差分比較壓力監控系統的製作方法

2023-04-24 14:57:46

專利名稱：差分比較壓力監控系統的製作方法
技術領域：
本發明涉及用於監控組件或結構的完整性的差分比較壓力監控系統。
背景技術：
申請人:已經發明了用於結構完整性監控和結構健康監控的多種系統、設備和方 法，它們被用於如檢測和/或監控組件或結構中的裂縫或其它缺陷的蔓延。這些系統、設備 和方法的實施例在下述各專利中記載:US 5770794、US 6539776、US 6591661、US 6715365 和 US 6720882。總體上，在上述參考專利中描述的發明利用壓力、真空水平的改變，或者利用由於 裂縫延伸至在空腔與其它隔離環境之間創建了流體流動路徑而流入或流出空腔的流體。本發明是根據申請人在上述技術領域中進行進一步開發產生的。將了解到，如果本文引用了任何現有的公開，這些引用都不表示承認該公開在澳 大利亞或任何其它國家中形成本領域公知知識的一部分。在本發明的說明書的權利要求中，除非上下文中用語言表達或必要暗示進行了另 外說明，「包括」 一詞都為開放式的含義，即，說明陳述特徵的存在，但不排除本發明的各種 實施方式中的其它特徵或額外特徵的存在。

發明內容
本發明的一個方面提供了用於監控組件或結構的結構完整性的差分比較壓力監 控系統，該系統包括壓力源；第一射流迴路和參考射流迴路，第一射流迴路和參考射流回 路具有基本匹配的特徵，第一射流迴路和參考射流迴路並聯於壓力源，其中，第一射流迴路 包括與結構或組件的表面密封的傳感器元件，傳感器元件與結構或組件的表面共同限定第 一空腔，並且參考射流迴路與結構或組件的表面隔離；和監控設備，其被耦合於第一射流回 路和參考射流迴路，監控設備對第一射流迴路和參考射流迴路的共同射流特徵進行同時測 量，並且基於對第一射流迴路和參考射流迴路同時測量到的共同射流特徵之間的差別產生 指示結構或組件的完整性的信號。參考迴路可包括具有基本與第一空腔匹配的特徵的參考空腔。第一空腔和參考空腔可基本位於相同的位置處。在一個實施方式中，第一空腔和參考空腔形成於傳感器元件中。在該實施方式中， 傳感器元件具有密封於結構或組件的表面的第一表面以及與之相反的第二表面，其中第一 凹槽或通道形成於第一表面中，當第一表面被密封於結構或組件時，第一凹槽或通道形成 第一空腔，並且參考空腔位於傳感器元件的第一表面和第二表面內部。傳感器元件可形成為具有第一層和第二層的層狀結構，第一層包含第一表面並且 第一凹槽或通道形成於其中，第二層密封於第一層上與第一表面相反的表面上，第二層包 含第二表面且參考空腔形成於第一層與第二層之間。在另一個實施方式中，參考空腔形成於與傳感器元件分開的參考傳感器元件中。
第一射流迴路可包括串聯於壓力源與第一空腔之間的第一高流阻器件。參考迴路 包括串聯於壓力源與參考空腔之間的參考高流阻器件。第一高流阻器件和參考高流阻器件 可被形成為對流體流具有基本相同的阻抗。第一射流迴路和參考射流迴路可被配置為基本彼此相鄰地延伸。該系統可進一步包括第二射流迴路，第二射流迴路與第二壓力源射流連通，第二 壓力源具有與第一壓力源的第一壓力不同的第二壓力。在一個實施方式中，第一壓力相對 於第二壓力為負。第二迴路可包括形成於傳感器元件中的第二凹槽或通道，當傳感器元件被密封於 結構或組件表面時，第二凹槽或通道形成與第一空腔相鄰但分離密封的第二空腔。第一空腔和第二空腔可被設置為具有匹配的射流特徵。此外，第一射流迴路和第 二射流迴路可具有匹配的射流特徵。