放射線圖像轉換板及其製法的製作方法
2023-04-23 03:46:41 1
專利名稱：放射線圖像轉換板及其製法的製作方法
技術領域：
本發明涉及用於形成被照射體的放射線圖像時的放射線圖像轉換板。
背景技術：
從前，X射線圖像之類的放射線圖像廣泛用於在醫療現場診斷病況。特別是，採用增敏紙-底片類的放射線圖像，在漫長的歷史中謀求高靈敏度和高圖像質量的結果，作為兼具高可信性和優異的性能成本比的攝像系統，目前在全世界範圍內，仍然在醫療現場使用著。近年來，以輝盡性螢光體板作為放射線圖像轉換板而使用的計算放射線圖像(CR(computed radiography))已經商品化，高靈敏度化和圖像質量的改善也正在日新月異的發展。
上面所說的「輝盡性螢光體板」，是蓄積透過被照射體的放射線，並通過激發光的照射等，將蓄積的放射線以根據其線量的強度進行輝盡發光的板，並且具有在規定的基板上輝盡性螢光體形成層狀的結構。這樣的輝盡性螢光體板的製造方法的一例在專利文獻1中已公開。關於在專利文獻1中記載的方法，是通過眾所周知的氣相沉積法在規定的基板上形成輝盡性螢光體層而製造輝盡性螢光體板，並對該輝盡性螢光體板進行熱處理(參見段落編號0034、0035)。
因此，在將上述輝盡性螢光體板作為放射線圖像轉換板使用時，通常是，通過將輝盡性螢光體板夾在兩片樹脂制的膜之間並對所述的各膜的側邊部彼此加熱·熔合，將螢光體板封入該膜之間。這裡，在適當的溫度下膜不被加熱·熔合時，輝盡性螢光體板的輝盡性螢光體層與膜之間不能形成期望的空隙(輝盡性螢光體層與膜密合而空隙變窄到必要以上)，有可能在放射線圖像上發生圖像不均或線狀噪音(線狀ノイズ)。
專利文獻1特開2003-279696號公報發明內容本發明的目的在於，提供一種可以防止圖像不均或線狀噪音發生的放射線圖像轉換板及其製造方法。
用於達到上述目的的本發明的方案之一，是具有下述工序的放射線圖像轉換板的製造方法即，採用氣相沉積法在規定的基板上形成輝盡性螢光體層的螢光體板形成工序、在滷化溶劑的氣體氛圍氣氛中加熱上述螢光體板的加熱工序、在上述加熱工序之後將上述螢光體板配置在兩片樹脂制的膜之間，並對上述各膜的周邊部分施加最低熱封溫度150℃以上的熱來加熱·熔合上述各膜彼此的周邊部分的熱封工序。
圖1是放射線圖像轉換板的斷面圖。
圖2是螢光體板的放大斷面圖。
具體實施例方式
本發明的上述目的是通過以下的方案實現的。
(1)一种放射線圖像轉換板的製造方法，其包括在規定的基板上以氣相沉積法形成輝盡性螢光體層的螢光體板形成工序、在滷化溶劑的氣體氛圍氣下加熱上述螢光體板的加熱工序、在上述加熱工序之後，將上述螢光體板配置在兩片樹脂制的膜之間，對上述各膜的周邊部分施加最低熱封溫度150℃以上的熱將上述各膜的周邊部分彼此加熱·熔合的熱封工序。
(2)上述(1)所述的放射線圖像轉換板的製造方法，其特徵在於，上述最低熱封溫度是150～171℃。
(3)上述(1)或(2)所述的放射線圖像轉換板的製造方法，其特徵在於，上述滷化溶劑是HFE。
(4)上述(1)～(3)中任一項所述的放射線圖像轉換板的製造方法，其特徵在於，上述滷化溶劑含有吸收激發光的著色材料。
(5)一种放射線圖像轉換板，其是按照上述(1)～(4)中任一項所述的放射線圖像轉換板的製造方法製造的。
