的波長範圍內，頻"i普的Jf^直強度不超過12。優選地，在不超過l毫米的波長範圍內，頻譜的峰值強度不超過10。有利地，通過線形顆粒與中空體的夕卜表面的隨才;u並撞，形成大量凹陷。本發明的第二方面涉及一種包括根據本發明的顯影劑保持元件的顯影設備。優艦，顯影劑包括結晶粒度在20Mm到50pm(含)範圍內的磁l"生顆粒。有利地，磁f生顆粒具有包括樹脂劍莫的結構，該樹脂;M;t^著由磁性材料製成的核心元件。另外，樹脂覆膜包括充電控制劑和通過由三聚氰胺和諸如丙烯的熱塑性樹脂的交i^jy尋樹脂成分。本發明的第三方面涉及包括依據本發明的顯影設備的處理盒。本發明的第四方面涉及一種包括依據本發明的處理盒的成像裝置。本發明的第五方面涉及一種製造中空體的方法，用於製造在其外表面隨才;u也提供了大量凹陷的中空體。該方法包括下列步驟在中空體的夕卜表面提供大量凹陷；在旋轉中空體的同時獲得外表面在圓周方向的輪廓曲線；依據所得到的輪廓曲線，進行頻率分析；通過比較頻率分析結果和預定判斷標準來判斷中空體的質量。圖1另_表示當乂人前面看時，依據本發明的一個實施例的成像裝置的結構的示意圖；圖2是圖1所示的成像裝置的顯影設備的截面圖；圖3是圖2中沿m-m線的截面圖；圖4是圖1中所示的成像裝置的顯影套筒的透視圖；圖5是用於圖2所示的顯影設備的顯影劑中的磁性載體的截面圖；圖6是表示圖4所示的顯影套筒的磁化夕卜表面的示意圖；圖7是表示圖6所示的顯影套筒的夕卜表面的簡要示意圖；圖8是表示在圖4所示的顯影套筒外表面上#^抖站造處理的表面處理裝置的簡要結構透視圖；圖9是沿圖8中n-n線的截面圖；圖10^]於圖8中的表面處理裝置的磁性研磨劑顆粒的透視圖；圖11是沿圖10中XI-XI線的截面圖；圖12是表示圖8中所示的表面處理裝置的顯影套筒的示意圖，並且每個磁性研磨顆粒繞著顯影套筒旋轉並JJ克其自身的軸線旋轉；圖13是表示其中圖12中所示的磁1"生研磨顆^^並撞顯影套筒外表面的狀態的示意圖；圖14是表示顯影套筒在圓周方向的輪廓曲線的例子的示意圖；圖15另_表示通過在圖14中所示的輪廓曲線上進行快速傅利葉變化(FFT)而獲得的波長頻i普示例的示意圖；圖16，釋FFT頻譜的峰值強度和顯影套筒的外表面的拾取量中的變化率之間的每個關係的示意圖，通過比較分別通過圖8中的表面處理裝置進行4站狄理的粗糙的顯影套筒和通過噴沙和噴^Mi行^^造處理的粗糙的顯影套筒。具體實施方式下面，將通過參考圖1到16來描ii^發明的一個實施例。圖1是表示依據本發明實施例的成像裝置從前面看時的結構示意圖。圖2是圖1所示的成4象裝置的^l據本發明實施例的顯影i殳備的截面圖。圖3是圖2中沿ffl-m線的截面圖。圖4是圖3中所示的成像裝置的作為顯影支持元件的顯影套筒的透視圖。圖5是用於圖2所示的顯影設備的顯影劑中的磁性載體的截面圖。圖6是表示磁化的圖4所示的顯影套筒的外表面的示意圖。圖7是表示圖6所示的顯影套筒的外表面的簡要示意圖。圖8是表示在圖4所示的顯影套筒上^^亍*04造處理的表面處理裝置的簡要結構透視圖。圖9是沿圖8中n-n線的截面圖。圖io是用於圖8中的表面處理裝置的磁1"生研磨劑顆粒的透視圖。圖11是沿圖io中xi-xi線的截面圖。圖12是表示圖8中所示的表面處理裝置的顯影套筒的示意圖，並且每個磁性研磨顆粒繞著顯影套筒旋轉並且繞其自身的軸線旋轉。圖13是表示其中圖12中所示的磁性研磨顆粒碰撞顯影套筒外表面的狀態的示意圖。圖14是表示顯影套筒在圓周方向的輪廓曲線的例子的示意圖。圖15是表示通it^圖14中所示的輪廓曲線上進行快速傅利葉變化(FFT)而獲得的波長頻譜示例的示意圖。圖16萌釋FFT頻譜的峰值強度和顯影套筒的夕卜表面的拾取量中的變化率之間的相互關係的圖，通過比較分別通過圖8中的表面處理裝置進行4封造處理的粗糙的顯影套筒和通過噴沙和噴^Mi行4封造處理的粗糙的顯影套筒。成像裝置101分別形成黃(Y)、品紅(M)、青(C)、黑(K)顏色的圖像，即，彩色圖像形M作為轉印材料的記彰氏張107(圖1中示出)上。注意到下面^黃、品紅、青、黑顏色單元分別用徵JiY、M、C和K的附圖標記來描述。如圖1所示，成像裝置101包括至少一個裝置主體102、彭氏單元103、對齊專Fdt110、轉印單元104、定影單元105、多個雷射寫入單元122Y、1WM、122C和122K以及多個處理盒106Y、106M、106C和106K。該裝置主體102形成為類似於箱體的形狀，例如，並且安^^W反或類似物上，在裝置主體102中，封裝入iii氏單元103、對齊專敘於IIO、轉印單元104、定影單元105、多個^Ut寫入單元122Y、U2M、IMC和1MK以及多個處理盒106Y、106M、106C和106K。多個必氏單元103提供在裝置主體部分102的下部。必氏單元103容納堆疊的記彰氏張107,並且包4自氏盒123和iti氏輥124，彩氏盒可以自由地/A^置主體102中放入和抽出。靡氏輥124壓在必氏盒123中的記影氏107的最上頁上。對於每個相對應的處理盒106Y、106M、106C和106K,膨氏輥124將記錄紙張107的最上頁進給到轉印單元104的將在後面進行描述的傳輸帶129和將在後面進行描述的顯影設備113的感光鼓108之間的空間。對齊輥對110提供在記影氏107從iii氏單元103傳輸到轉印單元104的傳輸路徑中，並且包括一對輥110a和110b，對齊輥對110將記彰氏107夾在一對輥110a和110b之間，並iL^允許調色劑圖像完全相互覆蓋的時刻將夾著的記影氏107進給到轉印單元104和處理盒106Y、106M、106C和106K之間的空間。轉印單元104提供在iii氏單元103之上。轉印單元104包括驅動輥127、從動輥128、傳輸帶129和轉印輥130Y、130M、130C和130K。驅動輥127設置在記彰氏107的傳送方向的下遊側，並JLit過作為驅動源的馬達驅動來旋轉。從動輥128通it^:置主體102可旋轉地支持，並且i殳置在記影氏107的傳輸方向的上遊側。傳輸帶129形成為沒有末端的環形，並且懸掛在上面描述的驅動輥127和從動輥128上。當驅動輥127被驅動來旋轉時，傳輸帶129繞著驅動輥127和從動輥128在圖1中的逆時針方向旋轉(無縫運轉)。傳輸帶129和在傳輸帶129上傳輸的記錄紙107^皮夾在轉印輥130Y、130M、130C及130K和*處理盒106Y、106M、106C和106K的感光鼓108之間。在轉印單元104中，通過將記彰氏107壓在感光鼓108的外表面之上，轉印輥130Y、130M、BOC和130K使處理盒106Y、106M、106C和106K的感光鼓108上的調色劑圖像轉印到從膨氏單元103進給的記錄紙107。轉印單元104將已經在其上轉印了調色劑圖像的記錄紙107傳輸到定影單元105。定影單元105在記影氏107的傳輸方向上提供在轉印單元104的下遊，並且包括一對輥105a和105b，記錄紙107被夾持它們之間。通過加壓和力。熱該對輥105a和105b之間的記影氏107,定影單元105將已經從感光鼓108轉印到記錄紙107上的調色劑圖像定影^^人轉印單元104傳輸來的記彰氏107上。雷射寫入單元122Y、122M、122C和122K的^r—個都連接到裝置主體102的上表面。雷射寫入單元122Y、122M、122C和122K分別相應於處理盒106Y、106M、106C和106K。；狄寫入單元122Y、122M、122C和122K通過用^t^照射由充電輥109均勻充電的處理盒106Y、106M、106C和106K的感光鼓108的外表面，分別形成靜電潛像，充電4剮誇在後面進行描述。處理盒106Y、106M、106C和106K提供在轉印單元104和^H敫光寫入單元122Y、122M、122C和122K之間。處理盒106Y、106M、106C和106K可拆離地連接到裝置主體102上，處理盒106Y、106M、106C和106K沿著i己錄紙107的傳輸方向設置成線。如圖2所示，處理盒106Y、106M、106C和106K的每個都包括盒體111、作為充電設備的充電輥109、作為靜電潛像保持元件的感光鼓108、作為清潔設備的清潔刮板112以及顯影設備113。相應地，成像裝置101至少包括充電輥109、感光鼓108、清潔刮板112和顯影設備113。盒體111可分離地連接到裝置主體102上，並且其中容納充電輥109、感光鼓108、清潔刮板112和顯影設備113。充電輥109均勻充電感ifeJ支108的夕卜表面。感光鼓108設置為接g影設備113的顯影輥115,它們之間有一間隙，顯影4剮尋在後面進行描述。感光鼓108形成為能夠繞中心軸線旋轉的柱狀或圓筒形狀。靜電^^ititi敫光寫入單元122Y、122M、122C和122K中相應的一個形成在感光鼓108的夕卜表面上。