因此，第二射流迴路具有基本與參考迴路的特徵匹配 的射流特徵。該系統可進一步包括第一旁路閥，其在第一流阻器件兩端分流，並且具有在第一 高流阻器件上形成射流短路的關閉狀態。該系統可進一步包括參考旁路閥，其在參考高流阻器件兩端分流，並且具有在參 考高流阻器件上形成射流短路的關閉狀態。該系統可包括第一連通閥，其用於可選擇地開啟和關閉第一射流迴路上與壓力源 相距較遠的一端。該系統可包括參考連通閥，其用於可選擇地開啟和關閉參考射流迴路上與壓力源 相距較遠的一端。該系統可進一步包括切換閥，其一端與壓力源流體連通，其另一端選擇性地連接 於第一射流迴路或第二射流迴路。該系統可包括測量儀器和傳感器單元，測量儀器包括壓力源、以及第一射流迴路 和參考射流迴路的第一部分，傳感器單元包括傳感器元件、以及第一射流迴路和參考射流 迴路的第二部分，並且其中儀器和傳感器單元選擇性地彼此耦合和解耦。該系統可包括多股氣動纜，該纜包括第一射流迴路和參考射流迴路的第三部分， 並且其中纜的兩端能夠連接於儀器和傳感器單元。


現在將在參考附圖的情況下僅通過實施例的方式描述本發明的實施方式圖1是根據本發明的差分比較壓力監控系統的實施方式的迴路圖；圖2是圖1所示的系統的示意圖；圖3是本發明的實施方式中包含的完整傳感器的示意圖；圖3是系統的一個實施方式中包含的傳感器元件的底視圖；圖4a是圖3所示的傳感器元件的縱截面圖；圖4b是圖3所示的傳感器元件的橫截面圖；圖5是應用於結構表面的圖3至圖4b所示的傳感器的頂視圖；圖6a是系統的實施方式中包含的第二元件的等距視圖；圖6b是圖6a所示的第二元件的橫截面圖6c是圖6a所示的第二元件的縱截面圖；圖7是系統的第二實施方式中包含的完整元件的底視圖；和圖9是圖8所示的完整元件的縱截面圖。
具體實施例方式參照附圖，並且更具體地說參照圖1至圖5，用於監控結構或組件30的結構完整性 的差分比較壓力監控系統10的實施方式包括壓力源12、第一射流迴路14、參考射流迴路16 和監控設備18。第一射流迴路14和參考射流迴路16被形成為具有基本匹配的特徵。這些 特徵包括迴路的容積、通過迴路的流體流速、溫度特徵和擴散特徵。迴路14和16並聯於壓 力源12，從而當迴路14和16均完成時，假設在任意一個迴路中都不存在裂口，兩個迴路中 的流體基本處於相同的壓力。壓力源相對於環境壓力可為正壓力源或負壓力源。第一迴路14包括傳感器元件20 (在圖3中詳細示出)。傳感器元件20被密封於 由系統10監控的結構或組件30上的表面28。如下面更詳細地描述，當傳感器元件20被密 封於結構或組件的表面時，其限定了第一空腔32。然而，參考迴路16與結構或組件30的表 面28射流隔離。監控設備18被耦合於第一迴路14和參考迴路16，對第一迴路14和參考 迴路16的共同射流特徵進行同時測量，並基於同時測得的第一迴路14和參考迴路16的共 同特徵之差產生指示結構或組件的完整性的信號。共同射流特徵例如可為通過迴路14和 16的流體流速或迴路14和16或者其匹配組件內的流體壓力。圖3、4a、4b和5描繪了傳感器20的非常簡單的形式。在該實施方式中，傳感器20 包括由基本防滲的材料製成的薄帶22，其具有形成於帶22的底部表面26中的縱向第一凹 槽或通道24。凹槽24在帶22的外圍邊緣的內部終止並且未延伸穿過帶22的厚度。當帶 22被密封於結構30的表面28上時，凹槽24和表面28的下部創建第一空腔32。第一迴路14包括管道14c和14d，它們與傳感器20相連、與通道24的相對兩端流 體連通、並且因此當傳感器28貼附於結構30的表面28時與第一空腔32流體連通。