下面，參照附圖對實施本發明的最佳方式進行說明。但是，發明的範圍並不限定於附圖所示的例子。
圖1是放射線圖像轉換板1的斷面圖。
如圖1所示，放射線圖像轉換板1具有在規定的基板2上形成了輝盡性螢光體層3的螢光體板4。
基板2呈長方形(短形狀)。基板2由高分子材料、玻璃、金屬等構成，特別優選，由醋酸纖維素膜、聚酯膜、聚對苯二甲酸乙二醇酯、聚醯胺膜、聚醯亞胺膜、三醋酸酯膜、聚碳酸酯膜等塑料膜，石英、硼矽酸玻璃、化學強化玻璃等板玻璃，或鋁、鐵、銅、鉻等金屬片或具有這些金屬氧化物包覆層的金屬片構成。
基板2的表面2a(圖1中上面)既可以是光滑面，也可以是粗糙面。在基板2的表面2a上，為了提高與輝盡性螢光體層3的粘接性也可以設置底塗層，並且為了防止激發光透過基板2入射到輝盡性螢光體層3上還可以設置光反射層。
輝盡性螢光體層3由CsBr:Eu等公知的輝盡性螢光體構成，並可通過蒸鍍法、濺射法、CVD(Chemical Vapor Deposition)法、PVD(Physical VaporDeposition)法、離子鍍法等公知的氣相沉積法形成。輝盡性螢光體層3既可以由一層構成，也可以由兩層以上的層構成。
圖2是螢光體板4的放大斷面圖且是宏觀地觀察輝盡性螢光體層3的斷面圖。
如圖2所示，輝盡性螢光體層3具有由輝盡性螢光體構成的多個柱狀結晶3a、3a、...相互空出間隔而排列的柱狀結構。各柱狀結晶3a以規定的角度對基板2的表面2a的法線R傾斜著。在圖2中輝盡性螢光體層3由包含多個柱狀結晶3a、3a、...的一層構成，但是該輝盡性螢光體層3也可以具有包含多個柱狀結晶3a、3a、...的層2層以上疊層了的層狀結構，不管層數有多少，但總層厚可以形成為50μm以上，優選300～500μm。
如圖1所示，具有上述結構的螢光體板4，介於配置在輝盡性螢光體層3上面的防溼性的第1保護膜10和配置在基板2的下面的防溼性的第2保護膜20之間。
第1保護膜10具有比螢光體板4稍大的面積，並在與螢光體板4的輝盡性螢光體層3實質上不接觸的狀態下，其周邊部分比螢光體板4的周邊部分更向外側地延伸出。所說的「第1保護膜10與輝盡性螢光體層3實質上不接觸的狀態」，是指第1保護膜10與輝盡性螢光體層3在光學上不是一體化的狀態，具體地，是指第1保護膜10與輝盡性螢光體層3的接觸面積是輝盡性螢光體層3的表面(與第1保護膜10相對的面)的面積的10％以下的狀態。
另一方面，第2保護膜20也具有比螢光體板4稍大的面積，且其周邊部分比螢光體板4的周邊部分更向外側地延伸出。
在放射線圖像轉換板1中，第1，第2保護膜10，20的各周邊部分彼此在整個圓周熔合，並且第1，第2保護膜10，20具有完全密封螢光體板4的結構。第1，第2保護膜10，20通過密封螢光體板4，能確實防止水分向螢光體板4的浸入，從而達到保護螢光體板4的目的。
如在圖1中示出的上部的放大圖，第1保護膜10具有疊層了第1層11、第2層12、第3層13的3層的疊層結構。
第1層11是通過空氣層14與螢光體板4的輝盡性螢光體層3相對的層，是由具有熱熔粘合性的樹脂構成的。作為「具有熱熔粘合性的樹脂」，可以舉出，乙烯-醋酸乙烯共聚物(EVA)、鑄塑聚丙烯(CPP)、聚乙烯(PE)等。
