用於塗覆薄層的真空處理設備的製作方法

2023-04-24 18:05:31 2

專利名稱：用於塗覆薄層的真空處理設備的製作方法
技術領域：
本發明涉及一種用於在基片上塗覆薄層的真空處理設備，此設備帶有多個由一個位置固定的環形或框形真空室側壁夾持的且裝有處理工具的處理室，此處理室具有對準真空室中心的且在相互平行的平面內延伸的開口。
已知有這樣一種帶有一個主室或分配室的真空處理設備(EP0555764)，待塗覆基片或工件在此設備中藉助傳送機構而在至少兩個處理室之間或閥腔和至少一個處理室之間傳送，其中所有處理室或部分處理室藉助液壓或氣壓啟動式密封機構與主室或分配室密封地隔開。此設備設計成圓筒形且沿著圓形或圓筒形分配室的外表面設置了至少一個收料室或接收待處理基片的接收槽。收料室(接收槽)在各處理位置上對準設置在圓筒外表面上的相應處理站。為了構成工作室或處理室，可繞圓筒中軸轉動地設置收料室或接收槽或圓筒的外表面。
還知道一種在載體上真空塗覆塗層的設備(DE2848480)，此設備特別適用於當生產多層電容器時在載體上交替地塗覆金屬層和輝光聚合層。此設備具有至少兩個真空室，該真空室通過真空閥彼此隔斷開，其中在工作的第一真空室中存在一個低於在第二真空室或其餘腔室內的壓力的小的殘餘壓壓。此設備具有一個傳送機構，此傳送機構可以通過所選真空閥將待塗覆的載體從第一真空室送入第二真空室中並再送入第一真空室或第三真空室中。此設備在真空室中具有將塗層塗覆到位於傳送機構上的載體上的塗覆機構。其中真空閥具有許多夾鉗和分別位於兩個夾鉗之間的吸出殘餘氣體用的吸氣管，所述夾鉗直接位於傳送機構表面的對面且相對所述表面留有一個小間隙。傳送機構只能在一個方向上運動。在傳送機構運動方向上位於第一真空室前面的真空閥的擴散路徑比在傳送機構運動方向上位於第一真空室後面的真空閥的擴散路徑長。
本發明的任務是提供一種可克服上述類型的問題的設備，其中基片安裝在各容器內，還可以如此設計，即可以處理具有不同尺寸的和特別是具有很難處理形狀的基片。另外，真空室不通風且不必使基片在基片載體間傳遞，就可以進行許多不同方式的基片處理。
根據本發明，上述任務是如此解決的，即位置固定的、由環形或框形真空室側壁夾持的且裝有處理工具的多個處理室配備有在周圍向內地對準真空室中心的、在相互平行的平面內延伸的且用於輸入和輸出基片的處理室開口以及一根平行於開口平面地延伸的且支承在真空室的真空室蓋板和/或真空室底板中的軸或絲槓，此軸或絲槓配備有由其支承和驅動的封閉處理室開口用的板和用於將封閉板從徑向靠內的開口位置引向徑向靠外的封閉位置的操作機構，和軸或絲槓配合工作的操作機構被設計成槓桿式傳動機構或伸縮懸臂式結構，所述封閉板在其分別靠近處理室的側面上具有基片支架或基片夾具。
在從屬權利要求中進一步描述和指出了其它特徵和細節。
本發明可以有不同的實施方式。在附圖中只是進一步示意地描述了其中三個實施方式，其中

圖1是橫穿具有四塊封閉板的設備的剖面圖，此設備藉助杆式直線導向機構並通過軸的轉動移向分別位於其對面的閥口，封閉板為此在轉動底板的導向槽中滑動。
圖2是橫穿另一個設備實施例的剖面圖，其中封閉板藉助伸縮懸臂來運動，封閉板在其靠近處理室的那一端配備有夾持基片用的臂。
圖3是縱穿另一個設備實施例的剖面圖，其中封閉板藉助槓桿作徑向運動，所述封閉板與絲槓螺母鉸接。