假設 由於迴路14與壓力源12的射流連接使第一凹槽32處於與環境壓力不同的壓力，那麼，如 果在表面28中出現在第一空腔32與周圍大氣之間延伸的裂縫36，第一空腔32中的壓力情 況以及通過(即流入或流出)迴路14的氣流則將發生改變。監控系統18被配置為檢測 壓力或流體流的變化。監控系統18的更具體的細節將在稍後的說明中被描述。氣流是流 入還是流出迴路14完全取決於壓力源12相對於環境壓力為正壓力還是負壓力。參考迴路16被形成以具有與第一迴路14基本匹配的射流特徵(例如容積和流 體流速)。然而，參考迴路16與結構30的表面28隔離。在這裡，「隔離」意味著迴路16的 壓力條件不受可使第一空腔32破裂的、結構30中的裂縫36的形成或傳播的影響。因此，假 設迴路14和16的匹配特徵，考慮到迴路14和16並聯於壓力源12並且因此受到相同的壓 力條件，在不存在使第一空腔32破裂的裂縫36的情況下，迴路14和16應該具有基本相同 的時間相位(time-phased)壓力響應。因此，示出迴路14中的壓力與時間的關係的圖形或 曲線將與迴路16的基本相同。因此，通過監控設備18將迴路16的時間相位壓力響應從回 路14的時間相位壓力響應中減去的方式，如壓力瞬變等噪聲的影由於大氣和環境(例如 在陽光直射下的管道部分的加熱、或者延伸通過空調房間的迴路部分的冷卻)的影響產生的壓力瞬變通常被視為噪聲，從而要求相對較大的流體流通過裂縫36以使裂縫36將可靠 地與噪聲區分。然而，在圖1和圖2所示的系統的實施方式的情況下，迴路14和16中的每 一個的噪聲瞬變將基本相同，並且因此通過將迴路16的時間相位壓力響應從迴路14的時 間相位壓力響應中減去的方式，對噪聲進行有效的共模抑制，從而對裂縫36允許基本更低 的檢測閾值。此外，本領域相關技術人員將了解到，因為迴路14和16中的排氣瞬變將基本相同 並且因此再次受到共模抑制，因此測量時間明顯減少。因此，在穩態壓力已經在迴路14和 16中實現之前，系統10的實施方式可充分地理解。迴路16的特徵儘可能接近地與迴路14的特徵匹配。因為迴路14包括用於創建 第一空腔32的傳感器20，因此在迴路16中可提供參考傳感器元件38以形成參考空腔42。 在圖1、5和6描繪的實施方式中，所示的參考空腔42形成在與傳感器元件20分離的參考 元件38中，然而，如下所述，在可選擇的實施方式中，第一空腔32和參考空腔42可形成於 相同的傳感器元件中。圖6a、6b和6c所示的參考元件38被形成為具有與通道24容積相同的通道40，除 了通道40完全被容納在元件38的材料中。完全被容納的通道40形成了參考空腔42。因 此當元件38尤其是參考空腔42位於傳感器20的附近或頂部時，其不受到裂縫36的形成 和傳播的影響。參考迴路16還包括垂直於通道40的相對兩端的管道16c和16d。第一迴路14包括串聯於壓力源12與第一空腔32之間的第一高流阻器件46。同 樣地，迴路16包括串聯於壓力源與參考空腔42之間的參考高流阻器件48。與迴路14和 16的匹配相應地，流阻器件46和48的特徵也相匹配。旁路閥50被放置在高流阻器件46兩端用於分流，同樣地，旁路閥52被放置在高 流阻器件48兩端用於分流。當旁路閥50和52關閉時，它們在其各自的流阻器件46和48 上形成了射流短路。壓力源包括經由閥56連接於罐或蓄能器58的泵54。在一個實施方式中，泵54是 真空泵，其操作為將罐58排空至低於環境壓力的壓力水平。