第2層12是由氧化鋁、二氧化矽等金屬氧化物構成的層，並採用公知的蒸鍍法蒸鍍在第3層13的下面。第2層12是強化第1保護膜10的防溼性能的層，但是沒有也行。
第3層13疊層在第2層12上，並由聚對苯二甲酸乙二醇酯(PET)等樹脂構成。
因此，具有用金屬氧化物構成的第2層12的第1保護膜10，具有優異的加工性和透明性，並且在防溼性和氧氣透過性的性質方面不易受溫度和溼度的影響。因此，該第1保護膜10可適用於，不受環境影響地要求穩定的圖像質量的輝盡性螢光體利用型的醫療用放射線圖像轉換板1。
另外，可以在第3層13上疊層1層或2層以上與第1層11相同的層、與第2層12相同的層、與第3層13相同的層或者由與第1層11、第3層13不同的樹脂構成的層。
特別是，在第3層13上疊層與由氧化鋁、二氧化矽等金屬氧化物構成的第2層12相同的層時，第1保護膜10可以根據相當於該第2層12的層的疊層數發揮最適合的防溼性能。作為第2層12或與其相同的層的疊層方法，只要是公知的方法哪一種方法都可以使用，但從操作性方面看，優選使用按照幹層壓方式的方法。
如在圖1中示出的下部的放大圖，第2保護膜20具有疊層了第1層21、第2層22、第3層23的3層的疊層結構。
第1層21是通過空氣層24與螢光體板4的基板2相對。第1層21由與上述第1保護膜10的第1層11相同的樹脂構成，且其周邊部分與第1保護膜10的第1層11熔合。
第2層22是層壓在第1層21下面的層，並且由鋁構成。第2層22是提高第2保護膜20的防溼性能的層，但是沒有也可以。
第3層23層壓在第2層22下面，並且由PET等樹脂構成。
另外，第3層23的下面也可以疊層1層或2層以上與第1層21相同的層、與第2層22相同的層、與第3層23相同的層或者由與第1層21、第3層23不同的樹脂構成的層。
下面，對於放射線圖像轉換板1的製造方法進行說明。
首先，準備規定的基板2，並在該基板2上採用眾所周知的氣相沉積法形成輝盡性螢光體層3(下面叫做「輝盡性螢光體層形成工序」)。
例如，多數存在的眾所周知的氣相沉積法中，對於採用蒸鍍法形成輝盡性螢光體層3的情況進行簡單說明時，如圖2所示，將基板2固定·設置在蒸鍍裝置內的基板架上，使該蒸鍍裝置內排氣成為真空狀態。然後，通過電阻加熱法、電子束法等方法以輝盡性螢光體作為蒸鍍源加熱·蒸發該輝盡性螢光體，在基板2的表面2a上使輝盡性螢光體成長到成為期望的厚度，從而在基板2上形成輝盡性螢光體層3。
這裡，對於固定在蒸鍍裝置內的基板架上的基板2的表面2a的法線R，將輝盡性螢光體的蒸氣流的入射角度設定為θ2，將要形成的柱狀結晶3a的傾斜角度設定為θ1時，經驗上傾斜角度θ1大約是入射角度θ2的一半，以對應於入射角度θ2的傾斜角度θ1形成多個柱狀結晶3a、3a、...。即，只要在入射角度θ2＝60°的條件下將輝盡性螢光體的蒸氣流入射到基板2的表面2a上，就可以在該基板2的表面2a上形成傾斜角度θ1＝30°的多個柱狀結晶3a、3a、...。
作為對於基板2的表面2a以規定的入射角度供給輝盡性螢光體的蒸氣流的方法有，將基板2對於蒸鍍源以傾斜的方式進行配置的方法、將基板2和蒸鍍源相互平行地配置，通過狹縫等只將輝盡性螢光體的蒸氣流的傾斜成分從蒸鍍面蒸發的方法等。