如圖1所示，真空處理設備主要由一個共有四個開口4-7的框架側壁3、四個盒形處理室、一個從下面封閉側壁3的真空室底板12、一個未示出的從上面封閉側壁3的真空室蓋板、一根在底板和蓋板中可轉動的且帶有固定其上的且呈星形地水平延伸的臂15-18的豎直支承軸14、配屬於各處理室8-11的且與牽引/壓動杆19-22末端鉸接的且帶有固定其上的基片支架的封閉板23-26、一個與軸14抗轉動地連接的且帶有固定其上的夾持和引導封閉板23-26用的導軌對28-31的並裝有在四個處理室8-11內的(未進一步示出)塗覆工具如輝光放電陰極和真空濺射陰極的導向板27。
為了運轉圖1所示的設備，給固定在封閉板23-26上的基片支架32-35裝上基片36-39，這例如是如此實現的，即沿箭頭A方向開啟處理室8的頂板40且使基片進入處理室8中並懸掛在分別位於開口7前方的基片支架上，導向板27為此與軸14和鉸接在軸上的封閉板23-26一起轉動(箭頭B方向)，封閉板23-26還在導軌對上徑向移動(在導向板27靜止而軸14可轉動時)。
在給基片支架32-35裝上了基片36-39並蓋上了頂板40後，主室2和與其連通的處理室8-11接受抽真空處理。現在，軸14在導向板27靜止的情況下大約轉動90度角(逆時針)。隨後，這四塊封閉板23-26都徑向向外移動，從而開口4-7被這些封閉板封住了。現在，通過接通處理工具如陰極41、42而實現了對基片的處理。當現在在處理室內安裝不同類型的處理工具時，該組的所有基片接著被送入所有四個處理室8-11內並在處理室內以所希望的順序進行處理。在完成處理後，基片36-39的取出可以通過與基片裝配方式相同的方式進行。
在圖2所示的真空處理設備實施例中，一個隨軸41轉動地支承在底板12上的外罩42在帶有與軸14鉸接的牽引/壓動杆19-22的臂15-18的軸14的位置處，配有在底板中受到支承和導向的懸臂43-46。懸臂43-46可以在外罩42對面沿箭頭E或F方向伸縮，從而固定在懸臂43-46自由端上的封閉板23-26移動到開口4前方或移入圖所示的輸出位置上。
圖3所示的真空處理設備實施例在軸14的位置處設有一個絲槓47，此絲槓與螺母48、49配合工作，所述螺母是在絲槓上移動的軛架50、51的一部分。由於絲槓47轉動，則與軛架50、51鉸接的牽引/壓動杆52、53或54、55使封閉板23-26徑向向外或徑向向內地移動(視轉動方向而定)，其中封閉板24、26在導軌對28、28a或30、30a上受到引導。封閉板24、26通過其滑座56、57與所述導軌對卡接。
當導軌對28、28a…31、31a確保了其分別配屬的封閉板23-26(相對外罩中軸或軸14、41或絲槓47)只能徑向移動時，當軸14、41或絲槓47相對導向板27轉動時，所有封閉板只能同時且同向地進行這樣的運動，為此要注意牽引/壓動杆19-22或懸臂42-45或槓桿驅動機構52-55。
導向板27和軸14、41或絲槓47的協調轉動的結果是，所有封閉板23-26與由其支持的基片36-39一起同時沿箭頭方向移動，即從其中一個工位移向最近的處理位置，其前提是封閉板23-26首先移入其輸出位置。
權利要求