罐58的容積或容量通常基本 大於迴路14和16的容積。罐58經由閥60耦合於迴路14和16。壓力源可為不穩定的， 即，無需被維持在恆定水平，而是可隨時間而改變。監控系統18包括壓力計62，其提供了對壓力源12尤其是罐58的壓力的測量。該 壓力將與流阻器件46和48的相鄰側上的壓力相同。監控系統18進一步包括壓力計64和 壓力計66，壓力計64測量流阻器件46上與壓力計62相反的一端處的壓力，壓力計66測量 流阻器件48上與壓力計62相反的一端處的壓力。簡言之，壓力計62和64上的壓力讀數之間的變化提供了對通過流阻器件46的流 體流的測量，而壓力計62和66的讀數之差則提供了對通過流阻器件48的流體流的測量。 從壓力計62、64和66中的每一個接收輸入的測量設備68操作為將通過流阻器件48的流 體流與通過流阻器件46的流體流進行比較、或者將通過流阻器件48的流體流從通過流阻 器件46的流體流中減去，從而提供指示結構38的完整性的信號。在這點上，由於迴路14 和16的匹配本性，通過流阻器件46和48的流量差將最可能是由於在第一空腔32與環境 壓力之間提供流體連通的裂縫36的形成或傳播而引起第一空腔32中的破裂產生的，而不 是由於受到了共模抑制的噪聲產生的。
系統10進一步包括第二射流迴路70，其與通常是環境大氣的第二壓力源流體連 通。因此，在其最簡單的形式中，迴路70簡單地通過排出口與大氣連通，儘管其可選擇地也 可耦合於具有不同於第一壓力源12的壓力的專用第二壓力源。迴路70包括第二凹槽或通 道72，其與第一空腔24相鄰但相互密封(例如如圖3所示)。當傳感器元件20密封於表 面28時，通道72形成了第二凹槽73。第二通道72形成於傳感器元件20中並且通過橫穿 通道24(即第一空腔32)的裂縫提供了至大氣的洩露通道。具有第一通道或空腔24/32 以及第二大氣通道72的傳感器元件和襯墊的形成在由本申請的申請人擁有或控制的大量 專利中已被描述，包括第6715365號美國專利和第PCT/AU2007/000584號國際申請。然而，最方便地，第一通道24、參考空腔42和第二通道72可均形成於單個公共傳 感器元件20'中，其實施例在圖7和圖8中示出。傳感器20'具有底部表面26'，第一通 道24和第二通道72形成於其中。當底部表面26'被密封於結構30的表面28上時，通道 24和72分別形成第一空腔32和第二空腔73。參考空腔42形成於傳感器20『的內部。因 此，參考空腔42完整地位於傳感器20'的底部表面26'與頂部表面74之間。參考空腔42 的要求在於，它具有與第一空腔32基本相同的射流特徵(當空腔32未破裂時)。如圖8所示，傳感器20'形成為分層結構，包括較低層76和較高層78。較低層76 包括傳感器20'的底部表面26'，並且形成為具有第一通道24和第二通道72。第二層78 包括傳感器20'的頂部表面74，並且形成為具有相反的表面80。參考通道40形成於表面 80中，並且表面80被粘附於較低層76的表面的頂部，從而在層76與78之間形成參考空腔 42。當傳感器20'被粘附於表面28上時，通道24和72與表面28—起將形成第一空腔32 和第二空腔73。這些空腔可由於在表面28中形成裂縫而破裂。然而，參考空腔42與表面 28射流隔離。此外，參考空腔42被制為具有與第一空腔32基本相同的射流特徵。這可通 過將相應的通道40和24形成為具有基本相同的形狀、容積和滲透性、並在物理上儘量彼此 接近來實現。