感光鼓108通過將調色劑吸引到潛像上，將形成並保持在其外表面上的靜電潛像顯影，並且然後將如此得到的調色劑圖像轉印到位於感光鼓108和傳輸帶129之間的記彰氏107上。調色劑圖傳遊印到記彰氏107上清潔刮板112將感ifei支108夕卜表面上殘留的轉印後殘^i周色劑清除。如圖2所示，顯影設備113至少包括顯影劑供應單元114、殼體125、作為顯影劑保持元件的顯影輥115和作為控制元件的控制刮板116。顯影劑^yi單元114包括容器117和作為攪拌元件的一對攪拌螺杆118。容器117形成為盒形的形狀，具有與感光嚴108!^目同的長度。而且，沿容器117長度方向延伸的分隔壁119提供在容器117內。分隔壁119將容器117的內部空間劃分為第一空間120和第二空間121。另夕卜，第一空間120和第二空間121在其末端相互連通。容器117在第一空間120和第二空間121"嫁顯影劑。顯影劑包括調色劑和磁f生載體或磁性顆粒135(^f爾為磁粉，並且其截面在圖5中示出)。調色劑被按需要"^應到第一空間120的第一端部，也就是與第二空間Ul相比更遠離顯影輥115的位置。調色劑包括每個都是球形的精細顆粒，並iBt過乳劑聚合或懸浮液聚合方法製造。注意調色劑可以通過將通過'"曰^^a布不同類型的顏4+或染衝+獲得的合劾於脂塊粉碎^l青細碎塊來得到。調色劑的平均顆粒直^^人3jam到7pm(含)。這樣，調色劑可以通過碾壓或類似過程來製造。磁l"生載體135包括在第一空間120和第二空間121中。磁f生載體135的平均顆粒直徑是從20iam到50nm。如圖5所示，磁性載體135包括核心元件136、_核心元件136外表面的樹脂4137以及散布在樹脂鵬137中的氧化鋁顆粒138。核心元件136由作為磁性材料的鐵素體製造，並且形成為球形。核心元件136的整個夕卜表面由樹脂劍莫137M。樹脂劍莫137包括充電控制劑和通過將三聚絲^i者如丙烯的熱塑'N對脂交聯所製成的樹脂成分。該樹脂覆膜137具有彈性和強粘附度。氧化鋁顆粒138形成為球形，其外徑大於樹脂137的厚度。氧化鋁顆粒138由樹脂劍莫137的強粘附度保持。每個氧化鋁顆粒138沿磁性載體135的向外方向從樹脂137突出。攪拌螺軒118分別封^fe第一空間120和第二空間121內。攪拌螺浙118的長度方向平行於容器117、顯影輥115和感光鼓108的長度方向。攪拌螺浙118提供為可繞軸向中心旋轉。攪拌螺軒118攪拌調色劑和磁性載體135並且沿著軸向中心傳輸顯影劑，同時繞軸向中心旋轉。在圖2所示的情況下，在第一空間120內的攪拌螺^幹118將顯影劑從前面提到的第一端部傳輸到第二端部。另一方面，在第二空間121的攪拌螺j幹118將顯影劑從第^部傳輸到第一端部。依椐前述的結構，顯影劑供應單元114將提供到第一空間120的第一端部的調色劑傳輸到第二端部，同時與磁性載體135混合，然後從第一空間120的第二端部將調色劑和磁性載體135傳輸到第二空間121的第二端部。然後，顯影劑供應單元114將調色劑和磁性載體135供應到顯影輥115的外表面，同時在第二空間121〉;曰^它們並且將它們在軸向中心方向傳輸。殼體125形成為盒形形狀，並且連接到上面提到的顯影劑供應單元114的容器117。以這種方式，顯影輥115和容器117老財皮殼體125覆蓋。而且，殼體125在殼體125面對感光鼓108的部分提供一開口部分125a。顯影輥115形成為圓筒形狀，並且提供在第二空間121和感光鼓108之間，接近前面提到的開口部分125a。顯影輥115平行於感光鼓108和容器117。顯影輥115設置為靠近感光鼓108,其間有一間隙。如圖3所示，顯影輥115包括帶芯棒134，圓筒磁輥133(也稱為磁性元件)用作》茲場產生設備，即圓柱形磁場產生設備，並且圓筒形顯影套筒132作為中空體。帶芯棒134如此設置，使得其長度方向平行於感光鼓108的長度方向，並且以不旋轉的方式固定到殼體125。磁輥133由石茲性材料組成，並且其形成為圓筒形狀。另外，多個未示出的固定磁才ilil:接到磁輥133。磁輥133固定到帶芯棒134的外圓周，並且因此不允許繞軸向中心旋轉。每個固定的磁極是類似於長杆形狀的磁體，並JJ^接到》茲輥133。固定的》茲極沿磁輥133、即顯影輥115的長度方向延伸，並且提供為貫穿磁輥133的長度。具有前面提到的結構的磁輥133被封裝(整個包含在)在顯影套筒132內。一個固定的;茲極面對前面提到的攪拌螺杆118。固定的》茲極是在顯影套筒132、也;ttA^影輥115的外表面上產生磁力的拾^J茲極，並且因此導致容器117的第二空間121中的顯影劑粘附到顯影套筒132的外表面。另一固定磁極面對前面提到的感光鼓108。這個固定的磁極是，通過在顯影套筒132、即顯影輥115的外表面上產生磁性力，在顯影套筒132和感iti支108之間形成/茲場的顯影箱t才及。這個固定的磁極通過"ft^)磁場形成箱錄j,並且因此允許粘附到顯影套筒132的外表面的顯影劑中的調色劑，轉移到感光鼓108上。至少一個固定》茲極提供在前面提到的拾fa茲才及和顯影》茲極之間。通過在套筒132、即顯影輥115的外表面產生^茲力，所述至少一個固定-茲極在顯影之前將顯影劑傳輸到感光鼓108上，並且也在顯影^將顯影劑/人感光鼓108傳輸到容器117中。當顯影劑粘附到顯影套筒132的外表面上時，前面提到的固定磁極使顯影劑中的多個磁性載體135聚集並且沿著由固定磁極產生的磁力線堆積，並且因j)t/人顯影套筒132的外表面向外突出(在其上形成鏈)。在該狀態中，多個磁性載體135聚集且沿》茲力線堆積，並且因aH^人顯影套筒132外表面向外突出，該狀態表達為;茲性載體135在顯影套筒132的夕卜表面上形成鏈的狀態。然後，上面提到的調色劑顆粒連接到磁f生載體135的鏈上。筒言之，顯影套筒132通過使用由磁輥133產生的磁力將顯影劑吸引到外表面。如圖4所示，顯影套筒132形成為圓筒形狀。顯影套筒132整個包括(封裝)磁輥133,並且提供為使得繞軸向中心旋轉。顯影套筒132旋轉，使得其內表面一個接一個的面對固定磁極。顯影套筒132由非磁性材^H(口鋁合金或不鏽鋼(SUS)組成。如上所述，顯影套筒132的外表面通過使用表面處理裝置1的粗H^理而4對造化。鋁合金在材料可加工性和重量輕屬性上很優秀。當使用鋁合金時，優選採用A6063、A5056或A3003。當使用SUS時，優選使用SUS303、SUS304或SUS316。顯影套筒132的外徑伊述17mm到18mm。顯影套筒132在軸向(軸向中心)方向的長>1優選300mmm到350mm。顯影套筒132的夕卜表面，在顯影套筒132的軸向中心方向，從中央到兩端^4嫂^^斤增加(更4劃造)。另夕卜，如圖6和7所示，顯影套筒132的外表面提供了大量凹陷，每個凹陷有^^上橢圓的平面形狀，並JJt過4封勁口工形成。大量(多個)凹陷139在顯影套筒132上隨積4非列。明顯地，凹陷139包括其長度方向沿著顯影套筒的軸向方向延伸的凹陷139，和其長度方向沿著顯影套筒132的圓周方向延伸的凹陷139。每個具有其縱向方向沿著顯影套筒132的軸向方向的凹陷139的數量，大於每個具有其縱向方向沿著顯影套筒132的圓周方向的凹陷139的數量。而且，凹陷139在長度方向(主軸)的長yt^從0.05腿到03mm(含)，其在寬度方向(副軸)的寬^A從0.02mm到0.1mm(含)。注意在圖6和7中從右到左的方向^_顯影套筒132的軸向方向。控制刮板116提供到接近感光鼓108的顯影設備113的端部。控制刮板116連接到前面提到的殼體125，控制刮板116和顯影套筒132的外表面之間有間隙。控制刮板116削去顯影劑在顯影套筒132的外表面上超出預^度的部分，並且將它落回到容器117。因此，控制刮板116使傳輸到顯影區域131的顯影劑在顯影套筒132的夕卜表面上具有理想的厚度。在具有前述結構的顯影設備113中，顯影劑供應單元114充分';^^調色劑和磁f生載體135,並且固定磁極使如此^給的顯影劑吸引並粘附到顯影套筒132的外表面上。然後，在顯影設備113中，通過固定磁極粘附到顯影套筒132上的顯影劑，隨著顯影套筒132的旋轉傳輸到顯影區域131。顯影設備113使已經通過控制刮板116而具有理想厚度的顯影劑吸引並粘附到感光鼓108上。以這種方式，顯影i殳備113保持在顯影輥115上的顯影劑，將顯影劑傳輸到顯影區域131，並ilitit^感^J支108上顯影靜電^^象形成調色劑圖像。此後，顯影設備113在顯影后將顯影劑清除到容器117中。然後，顯影后的顯影劑再次充分和第二空間121中其它剩餘顯影劑混合，並且用於在感光鼓108上顯影,爭電潛H具有前述結構的成像裝置101在記彭氏107上以如下方法形成圖像。首先，成像裝置101旋轉感光鼓108，並且用充電輥109均勻地充電感光鼓108的外表面。