當輝盡性螢光體層形成工序的處理結束時，將螢光體板4設置在公知的恆溫槽的內部並使該恆溫槽的內部成為有機溶劑氣體氛圍氣氛，在該氛圍氣氛下將螢光體板4在100℃以上(優選100℃～160℃)加熱規定的時間(以下叫做「加熱工序」)。
這裡，對於可以在加熱工序中使用的「有機溶劑」進行說明。
作為該有機溶劑優選使用滷系溶劑。所述的滷系溶劑是包含烴類化合物中至少一個氫原子被F、Cl、Br、I等屬於滷素的原子取代的化合物的溶劑。該滷系溶劑可以是，在結構中各元素彼此的鍵合只由飽和鍵構成的化合物，或者是含有不飽和鍵的化合物，或者是環狀的化合物，或者是鏈狀的化合物，或者是化合物中的原子或分子被羥基、醚基、羰基、羧基取代的化合物。
作為可以優選使用的作為該滷系溶劑的化合物是，(1)從供給加熱處理之點(從有關著火性或爆炸性等消防法的觀點看要求沒有著火點等特性之點)的觀點上看，是沒有著火點的不燃性溶劑。在這種情況下，可以不考慮待使用的滷系溶劑的種類而任意地設定加熱溫度，但優選在使加熱溫度在著火點以下的溫度下進行。
另外，從包括上述(1)的觀點，(2)環境適應性(3)對生物體的有害性等的觀點看，認為進入最近話題的氟利昂代替材料是有用的。其中，可以優選使用上述(2)、(3)優異的最新的氟利昂代替材料的「HFE(氫氟醚(ハイドロフルオロエ—テル))」作為該滷系溶劑。
HFE包含碳、氟、氫一個以上的醚氧原子，而且還可以含有組合進入碳主鏈中的一個以上的雜原子，例如，硫或三價氮原子。HFE可以呈直鏈狀、可以呈分枝狀、可以呈環狀、或者也可以具有由這些的組合構成的結構，例如，可以是烷基脂環式。但是，HFE優選不含有不飽和鍵。
作為具體的HFE，可以使用以下述通式(4)表示的化合物作為其一個例子。
(R4-O)a-R5---(4)上述通式(4)中，「a」是1～3的數，「R4」和「R5」是選自烷基和芳基的基團，彼此可以相同也可以不同。至少「R4」和「R5」中的一個是含有至少一個氟原子，和至少一個氫原子的基團，「R4」和「R5」中的任一個或兩個還可以在鏈中含有一個以上雜原子，優選的HFE是在該HFE中的氟原子總數在氫原子總數以上。「R4」和「R5」可以呈直鏈狀、可以呈分枝狀、可以呈環狀、進一步地說還可以含有一個以上的不飽和碳-碳鍵，但是「R4」和「R5」兩者都優選在各元素之間是飽和鍵合的原子團。
作為具有這樣的性質的HFE，例如有住友3M株式會社制的ノベツク(註冊商標)HFE-7100、7100DL、7200或ダイキン工業株式會社制的HFE-S7(商品名)等，優選使用這些市售的HFE作為在該加熱工序中可以使用的滷系溶劑。
另外，在上述滷化溶劑中還可以含有吸收激發光的「著色材料」。由於在滷化溶劑中含有著色材料，且在加熱工序中該著色材料浸入到各柱狀結晶3a的間隙的各個角落，可以防止入射到各柱狀結晶3a的間隙的激發光的散射。
所用的著色材料可以根據輝盡性螢光體的種類而決定。對於放射線圖像轉換板1，通常可以使用，通過波長400～900nm的激發光顯示波長300～500nm的輝盡發光的輝盡性螢光體，因此，作為著色材料，可以使用青色～綠色的有機類著色材料或無機類著色材料。