構造和形成由傳感器20'示例的分層傳感器的方法在國際申請號PCT/ AU2007/000458的申請中被詳細描述，其內容以引用的形式被併入本文。根據國際申請號為PCT/AU2007/000584的申請所述，各種類型的連接器可被用於 在各個通道和空腔與它們相應的迴路14、16和70的剩餘部分之間提供流體耦合，該申請的 內容以引用的形式被併入本文。參照圖1和圖2，系統10進一步包括切換閥80、第一連通閥82和參考連通閥84。 閥80可在兩個位置之間切換，其可選擇地將射流迴路14和70中的一個連接於源12，並且 將其中的另一個通過排出口與大氣連通。在所示的實施方式中，閥80將迴路70連接於源 12，並且將迴路14通過排出口與大氣連通。然而，將閥80切換至其第二位置將倒轉該配置， 以使迴路14被耦合於源12並且迴路17通過排出口與大氣連通。閥82可在期第一位置和第二位置之間切換，在第一位置處，閥82關閉(即密封) 迴路14的遠端並且打開(即通過排出口與大氣連通)迴路70的遠端，在閥82的第二位 置處，該結構被倒轉為使迴路14的遠端通過排出口與大氣連通而迴路70的遠端被關閉。閥84可在期第一位置與第二位置之間移動，在第一位置處，閥84將迴路16的遠 端通過排出口與大氣連通(如圖1所示)，在第二位置處，閥84將迴路16的遠端關閉。
對於迴路14、16和70中的每一個，都可執行系統10的連續性測試。為了進行回 路14的連續性測試，將閥80切換為使迴路14與源12射流連通，閥50保持開啟，而閥82被 移動為使迴路14的遠端相對於大氣保持打開。假設迴路14中不存在阻塞，在該結構中，將 檢測到通過流阻器件46的流體的較高流動。然而，在迴路14尤其是傳感器20被阻塞時， 通過流阻器件46的流量將為最小化或為零。同樣地，通過將閥80切換為將迴路70連接於 源12同時將閥82切換為使迴路70的遠端通過排出口與大氣連通，可在迴路70上進行連 續性測試。通過將閥84移動至迴路16的遠端保持開啟(如圖1所示)，可進行迴路16的 連續性測試。為了在最短時間內對迴路14和16進行排氣，可在最初作業系統10時將閥50和 52關閉。系統10包括測量儀器90、多股氣動纜100和傳感器單元102的組合。儀器90以 與澳大利亞申請號為2006906797的專利申請中所述的基本相同的方式工作，其內容以引 用的形式被併入本文。前述澳大利亞專利申請中所述的發明與本申請中的儀器10之間的 主要差別是提供了可認為是迴路16的形成部分的第二流阻器件48和旁路閥52，並增加了 壓力計66。參照圖2，迴路14、16和70中的每個都有一部分被包含在儀器90中，一部分被包 含在線或纜100中，並且一部分被包含在傳感器單元102中，傳感器單元102包括傳感器 20'以及延伸至線20'內的第一通道、參考通道和第二通道中的每一個的任意一側的一小 段管道。迴路16包括管道16￡1、1613、16(3、16(1、166和16仡管道16a和16f位於儀器10的 內部。管道16c和16d形成了傳感器單元102的一部分，而管道16b和16e被包含在線100 內。同樣地，迴路14包括位於儀器90內的管道14a和14f、位於傳感器單元20'內的管 道14c和14d、位於纜100內的管道14b和14e。迴路70包括位於儀器70內的管道70a和 70f、位於傳感器單元102內的管道70c和70d、以及位於線100內的管道70b和70e。位於 儀器90內的管道終止於母隔板連接器104。傳感器單元102內的管道終止於母隔板連接器106。