灰調掩模缺陷檢查方法及裝置和光掩模缺陷檢查方法及裝置的製作方法
2023-05-22 10:51:16
專利名稱：灰調掩模缺陷檢查方法及裝置和光掩模缺陷檢查方法及裝置的製作方法
技術領域：
本發明涉及灰調(grey tone)掩模和包含細微圖形的光掩模的缺陷檢查方法及缺陷檢查裝置。
背景技術：
近年來，在大型LCD用掩模的領域中，正嘗試使用灰調掩模來減少掩模的個數(月刊FPT Intelligence 1999年5月)。
這裡，灰調掩模，如圖6(1)所示，在透明襯底上具有遮光部1、透射部2和灰調部3。灰調部3，例如是形成使用灰調掩模的大型LCD用曝光機解析度界限以內的遮光圖形3a的區域，其形成目的是減少透射過該區域的光的透射量，減少該區域的照射量而可選地改變光敏抗蝕劑的膜厚。3b是灰調部3中曝光機解析度界限以內的微細透射部。遮光部1和遮光部圖形3a通常都是由鉻和鉻化合物等相同材料形成的相同厚度的膜形成。透射部2和微細透射部3b都是透明襯底上沒有形成遮光膜等的透明襯底部分。
使用灰調掩模的大型LCD用曝光機的解析度界限，用步進方式的曝光機約為3μm，用鏡面投影方式的曝光機約為4μm。因此，例如，假設圖6(1)中灰調部3中的透射部3b的空白寬度為小於3μm，曝光機的解析度界限以內的遮光圖形3a的線寬為小於3μm。在用上述的大型LCD用曝光機曝光時，由於通過灰調部3的曝光光整體上曝光量不足，經過該灰調部3曝光的正型光敏抗蝕劑的膜厚僅變薄而殘留在襯底上。也就是說，抗蝕劑隨著曝光量的不同，對應通常的遮光部1的部分與對應灰調部3的部分相對於顯影液的溶解度有差別，因此顯影后抗蝕劑的形狀，如圖6(2)所示，對應通常的遮光部1的部分1』例如約為1.3μm，對應灰調部3的部分3』例如約為0.3μm，對應透射部2的部分成為無抗蝕劑的部分2』。用無抗蝕劑的部分2』對被加工襯底進行第一蝕刻，通過研磨加工等除去對應灰調部3的較薄部分3』的抗蝕劑來在該部分進行第二蝕刻，從而在一個掩模上進行傳統的2個掩模的工序，減少掩模的個數。
對僅由遮光部和透射部構成的傳統的掩模的檢查方法，說明如下。
圖9(1)表示遮光部1中產生白缺陷11(針孔)，透射部2中產生黑缺陷12(斑點)的狀態，箭頭表示比較檢查裝置的一方透鏡(以下稱為上透鏡)的掃描情況。
圖9(2)表示沿上述透鏡的掃描線得到的透射量信號13。透射量信號13，例如由各透鏡單元中配置的CCD線型傳感器檢測。透射量信號13的水平，遮光部1上為B，透射部2上為W，將遮光部1的透射率和透射部2的透射率分別設為0％和100％。透射量信號13基本上由圖形的邊緣(遮光部與透射部之間的邊界)產生的圖形邊緣線信號(圖形形狀信號)構成，產生缺陷時，在遮光部1中出現產生的白缺陷信號11』，在透射部2中出現產生的黑缺陷信號12』。
圖9(3)表示與圖9(1)相同的圖形不產生缺陷時，在另一方透鏡(以下稱為下透鏡)得到的透射量信號13』。
圖9(4)是對各透鏡得到的透射量信號相減(差分)求出的差信號14。具體來說，是從圖9(2)的透射量信號13減去圖9(3)的透射量信號13』求出的差信號。差信號14中，從各透鏡的透射量信號中除去圖形邊線信號，只抽出缺陷信號4』、5』。