在處理盒106Y、106M、106C和106K中的每個，感光鼓108的外表面用激絲照射，並且因此靜電^f象形絲感itJ支108的夕卜表面上。此後，當靜電^f象定位在顯影區域131時，粘附到顯影設備113的顯影套筒132外表面的顯影劑，被吸引並且粘附到感光鼓108的外表面。因此，靜電^f斜^影，並且調色劑圖像形^感ifej支108的夕卜表面上。這^,當記彰氏107通iti^氏單元103的必氏輥124等傳送並且定4錄處理盒106Y、106M、106C和106K的感光鼓108以及轉印單元104的傳輸帶129之間時，成像裝置101將形成在感光鼓108的外表面上的調色劑圖^#印到記錄紙107上。在成像裝置101中，定影單元105固定記彰氏107上的調色劑圖像。以il種方式，成像裝置101在記彰氏107上形成彩色圖4象。隨後，將要描述在顯影套筒132上進行4對造處理的方法。前面提到的顯影套筒132的外表面通過圖8和9所示的表面處理裝置1的粗4狄理而變粗4造。如圖8和9所示，表面處理裝置1包括基底3、固定保持單元4、電磁線圏移動單元5、作為滑動設備的可移動的保持單元6、可移動的卡盤單元7、作為磁場產生單元的電,茲線圈8、容器9、收集單元IO、冷卻單元ll、線性編碼器75、控制設備76(圖9中所示)和M型位移計80(圖9中所示)。基底3形成為平4反形狀，並且安^工廠的地3反、臺或類似物上。基底3的^Ji4面^f呆持與水平方向平4於。差^底3的平面形狀形成為矩形。固定保持單元4包括多個圓柱12、保持基底13、直立支架14、圓筒保持元件15和保持卡盤16。圓柱12提供為/A^底3的長度方向(以後稱為箭頭X)的一端部突出。保持基底13形成為類似平板的形狀，並且連接到圓柱12的頂端。直立支架14形成為類似平板的形狀，並且提供為從保持基底13上突出。圓筒4呆持元件15形成為圓筒形狀，並iUi接到直立支架14和保持基底13上。圓筒保持元件15設置為比直立支架14接i^&體3的中心，從而其軸向中心平行於水平方向和箭頭X。在圓筒保持元件15內部，容納連接到第一端部9a的法蘭元件Slb、51c和51d(即容器9的第一端部9a)。法蘭元件51b、51c、51d和第一端部9a將在後面描述。保持卡盤16設置為接近圓筒保持元件15,即保"Nrl^底13,並JlJi接到前述基底3。保持卡盤16卡住容器9,容器的第一端部9a容納在圓筒保持元件15內，並且因此保持容器9的第一端部9a。具有前述結構的固定保持單元4保持容器9的第一端部9a。電磁線圈移動單元5包括一對線性引導件17、電磁線圈保持基底18和電磁線圈移動激勵器19。線性引"!^牛17包括導軌20和滑塊21。導軌20設置在基底3上。每個導軌20形成為垂直線形狀，並且如此設置使得其長度方向平行於基底3的長度方向，即箭頭X。滑塊21由導軌20支撐，為了可以沿著導軌20的縱向方向，如箭頭X,移動。在線性引導件17對中，導軌20在R間沿著基底3的寬度方向(今後也稱為箭頭Y)設置有特定的距離。注意箭頭X和箭頭Y明顯相互垂直，並且它們都平行於水平方向。電磁線圈保持基底18形成為平板形狀，並且安裝在前述滑塊21上。電磁線圈保持基底18的Ji^面設置為平行於水平方向。電磁線圈係特基底18的Ji4面4是供了電》茲線圏8。電石茲線圈移動激勵器19連4妄到基底3，並且使前述電;茲線圈保持基底18沿箭頭X滑動並移動。前述電磁線圈移動單元5利用電磁線圈移動激勵器19使電磁線圈係遊基底18、即電-茲線圏8沿箭頭X滑動和移動。另外，通過電》茲線圈移動單元5移動的電磁線圈8的移動i^變，可以在範圍0mm/sec到300mm/sec之內改變。而且，通過電磁線圈移動單元5移動的電磁線圈8的移動範圍大約為600mm。可移動保持單元6包括一對線性引導件22、保持基底23、第一激勵器24、第二激勵器25、移動基底26、軸7w走轉單元27和保持卡盤28。線性引導件22包括導軌29和滑塊30。導軌29設置在基底3上。導軌29的每個形成為垂直線形狀，並且設置成使得其長度方向平行於基底3的長度方向，即箭頭X。滑塊30通過導軌29支持，從而可沿導軌29的長度方向、即箭頭X移動。在該對線性引導件22中，導軌29設置為在其之間沿箭頭Y、即基底3的寬度方向，有特定的距離。保持基底23形成為類似平糹反的形狀，並且安裝在前述的滑塊30上。保持基底23的Ji^面設置為平行於水平方向。第一激勵器24連接到基底3，並且^Ji面提到的保持基底23沿箭頭X滑動並移動。第二激勵器25安^保持基底23上，並且使移動基底26沿箭頭Y滑行並移動。移動基底26形成為類似平板的形狀，並且設置成使得其Ji^面平行於水平方向。軸7"走轉單元27包括一對軸承31、作為芯軸的中空支持元件32、作為旋轉設備的驅動電機33、以及卡盤圓筒34。軸7"於31設置為沿箭頭X相互分開一定距離，並且安裝在移動基底26上。由磁性材料組成的中空保持元件32，形成為圓筒形狀，並且由軸承31支持，從而可繞軸向中心旋轉。中空保持元件32設置為其軸向中心平行於前述的箭頭X,即，固定保持單元4的圓筒保持元件l5的軸向中心。中空保持元件32設置為/M多動基底26向固定保持單元4突出，從而其中空保持元件32的第一端部32a位於容器9中，而且其第二端部32c位於移動基底26上。如圖9所示，中空保持元件32插入圓筒形處理目標物2中。另外，滑輪35固定到位於可移動基底26上的中空保持元件32的第二端部32c上。滑輪35和中空保持單元32同4W殳置。驅動馬達33安M移動基底26上，並且滑輪36連接到驅動馬達33的輸出軸。驅動馬達33的輸出軸的軸向中心平行於箭頭X。沒有端部的正時皮帶37由上述滑輪35和36懸置，驅動馬達33繞軸向中心旋轉中空保持元件32。通過繞軸向中心旋轉中空保持元件32，驅動馬達33繞平行於容器9的長度方向的中空4緣元件32的軸向中心旋轉處S^f象物2。換句i封兌，驅動馬達33起到權利要求的範圍中引用的旋舉H殳備的作用。卡盤圓筒34包括安裝在移動基底26上的圓筒體38、可滑動i^^^供在圓筒體38上的卡盤軸39。卡盤軸39形成為圓柱形狀，並ili殳置成^f吏《尋其長度方向平^f亍於箭頭X。卡盤軸39容納在中空^#元件32內，並且其和中空保持元件32同軸排列。多對卡盤釘40連接到卡盤軸39上。一對卡盤釘40連接到卡盤軸39上，在從卡盤軸39向外的方向從卡盤軸39的外圓周表面突出。而且，卡盤釘40能夠在從中空保持元件32向外的方向，從中空保持元件32的外圓周表面突出。該對卡盤4丁40提供為使得乂人卡盤軸39和中空保持元件32的突出量可以自由改變。多對卡盤釘40沿前述卡盤軸39的長度方向、即箭頭X間隔設置。隨著卡盤軸39向圓筒體38收縮，卡盤釘40對從卡盤軸39和中空保持元件32的突出量增加。Sl^卡盤軸39向圓筒體38的收縮，上面的卡盤圓筒34使卡盤釘40進一步在卡盤軸39的向外方向突出。結果，卡盤釘40壓向安裝在中空保持元件32的外圓周的處理目標物2的內表面。因此，卡盤圓筒34通過^吏用卡盤釘40固定卡盤軸39、中空保持元件32和處理目標物2。換句話說，處理目標物2被保持，同時其外表面被曝露，其中外表面是要經歷粗糙處理的平面。此時，自然，卡盤軸39、中空保持元件32、處理目標物2、後面描述的圓筒元件50、即容器9是相互同軸的。前面提到的卡盤圓筒34和卡盤釘40與中空##元件32以A^器9同軸地保持處理目標物2。準確地，卡盤圓筒34和卡盤釘40保持處理目標物2，從而處理目標物2的外表面將曝露在容器9的中心，其中所i^卜表面是將要經歷粗糙處理的平面。前述卡盤圓筒34、卡盤釘40和中空保持元件32形成保持設備。保持卡盤28安裝在上面提到的移動基底26上。保持卡盤28夾住後面描述的連接到容器9的第二端部9b的法蘭元件51a，從而保持容器9的第二端部9b。保持卡盤28控制容器9繞軸向中心的旋轉。通過^J)激勵器24和25，具有前述結構的可移動的保持單元6，沿著相互垂直的箭頭X和Y，移動保持卡盤28、中空保持元件32和類似物。簡言之，可移動保持單元6沿著箭頭X和Y移動由保持卡盤28保持的容器9。可移動卡盤單元7包括保持基底41、線性引導件42和保持卡盤43。保持基底41固定在線性引導件22的一對軌道29的端部，該端部是更接近固定保持單元4的端部。保持基底41形成為類似平板的形狀，並且設置成其Ji4面平行於水平方向。線性引導件42包括軌道44和滑塊45。軌道44安m呆持基底41上。勒道44的每個形成為直線形狀，並且設置為使其長度方向平行於箭頭Y、即基底3的寬度方向。滑塊45由軌道44支持從而可沿軌道44的長度方向、即箭頭Y移動。〗*#卡盤43安裝在滑塊45上。保持卡盤43位於前面提到的保持卡盤16和28之間。保持卡盤43通過卡住接近容器9第二端部9b的部分來保持容器9。