包含在線100內的管道的兩 端分別終止於公隔板連接器108和110。公隔板連接器108和110可被連接於母隔板連接 器104和106，從而形成各自的射流迴路14、16和70。識別晶片112和114分別被包含在 工作檯100和傳感器單元102內以允許識別這些組件。以上對本發明的實施方式進行了詳細描述，相關領域的技術人員將理解到，在不 偏離基本發明概念的情況下可進行大量修改和變化。例如，雖然圖1和圖2所示的實施方 式示出了第二迴路70的提供，但是該迴路在本發明的最廣泛形式中並不是必須的。在該實 施例中，圖7和圖8所示的傳感器20'可被修改為省略通道72。在進一步的變體中，傳感 器20'可形成為具有第二通道72，第二通道72僅在相對的兩端簡單地通過排出口與大氣 連通並且不連接於任何管道。並且，通過將第一迴路14和第二迴路70形成為具有匹配的 射流特徵，並且更具體地說，通過將管道14a至14f以及通道24形成為具有分別與管道70a 至70f以及通道72匹配的射流特徵，迴路14和70中的任意一個可被切換(即耦合)至 源12而另一個通過排出口與大氣連通。自然地，如果迴路14和70具有匹配的射流特徵， 那麼迴路16和70也具有匹配的射流特徵。所有這些修改和變化以及對於本領域相關技術 人員顯而易見的其它修改和變化都應該被認為屬於本發明的範圍，其屬性將通過上面的描
9述確定。
權利要求
一種用於監控組件或結構的結構完整性的差分比較壓力監控系統，包括壓力源；第一射流迴路和參考射流迴路，所述第一射流迴路和所述參考射流迴路具有基本匹配的特徵，所述第一射流迴路和所述參考射流迴路並聯於所述壓力源，其中，所述第一射流迴路包括與所述結構或組件的表面密封的傳感器元件，所述傳感器元件與所述結構或組件的所述表面共同限定第一空腔，並且所述參考射流迴路與所述結構或組件的所述表面隔離；和監控設備，其被耦合於所述第一射流迴路和所述參考射流迴路，所述監控設備對所述第一射流迴路和所述參考射流迴路的共同射流特徵進行同時測量，並且基於對所述第一射流迴路和所述參考射流迴路同時測量到的共同射流特徵之間的差別產生指示所述結構或組件的完整性的信號。
2.根據權利要求1所述的系統，其中所述參考射流迴路包括參考空腔，所述參考空腔 具有與所述第一空腔基本匹配的特徵。
3.根據權利要求2所述的系統，其中所述第一空腔和所述參考空腔基本位於同一位置處。
4.根據權利要求2或3所述的系統，其中所述第一空腔和所述參考空腔形成於所述傳 感器元件中。
5.根據權利要求4所述的系統，其中所述傳感器元件具有與所述結構或組件的所述表 面密封的第一表面以及與所述第一表面相反的第二表面，其中，第一凹槽或通道形成於所 述第一表面中，當所述第一表面被密封於所述結構或組件時，所述第一凹槽或通道形成所 述第一空腔；並且，所述參考空腔位於所述傳感器元件的所述第一表面和所述第二表面的 內部。
6.根據權利要求5所述的系統，其中所述傳感器元件形成為具有第一層和第二層的層 狀結構，所述第一層包括所述第一表面，並且所述第一凹槽或通道被形成在所述第一層中， 所述第二層被密封於所述第一層上與所述第一表面相反的表面上，所述第二層包括所述第 二表面，並且所述參考空腔形成於所述第一層與所述第二層之間。
7.根據權利要求2或3所述的系統，其中所述參考空腔形成於參考傳感器元件中。
8.根據權利要求1至7中的任意一個所述的系統，其中所述第一射流迴路包括串聯於 所述壓力源與所述傳感器元件之間的高流阻器件。