作為青色～綠色的有機類著色材料，可以舉出，Neozapon Blau 807(BASF社制)、柚子堅牢藍3G(ザボンフア一ストブル一3G)(ヘキスト社制)、エストロ一ルブリルブル一N-3RL(住友化學(株)制)、スミアクリルブル一N-3RL(住友化學(株)制)、DCブル一No.1(ナシヨナル·アニリン社制)、スピリツトブル一(保土谷化學(株)社制)、オイルブル一No.603(オリエント(株)制)、キトンブル一A(チバ·ガイギ-社制)、アイゼンカチロンブル一GLH(保土ケ谷化學(株)制)、レイクブル一AFH(協和產業制)、プリモシアニン6GX(稲畑產業(株)制)、ブリルアシツドグリ一ン 6BH(保土谷化學(株)制)、シアニンブル一BNRS(東洋インキ(株)制)、ライオノルブル一SL(東洋インキ(株)制)等。另一方面，作為青色～綠色的無機類著色材料，可以舉出，群青、鈷藍、錫酸鈷藍、氧化鉻、TiO2-Zn-CoO-NiO類顏料等。
在上述滷化溶劑中，除了著色材料以外，還可以含有高吸收光的物質、高光反射的物質等填充材料。只要將高吸收光的物質、高光反射的物質等填充材料填充到各柱狀結晶3a的間隙中，則可以有效地降低入射到輝盡性螢光體層3的輝盡激發光向橫向的光擴散。
當加熱工序的處理結束時，將螢光體板4直接放置在恆溫槽的內部規定的時間，並使螢光體板4冷卻直到螢光體板4降溫至規定的溫度(下面叫做「放置冷卻工序」)。例如，將螢光體板4放置在恆溫槽的內部1小時以上，使螢光體板4冷卻直到螢光體板4的溫度下降至50℃附近。
當放置冷卻工序的處理結束時，從恆溫槽中取出螢光體板4，將取出的螢光體板4配置在兩片第1、第2保護膜10、20之間。此時，將第1保護膜10的第1層11與第2保護膜20的第1層21對置。然後在該狀態下，將第1、第2保護膜10、20的各周邊部分用脈衝密封器加熱·熔合(熱封)，將螢光體板4密封到第1、第2保護膜10、20的之間(下面叫做「熱封工序」)。如上所述，通過進行從輝盡性螢光體層的形成工序到密封工序的各種處理，可以製造放射線圖像轉換板1。
這裡，在熱封工序的處裡中，對於第1、第2保護膜10、20的各周邊部分由脈衝密封器施加最低熱封溫度150℃以上的熱。
所述「最低熱封溫度」是指，在對於第1、第2保護膜10、20的各周邊部分由脈衝密封器經1.0秒鐘施加0.2MPa的擠壓力的同時將第1、第2保護膜10、20的各周邊部分之間加熱·熔合的場合，令沒有基膜燒傷(ベ一スヤラレ)(由於過熱導致的第1、第2保護膜10、20的熱收縮·燒焦)並可以密封的溫度下的最大熱封粘接力為「Fmax」，令任意溫度下的熱封粘接力為「Fh」時，滿足下述式(5)的條件的最低加熱溫度。
Fh/Fmax≥0.75... (5)所述規定「Fmax」，「Fh」的「熱封粘接力」是指，將剛熱封后的第1、第2保護膜10、20在溫度23℃，相對溼度50％的溫溼環境下放置2小時後測定的粘接力，在該粘接力的測定中可以使用市售的推拉壓力表。
按照以上的實施方式，在熱封工序的處理中由於對第1、第2保護膜10、20的各周邊部分由脈衝密封器施加最低熱封溫度為150℃以上的熱，則可以在螢光體板4的輝盡性螢光體層3與第1保護膜10之間形成希望的空氣層14(空隙)的狀態下，將螢光體板4密封在第1、第2保護膜10、20之間。由此，可以飛速地提高放射線圖像轉換板1的輝盡發光量，進而還可以防止放射線圖像中的圖像不均或線狀噪音的發生(參照下面的實施例)。
實施例在本實施例中，製作設定放射線圖像轉換板的多個種類的試樣，評價這些中的各個試樣的圖像質量(有無圖像不均、線狀噪音)。