前述可移動的卡盤單元7通過使保持卡盤43保持容器9來定位容器9。而且，當容器9沿軸向中心移動時，可移動卡盤單元7防止容器9從軸岸^走轉單元27、即表面處理裝置1脫落，以這種方式，保持卡盤43和上面提到的^f緣卡盤28^H乍保持容器9。如圖9所示，電磁線圈8包^^成為圓筒形狀的外覆層46和多個設置在外覆層46內部的線圈單元47,並且，上形成為環形的形狀。電磁線圏8內徑大於容器9的外徑。換句^i兌，在電磁線圏8的內表面和容器9的夕卜表面之間形成間隙。而且，電浪t線圈8在軸向中心方向的總長度，與容器9在軸向中心方向的總長度相比短很多。優選電磁線圈8在軸向中心方向的總長度不大於容器9在軸向中心方向的總長度的三分t。在說明示例中，電磁線圈8的內徑是90mm,電箱t線圈8在軸向中心方向的總長^1A85mm。夕卜絲層46安絲前面提到的電磁線圈保持基底18上，從而夕卜覆層46的軸向中心、即電-茲線圈8的軸向中心本身平行於箭頭X。電磁線圈8和中空保持單元32、卡盤軸39以及容器9同4W殳置。多個線圈單元47設置成沿著夕卜覆層46、即電石茲線圈8的圓周方向相互平4亍。通過圖9中示出的三4目交流電源48將電流^o到線圈單元47。不同相位的電流i^a到多個線圏單元47中，並且因此多個線圈單元47產生不同相位的磁場。然後，通過組合這些不同相位的磁場，電磁線圈8在其內部產生具有繞電磁線圈8的軸向中心旋轉的磁場(旋轉磁場)。前述電-茲線圈8接^i^A^目交流電源48來的電流，並且產生旋轉石茲場。同時，電磁線圈8通過電磁線圈移動單元5沿軸向中心的長度方向、即容器9移動。然後，通過^JD前面提到的旋轉磁場，電磁線圈8將後面描述的磁性磨料顆粒65定位到處理目標物2的外周上，並且使磁性磨料顆粒65繞容器9和處理目標物2的軸向中心旋轉(移動)。這^，通過^^1前面提到的旋轉磁場，電磁線圈8使磁性磨料顆粒65和處理目標物2的外表面石並撞。另外，轉換器49提供在^目交流電源48和電磁線圈8之間。換句i封兌，表面處理裝置l包括轉換器49。轉換器49能夠改變通it^目交流電源48^。到電磁線圈8上的電源的頻率、電流值和電壓值。通過改變0到電石茲線圈8上的電源的頻率、電流值和電壓值，轉換器49增加或減少通iiH^目交流電源48口到電磁線圈8上的電源，並且因此改變由電磁線圈8產生的旋轉石茲場的強度。如圖9所示，容器9包括圓筒元件50，其具有單一結構的外壁(外壁形成單一壁)，多個法蘭元件51、一對削刮密封支持架52、一對削刮密封板53、一對定位元件54和作為分隔設備的多個分隔元件55。圓筒元件50形成為圓筒形狀，並且形成容器9的夕卜蓋。由於圓筒元件50形成為單一結構，容器9的外壁形成為單一結構，並且也是圓筒形狀。圓筒元件50、即容器9的外徑優選約40mm到80mm。而且，圓筒元件50的厚度優選約為0.5mm到2.0mm。圓筒元件在軸向中心方向的長度約為600mm到800mm。圓筒元件50由非磁性材料構成。圓筒元件50提供有多個磨料顆粒供應孔57。當然，每個磨料顆粒供應孔57貫穿圓筒元件50，並且允許圓筒元件50的夕卜部和內部相互連通。密封帽58連接到每個磨料供應孔57。通*料供應孔57，磁性磨料顆粒65進入圓筒元件50、即容器9並/人其中排出。另一方面，通過密封磨料顆^牛供應孔57，密封帽58防il^茲性磨料顆粒65從圓筒元件50、即容器9中出來。多個法蘭元件51中的每個都形成為環形或圓筒形。多個法蘭元件51(示例中是3個)中的多數、即所有的除了一個以外，都連接到圓筒元件50的第一端部9a，並且一個法蘭元件51(下面用附圖標記51a表示)連接到圓筒元件50的第二端部9b。連接到圓筒元件50的第一端部9a的一個法蘭元件51(下面用附圖標記51b表示)形成為圓環形狀，並且與圓筒元件50的外4勤目酉洽。另一個法蘭元件51(下面用附圖標記51c表示)形成為圓環形狀，並且S己合於前述法蘭元件51b的外周。剩下的法蘭元件51(下面用附圖標記51d表示)整個包括具有圓環形狀的環部分59和具有圓柱形狀的柱部分60。環部分59提供為從柱部分60的外邊緣突出。法蘭元件51d的環部分59配合於法蘭元件51c的外周。前述法蘭元件51d用軸承74可旋轉地支持從動杆73。從動杆73形成為圓柱形狀，並且和容器9的圓筒元件50同軸沒置。從動杆73的端面壓向中空保持元件32。從動杆73和中空保持元件32—起旋轉，並且支持中空保持元件32的第一端部32a，該第一端是自由端。前述法蘭元件51a形成為環形形狀，並且其S給於圓筒元件50的第二端9b的外圓周。中空保持元件32通過法蘭元件51a的內側。注意圓筒元件50的第一端部9a和第二端部9b也分別形成為容器9的第一端部和第二端部。該對削刮密封支架52都形成為環形形狀。削刮密封支架52中的第一個配合於圓筒形容器50的第一端部9a的內圓周，並且削刮密封支架52中的第二個配合於圓筒元件50的第二端部9b的內圓周。中空保持元件32通過第二削刮密封支架52的內側。該對削刮密封板53的每一個都形成為網目艮形狀。削刮密封板53中的第一個形成為類似圓盤的形狀，設置在圓筒元件50的第一端部9a的內圓周，也連接在上面提到的第一密封支架52上。另夕卜，從動杆73通過第一削刮密封板53的內側。削刮密封板53中的第二個形成為環形形狀，設置在圓筒元件50的第二端部9b的內圓周，也連接在上面提到的第二密封支架52上。中空保持元件32通過第二削刮密封板53的內側。當由於將要在後面描述的磁1"生磨料顆粒65和處理目標物2的夕卜表面碰撞，通過削刮處理目標物2形成刮屑時，削刮密封板53防止刮屑/人圓筒元件50、即容器9漏出。該對定位元件54中的每一個都形成為圓柱形狀。定位元件54中的第一個配合於第一端部32a的外圓周，該第一端部是中空保持元件32的自由端。定位元件54中的第二個適合於中空保持元件32的中部32b的外圓周。該中部32b位於圓筒元件50的內側，並且4妄近第二端部9b。定位元件對54通過將處理目標物2夾在其中，而將處理目標物2定位在中空保持元件32上。注意第一端部32a形成中空保持元件32的接近於保持固定單元4且遠離可移動^#單元6的端部。在容器9內部，中部32b形成中空保持元件32的端部，該端部遠離固定保持單元4且接近可移動保持單元6。61,即分隔元件55配合於圓筒元件50的內圓周，並且因itbii接到圓筒元件50。另外，中空保持元件32通過分隔元件55的內側。多個主體61、即分隔元件55設置在削刮密封板53對之間。而且，多個主體61、即分隔元件55沿軸向中心P、即圓筒50的長度方向間隔並排設置。在圖示中，提供7個分隔元件55。主體61提供有通孔63。篩網部分62連接到主體61從而填錢孔63。由於篩網部分62形成為篩網形狀，篩網部分62允許空氣和刮屑通過，並且防jL^磁性磨料顆粒65從其中通過。前述多個分隔元件55沿著圓筒元件50、即容器9的軸向中心、也t議處理目標物2的軸向中心P分隔圓筒元件50、即容器9的內部空間。另夕卜，軸向中心P形成容器9的軸向中心和中空保持元件32的軸向中心，也形成了容器9的長度方向。換句話說，軸向中心P和容器9的長度方向相互平行。而且，前i^A體61和篩網部分62、即分隔元件55由非磁性材料構成。具有前述結構的容器9在多個分隔部分55之間的空間容納由磁性材料構成的磨料顆粒65(以後稱為磁f生磨料顆粒)，並且將連接到中空保持元件32的處理目標物2封^'j圓筒元件50中。簡言之，容器9封狄S^f象物2和磁性磨料顆粒65。而且，在由於前面提到的旋轉磁場，繞處理目標物2的外圓周旋轉(移動)等的同時磁性磨料顆粒65和處理目標物2的外表面碰撞。每個磁性磨料顆粒65作為和處理目標物2碰撞的線形顆粒，/人處理目標物2外表面削刮-"^分，並且因此使處理目標物2的外表面變粗糙。注意，在圖解示例中，磁性磨料顆粒65形成為圓柱形狀，並且外徑約為0.5mm到1.4mm，總長部約為3.0mm到14.0mm。磁性磨料顆粒65由磁性材料例如奧氏體不鏽鋼或馬氏體不鏽鋼構成。如圖IO所示，磁性磨料顆粒65形成為類似腳趾的圓柱形狀。磁性磨料顆粒65形成為具有0.5mm到1.2mm(含)的外徑。當L表示總長度且D表示外徑時，磁性磨料顆粒65形成為使得L/D是從4到10(含)。而且，如圖10和11所示，磁性磨料顆粒65每端的外邊緣部分65a繞整個周長倒角，並且每個都形成為具有圓弧形的截面。外邊緣部分65a形成為具有0.05mm到0.2mm(含)的曲率半徑r。如圖12所示，由於前述旋轉》茲場，上面的磁性磨料顆粒65沿前ii^器9和顯影套筒132的圓周方向旋轉(軌道旋轉)，同時沿其長度方向中心旋轉(自轉)。如圖9所示，收集單元10包括空氣;^u7vf66、空氣排出孑L67、篩網元件68、空氣排出管69和灰塵收集器70(在圖8中示出)。