1.一種在基片(36-38)上塗覆薄層的真空處理設備，它具有許多位置固定的、由環形或框架真空室(2)側壁(3)夾持的且裝有處理工具(41，42…)的處理室(8-11)，所述處理室配備有在周圍向內地對準真空室(2)中心的、在相互平行的平面內延伸的且用於輸入和輸出基片(36-38)的處理室開口(4-7)以及一根平行於開口平面地延伸的且支承在真空室(2)的真空室蓋板(58)和/或真空室底板(12)中的軸(14，41)或絲槓(47)，此軸或絲槓配備有由其支承和驅動的封閉處理室開口(4-7)用的板(23-26)和用於將封閉板從徑向靠內的開口位置引向徑向靠外的封閉位置上的操作機構(19-22；43-46；53-55)，其中和軸(14，41)或絲槓(47)配合工作的操作機構被設計成槓桿式傳動機構(19-22；53-55)或伸縮懸臂(43-46)式結構，封閉板(23-26)在其分別靠近處理室(8-11)的側面上具有基片支架或基片夾具(32-35)。
2.如權利要求1所述的真空處理設備，其特徵在於，支承在真空室蓋板(58)和/或真空室底板(12)中的軸(14)具有與處理室(8-11)數目同樣多的、由軸(14)徑向延伸的且與軸抗轉動連接的臂(15-18)，其徑向靠外的端部分別通過鉸接點與第二槓桿連接或與牽引/壓動杆(19-22)連接而其自由端分別與封閉板(23-26)鉸接，所述封閉板在直線導向機構如在槽或導軌對(28，28a；31，31a)中滑動，所述直線導向機構總是只允許封閉板垂直於相應開口平面地運動且在底板(12)和/或真空室頂板(58)上看得見所述直線導向機構。
3.如權利要求1所述的真空處理設備，其特徵在於，支承在真空室頂板(58)和/或真空室底板(12)中的電機驅動軸被設計成絲槓(47)結構，一個或多個螺母(48，49)與絲槓(47)配合工作，槓桿或牽引/壓動杆(52-55)分別鉸接在所述螺母上，其自由端分別與封閉板(23-26)鉸接，在槽或導軌對(28，28a；31，31a)中支承和引導封閉板(23-26)，它在平行於底板(12)的導向板(27)上徑向延伸且總是只允許封閉板(23-26)垂直於各開口平面地運動。
4.如權利要求1所述的真空處理設備，其特徵在於，支承在真空室頂板(58)和/或真空室底板(12)中的電機驅動軸(41)和與處理室(8-11)數目同樣多的懸臂(43-46)相連，所述懸臂可以分別在指向處理室開口(4-7)的徑向上伸縮，所述懸臂(43-46)的自由端分別與封閉板(23-26)緊固連接，封閉板(23-26)在其轉向處理室開口(4-7)的側面上分別配有操作機構，所述操作機構分別由固定安裝在封閉板(23-26)上的、可大致水平地伸向各處理室開口(4-7)的、且在其自由端鉸接有第二臂的第一臂(32-35)構成，其自由端配有基片支架或基片夾具(32-35)。
全文摘要
在一種在基片(36—38)上塗覆薄層的真空處理設備中,配備了一根與開口平面平行地延伸的且支承在真空室(2)的真空室蓋板和/或真空室底板(12)中的軸(14),其中此設備具有許多位置固定的、由環形或框架真空室(2)側壁(3)夾持在且裝有處理工具(41,42…)的處理室(8—11),所述處理室配備有在周圍向內地對準真空室(2)中心的、在相互平行的平面內延伸的且用於輸入和輸出基片(36—38)的處理室開口(4—7),此軸使板(23—26)運動以便封閉處理室開口(4—7)且配備有操作機構(19—22)以使封閉板(23—26)從徑向靠內的開口位置移向徑向靠外的封閉位置,其中和軸(14)配合工作的操作機構被設計成槓桿式傳動結構(19—22)。
文檔編號C23C14/50GK1201720SQ9810973
公開日1998年12月16日 申請日期1998年4月9日 優先權日1997年4月12日
發明者H·麥德霍夫, H·許斯勒, J·比爾, S·昆克爾 申請人:萊博德系統股份有限公司