圖9(5)表示在只抽出缺陷信號的差信號14中，設定抽出遮光部1和透射部2所需要的閾值，分別用正側的閾值9a檢測白缺陷，用負側的閾值9b檢測黑缺陷的狀態。閾值設低，則檢測靈敏度變高，但必須設定為不檢測疑似缺陷的水平。為了辨別在哪個透鏡上產生了哪種缺陷，例如，在上透鏡的電路中，與下透鏡的信號比較(從上透鏡信號中減去下透鏡信號)，上透鏡的遮光部1中產生白缺陷時在正側出現缺陷信號，上透鏡的透射部2中產生黑缺陷時在負側出現缺陷信號，由此檢測上透鏡的白缺陷、黑缺陷(上述圖9(2)～(5))。同樣，例如在下透鏡的電路中，與上透鏡的信號比較(從下透鏡信號中減去上透鏡信號)，下透鏡的遮光部1中產生白缺陷時在正側出現缺陷信號，下透鏡的透射部2中產生黑缺陷時在負側出現缺陷信號，由此檢測下透鏡的白缺陷、黑缺陷。
發明內容
上述傳統的比較檢查裝置，由於用來檢查僅由遮光部和透射部組成的傳統掩模，因此不適於檢查具有灰調部的灰調掩模。
具體來說，傳統的比較裝置在檢查灰調掩模時，存在下列問題。
即，灰調部的缺陷信號由於缺陷本身很小所以較弱，在使用傳統的比較裝置時，必須使其閾值低於普通遮光部檢查所用的閾值，否則不易檢測。但是，例如灰調部是形成使用灰調掩模的曝光機的解析度界限以內的細微圖形的區域時，對應該細微圖形如圖5所示，產生灰調部中特有的基本信號水平(噪音頻帶)16。在比較檢查裝置中，將各透鏡所得的透射量信號相減(差分)求出差信號，只抽出缺陷信號，但由於在灰調部中的細微圖形之間產生一些圖形誤差時，基本信號水平增大(最大2倍)，本來不應成為缺陷的部分被檢測為缺陷(疑似缺陷)，因此存在無法降低閾值，不能進行高靈敏度地檢查的問題。
而且，傳統的比較裝置用於檢查白缺陷和黑缺陷，因此不易確保灰調掩模中最重要的要素-透射率。即，例如在整個掩模區域中，在灰調部的遮光部圖形的線寬相對於設計尺寸過低(線寬大)或過大(線寬小)超過透射率的允許值時，或構成灰調部的半透射膜的透射率超過允許值時，由於在比較檢查中通過將各透鏡所得的透射量信號相減求出差信號，所以不出現差別，存在不能檢測這種透射率缺陷的問題。這種情況在灰調部中無形狀缺陷時尤其成為問題。而且，在灰調部中，只要其透射率在允許範圍內，則不必檢測為缺陷，但傳統的比較檢查中，總是作為形狀缺陷檢測出，因此傳統的檢查中檢測出的缺陷有時透射率也在允許範圍內。其結果，本來不必當作缺陷檢測的部分也被檢測出來，檢查正確性(能力)方面存在問題。
另外，同樣的問題在例如用於形成TFT溝道部的光掩模等具有細微圖形的光掩模中也存在。例如，在用於形成TFT溝道部的光掩模中，隨著TFT溝道部的微細化，圖形也有急劇微細化的趨勢。對這種圖形來說，使用傳統的方法進行檢查時，由於檢查機臺振動或上下透鏡的圖像誤差會發生疑似缺陷、或其它細微圖形中特有的疑似缺陷，如果將靈敏度降低到不檢測疑似缺陷的水平，則存在不能取得確保缺陷檢測水平的靈敏度的問題。
本發明的目的是解決上述的問題，提供一種缺陷檢查方法和缺陷檢查裝置，其能確保透射率，並可高靈敏度地檢查，且能不檢測出疑似缺陷和透射率在允許範圍內等形狀缺陷。