空氣流入管66提供為比第二削刮支架52更接近圓筒元件50、即容器9的邊緣(在可移動的保持單元6側)，並且具有在圓筒元件50即容器9內部的開口。壓縮空氣或類似物從未圖示的壓縮空氣輸入源供應到空氣Wu7vf66。空氣流入管66引導壓縮空氣到圓筒元件50即容器9的內部。空氣排出孔67貫穿圓筒元件50，並且因此使容器9的內部和外部相互連通。空氣排出孔67提供為比第一削刮密封支架52遠離圓筒元件50、即容器9的邊緣(在遠離可移動保持單元6側)。篩網元件68連接在圓筒元件50上，便於填充氣^#出孔67。篩網元件68使刮屑和空^其中通過，並且防iU茲性磨料顆粒65從其中通過。換句i封兌，篩網元件68防ibf茲性磨料顆粒65從圓筒元件50即容器9洩漏。空氣排出管69是連接到接近空氣排出孔67之處的管道。空氣排出管69圍繞空氣排出孔67的外邊緣。空氣排出孑L67和空氣排出管69將空氣引導到圓筒元件50即容器9的外部，其中空從空氣滬u7v管66供應到圓筒元件50即容器9的。灰塵收集器70連接到空氣排出管69，並且將空氣吸到空氣排出管69的內部。灰塵收集器70通過抽吸空氣排出管69內部的空氣，將空氣和前述刮屑吸收到圓筒元件50即容器9的內部。灰塵收集器70收集刮屑。上面提到的收集單元10將空氣通過空氣流入管66供應到圓筒元件50即容器9，並且使用空氣和灰塵收集器70，通過空氣排出孔67和空氣排出管69引導刮屑到圓筒元件50即容器9的外部。然後，收集單元10收集灰塵收集器70中的刮屑。如圖8所示，冷卻單元11包括冷卻風扇71和冷卻管72。冷卻風扇71將壓縮空氣供應到冷卻管72。冷卻管72是管道系統。冷卻管72將壓縮空氣從冷卻風扇71引導到電磁線圏8。冷卻管72把由冷卻風扇71供給的壓縮空氣吹到電磁線圈8。冷卻單元ll通過壓縮空氣吹到電磁線圈8來冷卻電石茲線圈8。如圖9所示，線性編碼器75包括主體和可移動地4是供到主體77上的傳感器78。主體77線性延伸，並且連接到基底3。主體77設置為平行於軌道20對之間的軌道20。主體77的總長度比前述容器9長。主體77設置在主體77的長向的兩個端部沿容器9的長度方向/A^器9向外突出的位置。傳感器78提供為沿著主體77、即容器9的長度方向可移動。傳感器78連接到電磁圈保持基底18。精確地說，傳感器78連接到電磁線圈8，且電磁線圈保持基底18夾置在二者之間。上面的線性編碼器75檢測傳感器78相對於主體77、即容器9的位置，並且向控制設備76輸出檢測結果。經這種方式，線性編碼器75檢測電磁線圈8相對於容器9即處理目標物2的位置，並且向控制設備76輸出檢測結果。控制設備76是包括RAM、ROM、CPU等的計算機。控制設備76連接到電磁線圏移動單元5、可移動保持單元6、可移動卡盤單元7、電磁線圈8、轉換器49、收集單元10、冷卻單元ll、線性編碼器75、反射型位移計80等，並且通過控制這些單元來控制整個表面處理裝置1。相應於電磁線圈8的每個相對於處理目標物2的位置，控制設備76存儲電磁線圈8的旋轉磁場的強度，磁場強度通過線性編碼器75檢測。換句話說，控制設備76儲存涉及功率的信息片段，其可通過轉換器49調整並施加到電磁線圈8上，相應於電磁線圈8相對於處理目標物2的每個位置。另外，控制設備76對於處理目標2即顯影套筒132的每個產品編號存儲關於功率的信息片段。在圖示的實施例中，控制設備76事先儲存一模式，其中醋電磁線圈8從長度方向(軸向方向)的中央位置移動到其兩端，轉換器49逸斬增加施加到電磁線圈8上的功率。然後，控制設備76根據事先儲存的功率模式使轉換器的通過電磁線圈8改變旋轉磁場的強度。以這種方式，在圖示實施例的情況下，控制設備76使轉換器49改變由電磁線圈8產生的旋轉磁場的強度，從而旋轉磁場強度在處理處理目標物2的兩端部時將比處理處理目標物2的中部時強。如上所述，控制設備76根據電磁線圈8相對於容器9、即處理目標物2的位置，使轉換器49改變由電-茲線圈8產生的旋轉-茲場的強度，該位置由線性編碼器進行檢測。而且，控制設備76執行作為輪廓曲線的頻率分析的快速傅利葉變換(FFT)，其中輪廓曲線是處理目標物2外表面在粗糙處理之後的凸凹測量結果。進一步，在通過求解按波長獲得的頻譜表示波長分量的強度中，通過施加FFT計算的輪廓曲線的凸凹，特定波長分量和其強度預先在控制設備76中設置，並且這些用作為判斷處理目標物2是否是缺陷項目的標準。而且，對於控制設備76,連接不同種類的輸入設備、如鍵盤和諸如顯示器的顯示設備。反射型位移計80是反射型非接觸雷射測量設備，並且在外表面通過4對狄理變粗糙後，通過使用光學設備測量處理目標物2的外表面的凹凸。反射型估遊計80定4媒一定測量位置，處理目標物2在夕卜表面通it^4狄理變鬥到能滑行並移動出容器9到達該測量位置。以下，將給出對於通過用具有前述結構的表面處理裝置1處理(粗糙)處理目標物2的外表面來製造顯影套筒132的過程的描述。首先，處理目標物2、即顯影套筒132的產品編號等被從輸入設^^入到控制設備76。然後，柱形帽64在處理目標物2的長度方向(軸向方向)的兩端配合於該目標物的外圓周。然後，前述第二定位元件54配合於中空保持元件32的外圓周。下面，中空保持元件32位於其兩端連接有帽64的處理目標物2的內側。這^，前述第一定位元件54配合於中空保持元件32的外圓周。然後，處理目標物2通過收縮卡盤圓筒34的卡盤杆39固定到中空保持元件32。這時，中空保持元件32、處理目標物2等是同軸的。以這種方式，處理目標物2連接到中空保持元件32。然後，處理目標物2和中空保持元件32都容納在容器9也就是處理空間中，磁l"生磨料顆粒65供應到容器9的圓筒元件50。以這種方式，磁性磨料顆粒65和處理目標物2都裝在容器9中。另外，容器9用保持卡盤28和43卡住。這樣，處理目標物2和容器9都連接到可移動保持單元6。接下來，容器9的圓筒元件50、中空保持元件32、處理目標物2等都同軸。這些連"l^t喿作當然是在用激勵器24和25調整移動基底26的位置同時進行的。而且，這些操作當然是在調整保持基底41的位置的同時進4亍的。固定保持單元4保持容器9的第一端部9a，使得容器9的第一端部9a由保持卡盤16卡住或等4介方式。下面，使冷卻單元11向電磁線圈8吹壓縮空氣，同時空^t過收集單元10的空氣流入管66供應到容器9的內部，且同時容器9中的空^Jt過灰塵收集器70吸取。然後，使驅動馬達33將處理目標物2和中空保持元件321繞軸向中心P旋轉。這^,通it^"電磁線圈8乂A^相交流電源48i^口功率，使電磁線圈8產生旋轉^茲場。結果，磁性磨料顆粒65位於電i茲線圈8的內部，繞軸向中心P旋轉(旋轉即移動)同時自轉。因此，磁性磨料顆粒65和處理目標物2的外表面碰撞，並J4站造化處理目標物2的外表面。然後，當電磁線圈移動單元5按需要沿著軸向中心P移動電磁線圈8。結果，由於前述旋轉-茲場，新iiA電-茲線圈8內部的磁性磨料顆粒65開始移動(自4沐旋轉)，同時從電磁線圈8離開的磁性磨料顆粒65停止移動。而且，由於分隔元件55分隔容器9內部的空間，磁性磨料顆粒65被禁止移動到分隔元件55O卜，並且因itl^茲性磨料顆粒65從電磁線圈8中出來，^/人前述的旋轉磁場中出來。然後，電磁感應移動單元5沿箭頭X往復移動電磁線圈8預定次數後，處理目標物2外表面的粗糙完成。另外，隨著電磁線圏8從處理目標物2的中部向其兩端移動，由電磁線圈8產生的旋轉磁場強度增加。旋轉磁場強艦強，磁性磨料顆粒65的移動越難。相應地，隨著旋轉磁場的強度增加，磁性磨料顆粒65活躍地和處理目標物2碰撞，並且處理目標物2的外表面的粗糙程度增加。當在處理目標物2外表面上的前述laif造處理完成時，；^o到電磁線圈8和驅動馬達33上的功率停止。而且，收集單元10和冷卻單元11也停止。使可移動保持單元6的保持卡盤28釋放容器9的保持。當固定保持單元4的^#卡盤16和可移動卡盤單元7的保持卡盤43##對容器9的支持時，通過<賴第一激勵器24，移動基底26沿箭頭X^/A^器9的第二端9b遠離的方向滑行並移動。接下來，處理目標物2/錄器9中取出，同時通過中空保持元件32保持。以後，移動基底26滑行並移動到處理目標物2的容器9的外部的預定測量位置，然後停止。這之後，可移動保持單元6的驅動馬達33旋轉，從而處理目標物2和中空保持元件324繞軸向中心P旋轉。反射型位移計80移動到處理目標物2外表面的凹凸可一皮測量的位置，因jtb^其圓周方向的一次旋轉時測量凹凸。通過反射型位移計80測量的處理目標物2夕卜表面的凹凸，發送到控制設備76。當在圓周方向的一次旋轉期間測量的處理目標物2的外表面的凹凸發送時，控制設備76進行FFT,FFT是表示凹凸的輪廓曲線的頻率分析。圖14表示輪廓曲線的例子，圖15表示通過進行FFT獲得的頻譜的例子(以後，這種頻譜簡稱為FFT頻譜)。圖14中的7jc平軸表示處理目標物2在圓周方向的距離。