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一種真空吸盤的製作方法

2023-04-25 02:48:41 2

專利名稱:一種真空吸盤的製作方法
技術領域:
本實用新型涉及的是一種真空吸盤領域,尤其是一種在半導體生產中用於承載矽 片的真空吸盤。
技術背景在半導體製造過程中需要對晶圓片單片進行操作,因為在操作過程中需要避免與 人體接觸,所以需要將晶圓片放置在一種載具上且進行固定,以方便對晶圓片表面進行操 作,目前普遍使用的是真空吸盤載具。現有技術的真空吸盤存在如下缺點其一,吸盤大多將真空管路設置在吸盤的側 面,通過螺釘固定在設備上,不可轉動,不利於表面塗覆的液態材料的均勻分布;其二,表 面吸盤採用密集的通氣孔與真空管路相連或表面為一較大的凹室與真空管路相連,採用大 面積凹室的吸盤在控制不好真空管路氣量的情況下容易對放置在表面的晶圓片造成傷害 (引起斷裂或造成暗紋);其三,全部採用密集的通氣孔時,意外流到吸盤上的液態材料容 易堵塞吸氣孔,需經常性進行清理,且清理時需將每個通氣孔清理乾淨,確保通暢;這樣清 理起來較為複雜,不利於提高工作效率;其四,部分真空吸盤採用陶瓷等材料,不利於電荷 的導通,不利於操作過程中產生的靜電釋放,容易對晶圓片造成電氣傷害。這是現有技術所 存在的不足之處。
發明內容本實用新型的目的,就是針對現有技術所存在的不足,而提供一種新型簡單實用 的一種真空吸盤。本方案是通過如下技術措施來實現的包括有真空管路、吸盤、動力裝置, 在上述吸盤上設置驅動機構。設置驅動機構的目的就是使吸盤能夠轉動,利於表面塗覆的 液態材料均勻分布。本使用新型採用的吸盤是由表面吸盤和底部吸盤組成,並在其結合面塗覆密封物 質。目的是保證結合面嚴密,防止氣體洩漏。表面吸盤上設置有多個同心的圓形凹槽,在所述圓形凹槽上設置一組吸氣孔,並 在所述表面吸盤底面的圓周外圈設置一組均勻分布的吸盤柱腳。上述吸氣孔是均勻分布在 所述表面吸盤的所述圓形凹槽內,並成米字型排列。本實用新型採用通氣孔,圓形凹槽及表 面下部真空室相結合,在放置圓片時可以以圓形凹槽為準進行初步的對準放置,採用本結 構既降低了清理時的複雜程度又避免了表面大面積凹室結構對晶圓片造成的傷害,同時有 液態物質流到吸盤上時會通過吸氣孔吸到內部真空室,可以通過分離表面吸盤與底部吸盤 清理吸入的異物。在上述底部吸盤上面設置一個同心的凹形圓,這樣就形成了真空室,並在上述凹 形圓的中心設置通孔,在底部吸盤的圓周外圈設置一組均勻分布的吸盤柱孔。這樣在吸盤 安裝時,表面吸盤的吸盤柱腳插入底部吸盤的吸盤柱孔,進行表面吸盤的固定,上述凹形圓 直徑略大於表面吸盤最大的圓形凹槽的直徑。[0008]上述通孔與通氣管固定連接,通氣管的另一端固定有法蘭盤,法蘭盤與電機輸出 軸固連在一起。上述驅動機構包括電機輸出軸與固聯在電機輸出軸上的法蘭盤組成,這樣電機就 可以帶動真空吸盤轉動了。因電機輸出軸是空心的,並且與通氣管相通,而電機輸出軸通過 設置在電機內部的空氣室的另一端部的導氣管與真空泵相連。所以真空室的氣體通過通 孔、通氣管、電機輸出軸、導氣管由真空泵抽出,實現了抽真空的目的。本方案的有益效果可根據對上述方案的敘述得知,由於在該方案中本實用新型採 用電機輸出軸中空管連接真空管路,在真空管路開通時固定吸盤上的晶圓片,同時對於向 表面噴塗液態材料時可以將吸盤整體連接在轉軸上,通過電機帶動旋轉,保證在牢固吸附 晶圓片的同時進行轉速可控的平穩旋轉,使塗覆在表面的液態物質在離心力作用下均勻分 布在表面。本實用新型全部採用不鏽鋼的金屬結構,與設備的金屬外殼及接地線導通,對於 產生的靜電可以迅速的釋放,防止對吸盤上的產品造成電氣傷害。由此可見,本實用新型與現有技術相比,具有實質性特點和進步,其實施的有益效 果也是顯而易見的。