本發明具有下列的構成(構成1)一種缺陷檢查方法，用來檢查具有遮光部、透射部和灰調部的灰調掩模的缺陷，其中灰調部是調整透射量的區域，目的是減少透射過該區域的光的透射量而可選地改變光敏抗蝕劑的膜厚，其特徵在於，使用掃描掩模內的圖形所得到的透射率信號，對於該透射率信號，設有灰調部中透射率缺陷的閾值，在超過該閾值時，判斷為灰調部中發生透射率缺陷。
(構成2)如構成1所述的缺陷檢查方法，其特徵在於，還設有遮光部及透射部中透射率缺陷的閾值，在超過該閾值時，判斷為遮光部或透射部中發生透射率缺陷。
(構成3)如構成1或2所述的缺陷檢查方法，其特徵在於，上述灰調部是形成使用灰調掩模的曝光機的解析度界限以內的遮光圖形的區域，並且將上述透射率缺陷的閾值設定為超過該灰調區域中特有的基本信號水平的、超過該灰調部的允許透射率的水平。
(構成4)如構成1或2所述的缺陷檢查方法，其特徵在於，上述灰調部是形成可控制透射過膜的光的透射量的半透射膜的區域，並且將上述透射率缺陷的閾值設定為超過該灰調部的允許透射率的水平。
(構成5)一種缺陷檢查方法，用來檢查具有遮光部、透射部和灰調部的灰調掩模的缺陷，其中灰調部是調整透射量的區域，目的是減少透射過該區域的光的透射量而可選地改變光敏抗蝕劑的膜厚，其特徵在於，具有檢測裝置，用平行光源和受光透鏡掃描掩模內形成的圖形來檢測透射率信號；設定裝置，對於上述透射率信號，至少設定灰調部中透射率缺陷的閾值；以及判斷裝置，在超過上述閾值時，判斷為灰調部中發生透射率缺陷。
(構成6)如構成1～4中任何一個所述的缺陷檢查方法，其特徵在於，灰調掩模是用於製造LCD的掩模或用於製造顯示設備的掩模。
(構成7)一種光掩模缺陷檢查方法，其特徵在於，在光掩模圖形的缺陷檢查方法中，根據基於掃描掩模內的圖形所得到的透射率信號的透射率的異常變化來檢測缺陷。
(構成8)如構成7所述的光掩模缺陷檢查方法，其特徵在於，上述根據透射率的異常變化的缺陷檢測，是根據對應檢查對象圖形區域所設定的透射率缺陷閾值來進行的。
(構成9)如構成7或8所述的光掩模缺陷檢查方法，其特徵在於，上述光掩模是包含細微圖形的用於製造LCD的掩模或包含細微圖形的用於製造顯示設備的掩模。
(構成10)一種缺陷檢查裝置，用來檢查光掩模，其特徵在於，具有檢測裝置，用平行光源和受光透鏡掃描掩模內形成的圖形來檢測透射率信號；設定裝置，對於上述透射率信號，根據檢查對象圖形區域設定透射率缺陷閾值；判斷裝置，在超過上述閾值時，判斷為該圖形區域中發生透射率缺陷。
根據構成1和構成5，由於灰調部中設有透射率缺陷的閾值，用掃描掩模內的圖形所得到的透射率信號，就能進行透射率自身的直接檢查，因此，可以確保灰調掩模的灰調部中的透射率。
其次，由於存在不進行圖形識別的檢查方法，所以在檢查細微圖形時，就可以避免由特有的圖形形狀而導致的發生疑似缺陷的問題(無法降低閾值的問題)。因此，可以降低閾值，來獲得滿足灰調掩模所要求精度(規格)的靈敏度。
再次，使用透射率信號，可以避免在比較檢查時由於獲取差信號而導致的灰調部特有的基本信號水平的增大問題(無法降低閾值的問題)，因此，可以降低閾值，來獲得滿足灰調掩模所要求精度的靈敏度。