圖14中垂直軸表示處理目標物2橫截面的表面的深度。圖15中的7jc平軸表示夕卜表面的輪廓曲線的波長，即形成在外表面上的凹凸的波長。圖15的垂直軸表示外表面輪廓曲線每個波長的振幅的絕對值。然後，控制設備76判斷FFT頻譜在不超過lmm的波長範圍內的部分的峰值是否不超過12,並且因此判斷處理目標物2是否是缺陷項目。在圖15的情況中，由於"^值密度約為7.8，判斷處理目標物2是非缺陷項目。當判斷作為非缺陷項目時，處理目標物2被識別為非缺陷項目，並JL/人中空保持元件32除去。然後，新的處理目標物2被連接並處理。以這種方式，顯影套筒132的外表面^皮^4造化，粗糙化過程完^^獲得輪廓曲線，進行FFT，並且然後FFT的結果用於判斷顯影套筒132是否是缺陷項目。因此，通過用顯影套筒132夕卜表面的輪廓曲線#似亍FFT,可能獲得顯影套筒132(圖14中所示)，該顯影套筒的在不超過lmm的波長範圍內FFT頻譜的峰值不超過12，並且其外表面從其中部到其兩端部的粗糙it^斤增加。根據該實施例，大量J^橢圓的凹陷隨^J也提供在顯影套筒132的外表面上，該顯影套筒的在不超過lmm的波長範圍內的FFT頻謹峰值強度不超過12。FFT頻譜通過用作為外表面用反射型位移計80測量結果的輪廓曲線獲得。佳月具有上面特徵的顯影套筒132,給顯影劑小的壓力，並且因此抑制顯影劑變差。相應地，顯影劑的拾取量在長時間內保彬l、定，允許顯影劑形成高質量圖像，在長時間內沒有密度不均勻。而且，通過採用這樣的顯影套筒132,該顯影套筒132的通過使用上面的輪廓曲線獲得的在波長不超過lmm的範圍內的FFT頻譜Jf值不超過lO,口到顯影劑上的壓力可大大減少，這樣可在長時間內形成更高質量圖像，沒有密度不均勻。_^*圓的凹痕139形成在顯影套筒132的外表面上(主軸從0.05mm到0.3mm(含)，副軸從0.02mm到O.lmm(含))，其中^""個遠遠大於通過傳統吹沙力口工形成的凹痕。相應地，即使隨時間的改變凹痕139也不會磨損。這使它可能在長時間變化時抑制顯影劑拾取量的減少。在顯影套筒132中，形成在外表面上的橢圓凹痕139隨枳4非列。由於顯影劑通過凹痕139拾取，拾取顯影劑的位置在外表面上隨才/U非列。這可防止圖像不均勻。另夕卜，[個長度方向沿著顯影套筒132軸向的凹痕139的數量，大於每個長度方向沿著顯影套筒132的圓周方向的凹痕139的數量。結果，通過凹痕139拾取的顯影劑顆粒沿著顯影套筒132的軸線方向線性排列。相應地，即使當顯影套筒132旋轉時，拾取的顯影劑顆粒不會從顯影套筒的外表面落下。以這種方式，橢圓凹痕139可以產生類似於迄今為止一直使用的V-槽的作用，並且可以保證充分的顯影劑拾取量。而且，由於橢圓凹痕139通過使-茲性磨料顆粒65與外表面隨才;u並撞形成，可能防止顯影套筒132的軸向中心彎曲、內部和外部直徑改變、和/或形成橢圓形狀的4黃斷面。換句{封兌，可獲得顯影套筒132的高偏4科青度。進一步，凹凸隨機形成在顯影套筒132上。這種凹凸防止供應到感光嚴108的顯影劑的量不均勻，並且因此防止形成密度不均勻的圖像。通過使位於旋轉磁場內部的磁性磨料顆粒65和顯影套筒132的外表面碰撞，磁l"生磨料顆粒65更隨才;U也和顯影套筒132的外表面碰撞。結果，可能容易獲得以下特徵在波長範圍不超過lmm的範圍內，FFT頻譜的峰值強度不超過10。換句話說，更均勻地凹凸可以形成在顯影套筒的外表面上，並且因此可以獲得比其它方式更均勻的圖像。另夕卜，通過定位旋轉磁場內部的磁性磨料顆粒65,凹凸可以形成在顯影套筒132的外表面上，可避免對於在顯影套筒132外表面上形成凹凸增加必需的處理。結果，可能防止用於在顯影套筒132外表面上形成凹凸的處理複雜化，並且相應地防止處理所需的成本增加。而且，凹凸可以通過定位在旋轉磁場內部的磁性磨料65來形成在顯影套筒132的外表面上。在凹凸形成期間，每個磁性磨料顆粒65繞其中心部分以長度方向旋轉，並且沿著旋轉磁場的徑向繞顯影套筒132外圓周旋轉。由於此原因，磁性磨料顆粒65在長度方向的兩端的外邊緣部分65a和顯影套筒132碰撞，並且因jtM艮多凹凸、特別是凹痕139沿著顯影套筒132的軸線(長度)方向形成在顯影套筒132的外表面上。結果，形成在顯影套筒132外表面上的凹痕B9可以保證產生和以1tPf吏用的V-槽類似的作用，並且可以保證顯影劑的充足拾取量。而且，由於旋轉》茲場，磁性磨料顆粒65和顯影套筒132外表面的隨才;u並撞，更確保在顯影套筒132的外表面上形成隨機的凹凸。相應地，可能防止通過顯影套筒132形成的圖像不均勻。將顯影套筒132和磁性磨料顆料65-"^^容器9中，確4科茲性磨料顆粒65和顯影套筒132的外表面碰撞。結果，可以確保在顯影套筒132的外面上進行樹狄理。由於磁性磨料顆粒65和旋轉的顯影套筒132在容器9中碰撞，磁l"生磨料顆粒65甚至更隨才;U也和顯影套筒132的外表面碰撞。這使它可能以比其它方式更高的^)t度形成更均勻的凹痕139，並且因otb^得^艮少不均勻的圖H依據上面的成像裝置101，由於顯影劑中磁性載體135的平均顆粒尺寸是從20pm到5(Vm(含)，這種顯影劑的使用使它能夠獲得具有優秀的間隔尺寸和很少不均勻性的高質量圖像。磁性載體135的平均顆粒尺寸小於20pm是不優選的。這是因為，如果這樣，每個磁性載體135的小萄t化^/f茲性載體135向顯影輥115的磁性粘合力微弱，使得磁性載體135更容易粘到顯影鼓108上。相反，磁性載體135的平均顆粒尺寸大於50pm也是不優選的。這是因為如^it樣，磁性載體135和感光鼓108上的靜電潛像之間的電場是多餘的，使均勻圖像不能獲得(圖像質量下降)。而且，可以損:供處理盒106Y、106M、106C和106K，以A^j象裝置101可以在長時間形成並4是供高質量圖^f象，因為它們包括前面提到的設備113。另外，由於顯影套筒132和感光j支108之間的間隙是從O.lmm到0.4mm(含)，可以確保調色劑從在顯影套筒132上形成的鏈的顯影單元，供應到感光鼓108上，並且高質量圖像可以相應地形成。不優選顯影套筒132和感光鼓108之間的間隙小於O.lmm。這是因為，如果這樣，顯影套筒132和感光JL108之間的電場如此強，使得磁性載體135粘附到感光嚴108上。相反，由於下面的原因也不優選顯影套筒132和感光鼓108之間的間隙大於0.4mm。如果這樣，顯影套筒132和感光鼓108之間的電場太弱，使得可以供應到感光嚴108上的調色劑的量減少。結果，顯影效率下降，電場在圖^ii緣的邊緣作用太大，不能獲得均勻的圖像。在該實施例中，使用的顯影劑包括磁性載體135，磁性載體每一個都通過用樹脂劍菱137a^核心元件136形成，其中樹脂覆膜由充電控制劑和樹月旨成分混合製造，樹脂成分由熱塑性樹脂和三聚絲樹脂交l^^得。這樣，磁性載體135通過用彈性樹脂覆膜137M核心元件136獲得。由於樹脂覆膜137是彈性的，其吸"i^磁性載體135上的撞擊，並且防ib磁性載體135被磨損。相應地，磁性載體135可以比傳鄉W茲性載tt較長壽命。而且，大於樹脂4tl莫137厚度的氧化鋁顆粒138散落在前述樹脂^M137上。在該實施例中，^ft^]的是包括提供了從樹脂膜137突出的氧化鋁顆粒138的磁性載體135的顯影劑。因此，氧化鋁顆粒138可以成塊石並撞樹脂覆膜137，並且可以清潔用過的物體。結果，可以防止樹脂膜137磨損和用舊，並ibf目應地使i茲性載體135的壽命比傳統的磁性載體長。該導致實現調色劑拾取量的穩定，即在長時間內形成高質量的圖像。由於選^it過使用乳化聚合方法或懸浮聚合獲得的調色劑，調色劑具有完美球形以至於產生視覺上改ii^'j餘在圖像上的密度不均勻的效果。由於磁性磨料顆粒65的外徑D是從0.5mm到1.2mm(含)，形^作為處理目標物顯影套筒132夕卜表面上的凹凸，Ptt時間的變化不可f膽損變化。接下來，顯影套筒132可以防止顯影劑拾取量的下降，否則該下降將會隨著時間的改變而出現。這^^抑制Pi!4"時間的改變，並且防止圖像變淺。如上所述，可能提供能夠在顯影套筒132的夕卜表面上進行鬥對^理的磁性磨料顆粒65和表面處理裝置1，從而減少顯影套筒132隨著時間的改變的顯影劑拾取量的下降，並且防止圖像不均勻。而且，總長度L和外徑D的比率(L/D)是從4到12(含)。由於這個原因，在磁性磨料顆粒65的長度方向的兩端的外邊緣部分65a確定地和顯影套筒132夕卜表面碰撞。另夕卜，磁性磨料顆粒65的總長狄夠長，以在顯影套筒132的外表面上形成具有足夠深度(大的)的凹凸。相應地，可能確定地形成凹凸，並且保證顯影套筒132的顯影劑的充足拾取量。進一步，^F茲性磨料顆粒65的兩端的外邊緣部分65a是倒角的並且^-"個形成圓弧形的截面。