(1)試樣的製作(1.1)螢光體板的製作準備大小為10cm×10cm，厚度為500μm的透明結晶化玻璃作為基板，在基板的一側的面上形成光反射層。光反射層的形成，是通過使用眾所周知的蒸鍍裝置將氧化鈦(フルウチ化學社制)和氧化鋯(フルウチ化學社制)蒸鍍在基板上而進行的。調節膜的厚度以使該光反射層對于波長400nm的光的反射率為85％，而對于波長660nm的光的反射率為20％。
然後，在基板的反射層上蒸鍍包含CsBr:Eu輝盡性螢光體，在基板的光反射層上形成輝盡性螢光體層。具體地，首先，將形成基板的光反射層的面面向蒸鍍裝置的蒸鍍源的狀態下將基板固定在蒸鍍裝置內的真空室內並將真空室內加溫到240℃，在該狀態下向真空室內導入氮氣並使真空室內成為0.1Pa的真空度，此時，使蒸鍍源與基板的距離成為60cm。
然後，在蒸鍍源與基板之間配置鋁製的狹縫，以便對於形成基板的光反射層的面的法線方向以30°的角度入射輝盡性螢光體的蒸氣。然後，一邊沿面方向輸送基板一邊進行蒸鍍，在基板的光反射層上形成具有500μm厚的柱狀結構的輝盡性螢光體層，從而製造螢光體板(輝盡性螢光體層形成工序)。
(1.2)試樣1的製作將上述(1.1)製作的螢光體板設置在公知的恆溫槽中在HFE(住友3M(株)制ノベツクHFE-7100(C4F9OCH3))氣體氛圍氣下於140℃加熱1小時(加熱工序)再將該螢光體板直接放置在恆溫槽的內部1小時左右進行冷卻(放置冷卻工序)。
除了加熱工序、放置冷卻工序以外，再使用2液反應型的聚氨酯類粘接材料並通過幹層壓方式將膜厚40μm的聚丙烯膜(東セロ(株)制聚丙烯膜RXC36)、和蒸鍍了氧化鋁的膜厚12μm的PET膜(VMPET12，東洋メタライジング社制)貼合在一起製作保護膜。
當結束加熱工序、放置冷卻工序的各處理並製作出2片保護膜時，以使各保護膜的聚丙烯膜(密封層)之間相對的狀態在保護膜之間配置完成加熱的螢光體板，並將這些配置在真空室內。然後，將真空室內的壓力減壓到200Pa，同時向真空室內流入氦氣對真空室內進行氣體置換，然後，再將真空室內的氣壓調節到7000Pa。
在該減壓下，由脈衝密封器(加熱幅度為8mm)對各保護膜的周邊部分施加最低熱溫度為140℃的熱，使該周邊部分彼此相互加熱·熔合，將螢光體板密封在2片保護膜之間(熱封工序)。並將其作為「試樣1」。(在該試樣1的製作中的加熱工序、熱封工序的條件等均示於下述表1中。
(1.3)試樣2，4，5的製作上述(1.2)的內容中，將加熱工序、熱封工序的各處理條件(包含保護膜的密封層的種類)變更為如下述表1所示的，除此之外與上述(1.2)同樣地製作「試樣2，4，5」。但是，在試樣4，5的製作中，在加熱工序的處理在HFE中含有著色材料(BASF社制Neozapon Blau 807)(著色材料的含有率為0.03重量％)。
(1.4)試樣3的製作將上述(1.1)製作的螢光體板設置在公知的恆溫槽中在氮氣氛圍氣下於100℃加熱1小時。然後，上述(1.2)的內容中，將加熱工序、熱封工序的各處理條件(包含保護膜的密封層的種類)變更成如下表1所示的，除此之外與上述(1.2)同樣地製作「試樣3」。但是，在試樣3的製作中，在加熱工序的處理中在HFE中含有著色材料(BASF社制Neozapon Blau 807)(著色材料的含有率為0.03重量％)。