9.根據權利要求1至8中的任意一個所述的系統，其中所述參考射流迴路包括串聯於 所述壓力源與所述參考空腔之間的參考高流阻器件。
10.根據權利要求9所述的系統，其中所述第一高流阻器件和所述參考高流阻器件被 形成為對流體流具有基本相同的阻抗。
11.根據權利要求1至10中的任意一項所述的系統，進一步包括第二射流迴路，所述第 二射流迴路與第二壓力源射流連通，所述第二壓力源具有與所述第一壓力源的第一壓力不 同的第二壓力。
12.根據權利要求11所述的系統，其中所述第二射流迴路包括形成於所述傳感器元件 中的第二凹槽或通道，當所述傳感器元件被密封於所述結構或組件的所述表面時，所述第 二凹槽或通道形成與所述第一空腔相鄰但密封的第二空腔。
13.根據權利要求12所述的系統，其中所述第一空腔和所述第二空腔具有匹配的射流 特徵。
14.根據權利要求11至13中的任意一項所述的系統，其中所述第一射流迴路和所述第 二射流迴路具有匹配的射流特徵。
15.根據權利要求8至14中的任意一項所述的系統，包括第一旁路閥，其在所述第一高 流阻器件的兩端分流，並且具有在所述第一高流阻器件的兩端形成射流短路的關閉狀態。
16.根據權利要求9至15中的任意一項所述的系統，包括參考旁路閥，其在所述參考高 流阻器件的兩端分流，並且具有在所述參考高流阻器件的兩端形成射流短路的關閉狀態。
17.根據權利要求1至16中的任意一項所述的系統，包括第一連通閥，其用於將所述第 一射流迴路遠離所述壓力源的端部選擇性地打開和密封。
18.根據權利要求1至17中的任意一項所述的系統，包括參考連通閥，其用於將所述第 二射流迴路遠離所述壓力源的端部選擇性地打開和密封。
19.根據權利要求11至18中的任意一項所述的系統，進一步包括切換閥，其一端與所 述壓力源流體連通，其另一端選擇性地連接於所述第一射流迴路或所述第二射流迴路。
20.根據權利要求1至19中的任意一項所述的系統，其中所述系統包括測量儀器和傳 感器單元，所述測量儀器包括所述壓力源、以及所述第一射流迴路和所述參考射流迴路的 第一部分，所述傳感器單元包括所述傳感器元件、以及所述第一射流迴路和所述參考射流 迴路的第二部分，並且其中所述儀器和所述傳感器單元選擇性地彼此耦合和解耦。
21.根據權利要求20所述的系統，其中所述系統進一步包括多股氣動纜，所述纜包括 所述第一射流迴路和所述參考射流迴路的第三部分，並且其中所述纜的兩端能夠連接於所 述儀器和所述傳感器單元。
全文摘要
用於監控結構或組件(30)的結構完整性的差分比較壓力監控系統(10)包括壓力源(12)、與壓力源(12)並聯的第一射流迴路(14)和參考射流迴路(16)、以及監控設備(18)。第一射流迴路(14)和參考射流迴路(16)被形成為具有基本匹配的特徵。這些特徵包括每個迴路的容積、通過迴路的流體流速、溫度特徵和擴散特徵。第一迴路(14)包括傳感器元件(20)，其被密封於由系統(10)監控的結構或組件(30)的表面(28)。參考迴路(16)與結構或組件(30)的表面(28)是射流隔離的。監控設備(18)被耦合於第一迴路(14)和參考迴路(16)，對迴路(14)和迴路(16)的共同射流特徵同時進行測量，並基於對迴路(14)和迴路(16)同時測量的共同特徵之差產生指示結構或組件的完整性的信號。
文檔編號G01N19/08GK101918806SQ200880124241
公開日2010年12月15日 申請日期2008年11月21日 優先權日2007年11月21日
發明者亨利·克羅克爾, 尼加爾·萊克斯通 申請人:結構監測系統有限公司