相應地，光滑凹凸可形成在作為處理目標物的顯影套筒132的外表面上，並且防止顯影劑對於顯影套筒132即磁性載體135等隨著時間而改變。由於每個形^f茲性J^+顆粒65在長度方向兩邊緣的外邊緣部分65a的曲率半徑r是從0.05誦到a2mm(含)，光滑凹凸可以形成在作為處理目標物的顯影套筒132的外表面上。由於磁性磨料顆粒65由諸如奧氏體不鏽鋼或馬氏體不鏽鋼的磁性材料組成，磁法磨料顆粒65可以容易;4^得，並且用於生產磁性磨料顆粒65成本可減少。控制設備76可以依據電》茲線圈8相對於容器9即顯影套筒132的位置，改變由電磁線圈8產生的旋轉石茲場的強度。當旋轉磁場更強時，磁性磨料顆粒65更活躍iM多動，當和顯影套筒132的外表面石並撞時，磁性磨料顆粒65的運動能量變得更高，並於是顯影套筒132外表面的^L^造增加。P錄這些效果，顯影套筒132在軸向方向的長度方向的任意部分的外表面的粗糙可以按需改變。因此，當顯影套筒132用作顯影套筒時，可以在顯影套筒132的一定部分增力口拾取量，以M顯影套筒132的一定部分減少拾取量。相應地，通過使顯影套筒132拾取少量顯影劑的部分表面更扭隨，該拾取少量部分的拾取量可被增加。以這種方式，可以防ibit過包括顯影套筒132的成像裝置101形成的圖像不均勻。因此，顯影套筒132的夕卜表面通ii^L4狄理可以變4封造，從而可防止圖像的不均勻。由於控制設備76按照預定模式改變旋轉磁場的強度，顯影套筒132的外表面通過4對狄理可以穩定地以固定模式處理。由於兩端部控制設備76在處理顯影套筒132的兩端時比處理其中央部分的時設置更大的旋轉磁場強度，拾取量小的顯影套筒132的兩端部分的外表面可以製作的比拾取量大的中間部分更扭隨。通過使拾取量少的顯影套筒132的兩端部的外表面更並對造，兩端部的拾取量可以增加，相應地，可以確定地防止通過包括顯影套筒132的成像裝置101形成的圖像不均勻。這樣，顯影套筒132的外表面可以通過4封狄理確定^4^造，從而可防止圖像不均勾。,電磁線圈8的移動，顯影套筒132一狄理，並且同時磁性磨料顆粒65快速/A^走轉磁場中出來。結果，作用在磁性磨料顆粒65上的磁場強度快速變化(下降)。該變化使已經按》辦排列的磁性磨料顆粒65位移，並且因otl^茲化減弱。因此，電磁線圈8的移動產生處理顯影套筒132和同時清除磁性磨料顆粒65的剩餘3茲'1"生的4乍用。如上所述，除了表面處理裝置1之外該結構不需要用於清除磁性磨料顆粒65剩餘磁性的設備。相應地，磁性磨料顆粒65可以容易地消磁，並且可以長時間在顯影套筒132上進行連續的處理，從而表面處理的處理效率增強。因此，可能獲得作為基於顯影套筒132高容量製造的大量生產裝置的表面處理裝置1。將顯影套筒132保持在容器9的中央，使磁性磨料顆粒65和顯影套筒132的夕卜表面M上均勻碰撞。接下來，顯影套筒132的外表面可以被均勻地處理。由於磁性磨料顆粒65繞顯影套筒132的外圓周移動(旋轉)，磁性磨料顆粒65可以確定地和處理目標物的夕卜表面碰撞，並且因此顯影套筒132可以確定地處理。通過旋轉顯影套筒132,磁性磨料顆粒65和顯影套筒132的外表面均勻碰撞，顯影套筒132的外表面可更均勻地處理。採用總長度比容器9短的電磁線圈8,可產生強旋轉磁場，產生在容器9中的浪費的旋轉磁場減少，與採用包括總長vl^等於容器9的電磁線圈8的表面處理設備的情"L^目比。結果，在顯影套筒132上的處理效率可以提高，並且可以節省功率消耗。而且，由於電磁線圈8比容器9短，容器9的兩端可4皮彎曲。這種固定防止容器9隨著磁性磨料顆粒65的運動等振蕩(移動)。結果，可能使磁性磨料顆粒65和顯影套筒132的外表面石並撞更均勻，並且因此更均勻地處理顯影套筒132的外表面。由於容器9具有圓筒形狀，當旋轉磁場作用到磁f生磨料顆粒65上時，容器9不a礙磁性磨料顆粒65在圓周方向的運動。相應地，可以實觀3急定的處理。分隔部分55沿長度方向分隔容器9內部的空間。因此，通過用分隔部分55限制磁1"生磨料顆粒65的可移動區域(旋轉/公轉區域)，可以進行更有效的處理。而且，可以防ibf茲性磨津牛顆粒65移動遠離分隔元件55。這使磁性磨料顆粒65和旋轉石茲場分別確定M^目互移動成為可能，並且因此確定地使磁性磨料顆粒65消磁。分隔元件55由非磁性材料構成，並Jj目應地不負W茲化。由於該原因，分隔元件55不M護^茲性磨料顆粒65的運動，磁化的刮屑等也不會吸引並粘附到分隔元件55上。相應;也，可以進#^、定的處理。通過提供多個分隔元件55，一次要^f造的區域可被限制成顯影套筒132夕卜表面的特定部分。因此，分隔元件55確定地限制磁性磨料顆粒65的可移動區域(旋轉/公轉區域)，並且因此可以進行更有^i也處理。另外，由於可以防jii^茲性磨料顆粒65移動遠離分隔元件55，磁性磨料顆粒65可以確定;也消》茲。採用單結構的外壁用於容器9的圓筒元件150,可以使電磁線圈8和顯影套筒132之間的矩離縮短，並且因此由電磁線圈8產生的旋轉磁場可以更有效地用於處理。密封板53的使用使防ibf茲性磨料顆粒65從容器9中出來成為可能，並且因此提高在處理時的可操作性和生產力。如果進行連續處理，該效果可以進一步增大。這樣，表面處理裝置1可以加工(處理)顯影套筒132，作為基於高容量處理的^M^莫生產裝置。另夕卜，處理目標物2上的表面粗4狄理完成後即刻，可移動保持單元6可以移動處理目標物2到測量表面粗45i復的測量位置，同時中空4呆持元件32保持在處理對象物2中。因此，處理目標物2上的表面粗糙處理完成後即刻，可以測量處理目標物2的表面^U隨。相應地，可能縮M^面粗4^t理和4劃造測量之間的時間周期。因此，與使用專門的測量裝置的傳統情"L4目比，顯影套筒132的生產力可以增加。通過反射型位移計80測量處理目標物2外表面上的凹凸，同時驅動馬達33繞軸向中心P旋轉處理目標物2，處理目標物2由中空^#元件32保持。以這種方式，可以獲得在處理目標物2圓周方向的測量結果。因此，可以獲得高可靠性的測量結果。通it^Jt型位移計80,測量處理目標物2的夕卜表面上的粗4嫂，可以獲得高解析度和高精度的處理目標物2的輪廓曲線。控制設備76在由反射型位移計80測量的處理目標物2的圓周方向的輪廓曲線進行FFT，並且判斷處理目標物2是否是缺陷項目，基於得到的頻語中預定波長成分的強度。以這種方式，可容易地進行缺P自/非缺陷判斷，通過預設頻率成分和其用於判斷的強度。接下來，可以容易地製造用於顯影輥115的顯影套筒132,其在長時間保持顯影劑拾取量的穩定，從而可以提供穩定的圖像。在前述成像裝置101中，處理盒106Y、106M、106C和106K每個都包括盒體lll、充電輥109、感itJ支108、清潔刮板112和顯影設備113。根據本發明，但是，處理盒106Y、106M、106C和106K不必需包4舌盒體111、充電輥109、感光鼓108、清潔刮板112，只M個都至少包括顯影設備113。而且，前述實施例中，成像裝置101包括可拆卸;fe^接到裝置主體102的處理盒106Y、106M、106C和106K。才艮據4^發明，然而，成像裝置101可以不必要包括處理盒106Y、106M、106C和106K，只要它包括至少顯影設備113。顯而易見地，在上述實施例中描述的顯影套筒B2的外徑、^茲性磨料顆粒65的尺寸和容器9的圓筒元件50的外徑可以按需改變。而且，考慮倒角部分的曲率半徑，倒角形狀的尺寸、相4造表面的目標粗4造度、處理時間(處理條件)、電磁線圈8往複次數的數量、磁f生磨料顆粒65的耐久性等，理想的為顯影套筒132的兩端選擇合適的形狀。另夕卜，考慮*1|14面的目標*14嫂、處理時間(處理條件)、電磁線圈8的往複次數的數量、磁性磨料顆粒65的耐久性等，也可以確定容納在容器9中的磁1"生磨料顆粒65數量的適當量。隨後，本發明的發明者研磨鋁件使其具有018的外徑，作為處理目標物2、即顯影套筒132、作為前述中空體，並JJt過使用圖8和9中示出的裝置在圓周表面上形成凹凸。處理在下列條件下進行石茲性磨料顆粒65由SUS304製造，每個都採用直徑00.8x5mm;三相交流電源48的電流^iA24A;電磁線圈8的移動i4^L100mm/sec,電磁線圈8的往複次數是3。此時，處理目標物2設置為自由旋轉，負載放置其上，且自由旋轉ii^A300RPM。作為該處理的結果，獲得顯影套筒132的不失見則性Rz的十點高M12pm。顯影套筒132通過^J]由KeyenceCorporation製造的^t^聚焦型LT系列雷射位移傳感器、作為反射型位移計80來測量，並且在以每轉12秒的速度旋轉顯影套筒132—轉的同時從顯影套筒132中以相等間隔獲取18000個數據。用18000數據中的4096數據進行FFT分析。由於包括在數據中的噪聲成分或許在FFT結果中產生不規則的峰值，5個-數據移動平均數被計算來獲得相對于波長的頻譜強度。