還有，由於可以不要比較對象物，因此可以用單眼進行檢查。
再有，通過變更灰調部所用的透射率缺陷抽出閾值，能夠確保與用戶使用的灰調掩模的曝光條件一致的透射率。
根據構成2，可以同時檢測出遮光部的遮光性的低下缺陷和透射部的透射性的低下缺陷等的半透射性(所謂的半狀)的透射率缺陷。另外，如果遮光部中出現白缺陷或者透射部中出現黑缺陷，由於並不是透射率中有異常，因此判斷為正常的透射部或遮光部。
此外，在構成2中，由於使用由灰調部用透射率缺陷抽出閾值和通常的遮光部及透射部透射率缺陷抽出閾值所形成的透射率缺陷域，所以能夠不依賴於檢查區域檢測出透射率缺陷。也就是說，只要進入這個透射率缺陷域，不必根據檢查區域就能判斷為存在透射率缺陷。
根據構成3，上述灰調部是使用灰調掩模的曝光機的解析度界限以內形成的遮光圖形的區域時，將透射率缺陷抽出閾值設定為超過如圖5所示的灰調部特有的基本信號水平16的水平。由此，能夠排除灰調部所特有基本信號水平的影響。優選地，在這種情況下，透射率缺陷抽出閾值以基本信號水平16的中心值為基準值設定。此外，由於把透射率缺陷抽出閾值設定為灰調部的允許透射率的上限和下限，可保證灰調部的透射率。
根據構成4，上述灰調部是在形成可控制透射膜的光的透射量的半透射膜的區域時，由於把透射率缺陷抽出閾值設定為灰調部的允許透射率的上限和下限，可保證灰調部的透射率。
根據構成6，由於通常半導體用的灰調掩模尺寸比較小，因此即使需要一定費用和時間，通過與顯微鏡一體化的透射率檢查儀器，還是可以進行灰調部等的透射率檢查；而對於LCD製造用的灰調掩模，不僅尺寸大，透射率缺陷部位也多，用類似的方法檢查，工程負擔特別大，實際中進行這種透射率檢查也很困難。因此，本發明的缺陷檢查方法在LCD製造用的灰調掩模的實際應用中是必不可少的。
這種情況不只限於LCD(液晶顯示設備)製造用的掩模，對於其他的顯示設備也同樣適用。此外，在LCD製造用掩模中，包含製造LCD所必需的所有掩模，例如，包含用於形成TFT(薄膜電晶體)、低溫多晶矽TFT、彩色過濾器等的掩模。其他顯示設備製造用的掩模中，包含製造有機EL(場致發光)顯示器、等離子體顯示器等所必需的所有掩模。
根據構成7～10，由於能夠檢測出基於掃描掩模內圖形所得透射率信號的透射率的異常變動導致的缺陷，且具有不進行圖形識別的檢查方法，特別地，例如，在檢查光掩模中線寬小於3μm的線和空白等細微圖形時，能夠避免由特有的圖形形狀導致的產生疑似缺陷的問題(無法降低閾值的問題)。因此，可以降低閾值，來獲得滿足圖形要求精度(規格)的靈敏度。
其次，由於使用了透射率信號，可以避免在比較檢查時由獲取差信號而導致的灰調部特有的基本信號水平的增大問題(無法降低閾值的問題)，因此，可以降低閾值，來獲得滿足灰調掩模所要求精度的靈敏度。
還有，由於可以不要比較對象物，因此可以進行單眼檢查作為包含有這種細微圖形的掩模，可列舉出諸如LCD製造用光掩模和有機EL顯示器、等離子體顯示器等顯示設備製造用的光掩模、具有用來形成TFT溝道部和連接孔部的細微圖形的光掩模。
圖1是本發明的一個實施方式的缺陷檢查方法的說明圖。
圖2是透射率缺陷的一種形態的說明圖。