圖1為本實用新型具體實施方式
的結構示意圖。圖2為表面吸盤的俯視圖。圖3為底部吸盤俯視圖。圖中,1為表面吸盤,2為圓形凹槽,3為通孔,4為吸氣孔,5為吸盤柱腳,6為底部 吸盤,7為吸盤,8為通氣管,9為法蘭盤,10為凹形圓,11為吸盤柱孔。
具體實施方式
為能清楚說明本方案的技術特點,下面通過一個具體實施方式
,並結合其附圖,對 本方案進行闡述。通過附圖的圖1可以看出,本方案提供了一種真空吸盤,包括有真空管路、吸盤7、 傳動裝置,在吸盤7上設置傳動裝置。吸盤7由表面吸盤1和底部吸盤6組成,並在其結合 面塗覆密封物質。通過附圖的圖2可以看出在表面吸盤1上設置有2個同心的圓形凹槽2,在圓形凹 槽2上設置60個吸氣孔4,並在表面吸盤1底面的圓周外圈設置4個均勻分布的吸盤柱腳 5。吸氣孔4是均勻分布在表面吸盤1上的圓形凹槽2內,並成米字型排列。通過附圖的圖3可以看出,在底部吸盤6上面設置一個同心的凹形圓10,並在凹形 圓10的中心設置通孔3,在底部吸盤6的圓周外圈設置4個均勻分布的吸盤柱孔11。凹形 圓10的直徑略大於表面吸盤最大的圓形凹槽2的直徑。通孔3與通氣管8固定連接,通氣管8的另一端固定有法蘭盤9。驅動機構包括電機輸出軸與固聯在電機輸出軸上的所述法蘭盤9組成,且輸出軸 是空心的,並與所述通氣管8相通。電機輸出軸通過設置在電機內部的空氣室的另一端部的導氣管與真空泵相連。[0024]真空吸盤的工作原理通過控制真空管路的開關可以決定是否固定晶圓片進行操 作,真空管路關閉時,可以通過鑷子進行晶圓片的移放操作;真空管路開通時,可以固定住 晶圓片,對其表面進行各種操作。本實用新型未經描述的技術特徵可以通過現有技術實現,在此不再贅述。當然,上 述說明並非是對本實用新型的限制,本實用新型也並不僅限於上述舉例,本技術領域的普 通技術人員在本實用新型的實質範圍內所做出的變化、改型、添加或替換,也應屬於本實用 新型的保護範圍。
權利要求1.一種真空吸盤,包括有真空管路、吸盤(7)、動力裝置,其特徵在於在所述吸盤(7) 上設置驅動機構。
2.根據權利要求1所述的一種真空吸盤,其特徵在於所述吸盤(7)由表面吸盤⑴和 底部吸盤(6)組成,並在其結合面塗覆密封物質。
3.根據權利要求2所述的一種真空吸盤,其特徵在於在所述表面吸盤(1)上設置有 多個同心的圓形凹槽O),在所述圓形凹槽(2)上設置一組吸氣孔G),並在所述表面吸盤 (1)底面的圓周外圈設置一組均勻分布的吸盤柱腳(5)。
4.根據權利要求3所述的一種真空吸盤,其特徵在於所述吸氣孔(4)是均勻分布在 所述表面吸盤(1)上的所述圓形凹槽O)內,並成米字型排列。
5.根據權利要求2所述的一種真空吸盤,其特徵在於在所述底部吸盤(6)上面設置 一個同心的凹形圓(10),並在所述凹形圓(10)的中心設置通孔(3),在所述底部吸盤(6) 的圓周外圈設置一組均勻分布的吸盤柱孔(11)。
6.根據權利要求5所述的一種真空吸盤,其特徵在於所述凹形圓(10)的直徑應略大 於表面吸盤(1)最大的所述圓形凹槽O)的直徑。
7.根據權利要求5所述的一種真空吸盤,其特徵在於所述通孔(3)與通氣管(8)固 定連接,所述通氣管(8)的另一端固定有法蘭盤(9)。
8.根據權利要求1或7所述的一種真空吸盤,其特徵在於所述驅動機構包括電機輸 出軸與固聯在電機輸出軸上的所述法蘭盤(9)組成,且輸出軸是空心的,並與所述通氣管 (8)相通。
9.根據權利要求8所述的一種真空吸盤,其特徵在於所述電機輸出軸通過設置在電 機內部的空氣室的另一端部的導氣管與真空泵相連。
專利摘要本實用新型涉及的是一種真空吸盤,尤其是一種在半導體生產中用於承載矽片的真空吸盤。包括有真空管路、吸盤(7)、動力裝置,其特徵在於在所述吸盤(7)上設置驅動機構。在該方案中本實用新型採用電機輸出軸中空管連接真空管路,在真空管路開通時固定吸盤上的晶圓片,同時對於向表面噴塗液態材料時可以將吸盤整體連接在轉軸上,通過電機帶動旋轉,保證在牢固吸附晶圓片的同時進行轉速可控的平穩旋轉,使塗覆在表面的液態物質在離心力作用下均勻分布在表面。
文檔編號B66C1/02GK201896027SQ201020621630
公開日2011年7月13日 申請日期2010年11月24日 優先權日2010年11月24日
發明者呂明, 李秉永, 郭城, 魏繼昊 申請人:山東科芯電子有限公司

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