(2)圖像質量(有無圖像不均、線狀噪音)的評價從各試樣的裡面(沒有形成輝盡性螢光體層的面)照射管電壓80kVp的X射線。然後，在各試樣的表面(形成輝盡性螢光體層的面)上掃描半導體雷射使該輝盡性螢光體層激發，每個試樣通過受光器(分光感度S-5的光電子像倍管)接受從該輝盡性螢光體層放射的輝盡發光的光量(光強度)的光並轉換成電信號。然後，基於轉換後的電信號在將圖像放大2倍的狀態下從眾所周知的印表機列印輸出，通過目視觀察該列印輸出後的圖像來評價圖像質量(有無圖像不均、線狀噪音)。
上述圖像質量的評價是，對於各試樣，在剛製作後(初期)、和製作後在溫度40℃，相對溼度90％的溫溼環境下保持14天後，一共進行兩次。在圖像質量的評價中，將各試樣在上述溫溼環境下保持14天是為了在短時間內評價各試樣隨時間的劣化(由於溼度引起的變動)。評價結果示於表1。但是，表1中，「A」、「B」、「C」的評價基準按照下述的基準。
A...完全沒有圖像不均、線狀噪音B...在圖像的1，2處可以確認到淺的圖像不均、線狀噪音C...在圖像的3，4處可以確認到淺的圖像不均、線狀噪音表1
如表1所示可知，在對各保護膜的周邊部分施加最低熱封溫度150℃以上的熱的試樣2～5中，圖像質量的評價結果優異，在對各保護膜的周邊部分施加最低熱封溫度150℃以上的熱使保護膜彼此加熱·熔合是有用的。
工業實用性按照本發明，由於在熱封工序中對各膜的周邊部分施加最低熱封溫度150℃以上的熱，就可以在螢光體板的輝盡性螢光體層與膜之間以形成成希望的空隙的狀態將螢光體板密封在膜之間。由此，可以飛速地提高輝盡發光量，進而可以防止放射線圖像中的圖像不均或線狀噪音的發生。
權利要求
1.一种放射線圖像轉換板的製造方法，其包括螢光體板形成工序，所述工序是通過氣相沉積法在規定的基板上形成輝盡性螢光體層的工序、加熱工序，所述工序是在滷化溶劑的氣體氛圍氣下加熱上述螢光體板的工序、熱封工序，所述工序是在上述加熱工序之後，將上述螢光體板配置在2片樹脂制的膜之間，對上述各膜的周邊部分施加最低熱封溫度150℃以上的熱將上述各膜的周邊部分彼此加熱/熔合的工序。
2.權利要求1所述的放射線圖像轉換板的製造方法，其中，上述最低熱封溫度為150～171℃。
3.權利要求1所述的放射線圖像轉換板的製造方法，其中，上述滷化溶劑是HFE。
4.權利要求1所述的放射線圖像轉換板的製造方法，其中，上述滷化溶劑含有吸收激發光的著色劑。
5.一种放射線圖像轉換板，其是根據權利要求1所述的放射線圖像轉換板的製造方法製造的。
全文摘要
本發明涉及放射線圖像轉換板的製造方法，其包括通過氣相沉積法在規定的基板上形成輝盡性螢光體層的螢光體板形成工序、在滷化溶劑的氣體氛圍氣下加熱上述螢光體板的加熱工序、在上述加熱工序之後，將上述螢光體板配置在2片樹脂制的膜之間，對上述各膜的周邊部分施加最低熱封溫度150℃以上的熱將上述各膜的周邊部分彼此加熱/熔合的熱封工序。
文檔編號G03B42/02GK101069243SQ20058004109
公開日2007年11月7日 申請日期2005年11月29日 優先權日2004年12月6日
發明者工藤伸司, 莊子武彥 申請人:柯尼卡美能達醫療印刷器材株式會社