另外，通過調整位於其上的負載，相似的處理在其它處理目標物2上進行，從而處理目標物2可以分別在2500RPM、4000RPM、5000RPM、6000RPM旋轉。然後，以和3000RPM的情;X^目同的方式，獲取數據並JL^"每個處理目標物2進行FFT分析。作為該過程的結果，獲4*個顯影套筒132的不MJ'JRz的十點高度，也是12^m。測量通過該過程獲得並且用在顯影設備中的每個套筒的性能。通過檢測初始拾取量、初始形成的圖像、^:行10000頁後拾取量的變化率、以及運行10000頁後形成的圖像來i刊介性能。^H介結^表1和圖16中示出。作為本發明的實施例，表1示出了實施例1是套筒通過前述並封狄J錄500RPM變4封造，實施例2是套筒通過^Hif狄理在4000PRM變粗糙，實施例3是套筒通過4站狄J錄3000PRM變粗4造，實施例4是套筒通過4站狄理在2500PRM變粗糙。另外，作為比較例，表1示出了比較例1是同樣尺寸的中空體通過噴沙灃14狄理變鬥對造，比較例2是同樣尺寸的中空體通過噴i5M封狄理類似地變^4造，比較例3是同樣尺寸的中空體通過在6000RPM^4造處理的類似4站造處理，如上所述。圖16是表示比較例1-4和實施例1-4。在這個曲線中，垂直軸是拾取量的變化率，並且水平軸是在不超過lmm的一定波長範圍內的頻譜的峰值強度。tableseeoriginaldocumentpage31表1中的^K介範圍包括E.'表示套筒實際上可j錢性很好；G表示套筒實際上可^J]性好；並且P表示套筒實際上可使用性差。而且，用於該檢測的顯影劑包括載體和調色劑，載體每個都有35|am的直徑，調色劑顆粒的平均顆粒尺寸是從3(am到7pm(含)。載體的平均顆粒尺寸是從20pm到5(^m(含)。根據表1,,A41中顯而易見的是示例1到4的每一個在運行10000頁(10K頁)以後還具有足夠好的可使用性，並且比較例3評價為在實際上工作性很差。結果清楚;44示當拾取量變化率不大於10%時，可獲得實際上可^J)性足夠好的套筒。這裡，圖16示出點劃線，其連接通過使用圖8和9所示的裝置處理其表面的實施例l"4和比較例3的點。這裡，考慮FFT頻譜的峰值強度範圍不大於拾取量變化率的10%，這樣可以獲得實際上可利用性足夠好的套筒，並JL^波長範圍不超過lmm的範圍內。從圖16中清楚地看出，峰值強度不超過12，表示點線和拾取量10%變化率的交點。另外，當拾取量變化率不大於6%時，拾取量變^5J寸圖像質量的影響僅是很小的程度，並且隨著時間過去可以獲得穩定的圖像質量。從圖16中，同樣清楚i錄出，當FFT頻值強度不超過io時，變化率不超過6%。換句話說，明顯的是，在實施例1中，拾取量變化率對圖像質量的影響很小，並錄每個實施例2至4中，拾取量變化率以很小程度影響圖像質量，使得隨著時間變化可以獲得穩定的圖像。相應地，1和圖16中清楚;似尋到，類似實施例1-4的顯影套筒132,被圖8和9的表面處理裝置處理和評價，隨著時間的變化僅經過小的拾取量變化，並且隨著時間的it去，可以^是供穩定的圖^f象質量。而且，拾取量和FFT頻譜的峰值密度之間的關係從圖16中看是很明顯的。結果，代替需要長時間測量的拾取量變化率，可在處理後立即測量的FFT頻譜峰值強度可以用於判斷處理套筒是否有缺陷。通過採用峰值強度，可以確定得顯影套筒132，其僅經過隨時間變化小的拾取量變化，並且可以隨著時間的過去提供穩定圖像。如上所述，下面的方法是作為製造可以提供高圖像質量且可以維持拾取量隨時間穩定的套筒的有效方法。更精確地說，在該方法中，首先，處理目標物2的外表面通過利用處於粗糙處理中產生的旋轉磁場內的磁性磨料顆粒65變粗糙。然後，非接觸型的反射型位移計80固定到測量位置，然後獲得關於處理目標物2外表面的凹凸的數據，同時處理目標物2被旋轉一定角度。這之後，通過利用如此獲取的數據進行FFT分析，算出相對于波長的頻譜強度。然後，M，僅FFT頻i普的峰值強度不超過一定值的處理目標物2被判斷為非缺陷項目。依據本發明實施例，大量橢圓凹痕隨才/l4供在中空體的外表面上，並JUM吏用外表面的輪廓曲線進行頻率分析的結果，在波長不超過lmm的範圍內，頻譜的峰值強度不超過12。相應地，顯影劑保持元件的利用僅給顯影劑很小的壓力，並且因此抑制顯影劑的變差。接下來，顯影劑的拾取量在長時間保持德定，這使得顯影劑形成高質量圖像，長時間內避免密度不均勻。依據本發明實施例，大量橢圓凹痕隨才/l4是供在中空體的外表面上，並且從使用外表面的輪廓曲線進行頻率分析的結果，在波長不超過lmm的範圍內，頻譜的峰值強度不超過10。相應地，施加在顯影劑上的壓力更小，並且因此顯影劑的變形被進一步抑制。接下來，顯影劑的拾取量長時間保彬t、定，這使得顯影劑形成高質量圖像，長時間內避免密度不均勻。依據本發明實施例，通過JI4且麻繩的線型顆粒和外表面的隨才;u並撞形成大量橢圓凹痕。以這種方式，乂人頻率分析的結果中，在不超過lm的波長範圍內，不超過10的頻^f直峰強度的特性容易獲得。依據本發明實施例，由於顯影設備包括依據本發明實施例的顯影劑保持元件，顯影設備可以形成長時間內可it^不均勻的高質量圖像。依據本發明實施例，磁性顆粒的直徑是從20pm到50pm(含)。相應地，顯影劑的4錢使它可隨時間過去，獲得具有優秀圖像粒度的穩定的圖像。依據本發明實施例，磁)"生顆粒具有樹脂劍莫，磁性才村轉'J成的核心元件^t其中。使用的樹脂覆膜包括充電控制劑和通過由三聚^^樹脂和諸如丙烯的熱塑性樹脂之間交聯形成的樹脂成分。該結構磁性顆4錄表面磨損性上更優越，並且因此顯影劑的^JD使它可隨時間濟L^，獲得具有優秀粒度的穩定圖像。依據本發明實施例，由於處理盒包括依據本發明實施例的顯影設備，可提供粒度小且優秀的成像裝置，並且也f議能夠提供沒有不均勻的高質量圖像。4^據本發明實施例，由於成像裝置包括依據本發明實施例的處理盒，可提供粒度小且優秀的成像裝置，並且也IU^能夠提供沒有不均勻的高質量圖像。依據本發明的實施例，輪廓曲線在圓周方向被測量，同時在4對造化中空體後旋轉中空體，進^^皮如此測量的輪廓曲線的頻率分析，並且然後通過和預定判斷標準比較頻率分析的結果，進行判斷，從而確定中空體是否是缺陷項目。相應地，通過預定判斷標準，缺陷/非缺陷判斷可以容易地進行。結果，可能容易地製造用於顯影輥的顯影劑保持元件，由於顯影劑拾取量維持在長時間維#^急定，其可以提供穩定的圖像。需要注意本發明不限於前述實施例。換句話說，本發明可以修改並以在不背離本發明實質的前提下以不同方式實現。權利要求1、一種顯影劑保持元件，其包括石茲場產生設備；以及中空體，該中空體在其內部包含磁場產生設備，並且用磁場產生設備的磁力將顯影劑吸附到其夕卜表面上，其中中空體的夕卜表面隨才;u械供有大量凹痕；並且在波長範圍不大於lmm的範圍內的頻譜J^值不超過u，其中該頻語是通過使用夕卜表面圓周方向的輪廓曲線進^M率分析來計算出。2、根據權利要求所述的顯影劑保持元件，其中在不超過lmm的波長範圍內的頻譜Jf^直不超過10。3、根據權利要求1或2所述的顯影劑保持元件，其中大量凹^it過線型顆粒和中空體夕卜表面的隨才;U並撞來形成。4、一種顯影設備，包括根據權利要求1或2所述的顯影劑保持元件。5、才艮據權利要求4所述的顯影設備，其中，所述顯影劑包括顆粒尺寸在20jim到50jim(含)範圍內的磁性顆粒。6、根據權利要求5所述的顯影設備，其中磁性顆粒具有包括樹脂覆膜的結構，由磁l"生材料製成的核心元件由該樹脂覆膜覆蓋，並且該樹脂覆膜包括充電控制劑和通過在三聚ll^樹脂和諸如丙烯的熱塑性樹月旨之間進行交聯而獲得的樹脂成分。7、—種處理盒，包括根據權利要求4所述的顯影設備。8、一種處理盒，包括根據權利要求5或6所述的顯影設備。9、一種成像裝置，包括根據權利要求7所述的處理盒。10、一種成像裝置，包括根據權利要求8所述的處理盒。11、一種製造中空體的方法，該中空體的外表面隨才Mki是供有大量凹痕，所述方法包括以下步驟在中空體的外表面上提供大量凹痕；在旋轉該中空體的同時，獲得夕卜表面在圓周方向的輪廓曲線；進行所獲得輪廓曲線的頻率分析；和通過將頻率分析結果^f貞定判斷標〉斜目比較，判斷中空體的質量。全文摘要本發明涉及一種顯影劑保持元件，其包括磁場產生設備和其內部包含磁場產生設備的中空體，並且用磁場產生設備的磁性力將顯影劑吸附到其外表面上。中空體的外表面隨機地提供有大量凹痕；並且在波長範圍不大於1mm的範圍內的頻譜峰值不超過12，其中頻譜通過使用外表面圓周方向的輪廓曲線進行頻率分析來計算出。文檔編號G03G21/18GK101122763SQ200710142110公開日2008年2月13日申請日期2007年7月10日優先權日2006年7月10日發明者中村茂治,今村剛,大澤正幸,寺嶋美惠子,渡辺將樹,神谷紀行,肥塚恭太,阿部紘也,高野善之申請人:株式會社理光