圖3是透射率缺陷的另一種形態的說明圖。
圖4是透射率缺陷的再一種形態的說明圖。
圖5是灰調區域中特有的基本信號水平的說明圖。
圖6是灰調掩模的說明圖。(1)是部分平面圖；(2)是部分剖面圖。
圖7是用來說明灰調部的另一種形態的部分平面圖。
圖8是用來說明灰調部的再一種形態的部分平面圖。
圖9是現有的缺陷檢查方法的說明圖。
具體實施例方式
以下，對於有灰調部的灰調掩模的缺陷檢查方法和缺陷檢測裝置作具體地說明。
圖1(1)表示在遮光部1、透射部2和灰調部3、5中都沒有發生缺陷的情況，箭頭表示檢查裝置的透鏡的掃描方向(檢查方向)。
圖1(2)表示沿著上述的掃描方向而得到的透射率信號7。透射率信號在遮光部1透射率為0％、透射部2透射率為100％、灰調部3、5透射率為50％。
本發明的特徵在於對上述透射率信號設定一定的閾值，用來檢測透射率缺陷。
具體地，如圖1(2)所示，在灰調部中設置透射率缺陷的閾值(上限側為8a、下限側為8b)、在超過該閾值時，判斷為灰調部中發生了透射率缺陷。
優選地，在這種情況下，如圖1(2)所示，在普通的遮光部和透射部中也設有透射率缺陷的閾值(透射部側為9a、遮光部側為9b)，在超過該閾值時，根據在遮光部還是在透射部中發生透射率缺陷的判斷，能夠同時檢檢測出遮光部中遮光性的低下缺陷和透射部中透射性的低下缺陷等半透射性的透射率缺陷。
還有，在這種情況下，通過使用根據灰調部用的透射率缺陷抽出閾值8a、8b和普通的遮光部及透射部的透射率缺陷抽出閾值9a、9b而形成的透射率缺陷域10a、10b，能夠不依賴於檢查區域檢測出透射率缺陷。也就是說，如果進入這個透射率缺陷域10a、10b，不必根據檢查區域就能判斷為存在透射率缺陷。
下面對於透射率缺陷的形態進行說明。
第一，如圖2(2)所示，即使在灰調部3、5沒有形狀缺陷(白缺陷或黑缺陷)時，如圖2(2)所示，有時灰調部整個區域的透射率水平都大致相同地超過灰調部的透射率缺陷閾值(上限側為8a、下限側為8b)。本發明對於像這樣，即使在灰調部沒有形狀缺陷，也能檢檢測出透射率缺陷。在這種情況下，用比較檢查法來檢測透射率缺陷是困難的。
第二，如圖3(1)所示，在灰調部3、5有形狀缺陷(黑缺陷4和白缺陷6)時，根據這個形狀缺陷，如圖3(2)所示，有時灰調部整個區域的透射率水平都大致相同地變化。本發明在這種情況下，也能檢檢測出透射率缺陷。
第三，如圖4(1)所示，在灰調部3、5有形狀缺陷(黑缺陷4和白缺陷6)時，根據這個形狀缺陷，如圖4(2)所示，有時在只在有形狀缺陷的部分，透射率出現急劇變化。在這種情況下，能將灰調部中的形狀缺陷作為透射率缺陷檢測出。
本發明中，上述灰調部是形成使用灰調掩模的曝光機的解析度界限以內的遮光圖形的區域時，將透射率缺陷抽出閾值設定為超過如圖5所示的灰調部特有的基本信號水平16的水平。由此，能夠排除灰調部特有基本信號水平的影響。優選地，在這種情況下，透射率缺陷抽出閾值以基本信號水平16的中心值為基準值設定。此外，設定透射率缺陷抽出閾值(上限側為8a，下限側為8b)為灰調部允許透射率的上限和下限，可以保證灰調部的透射率。
本發明中，上述灰調部是形成可控制透射過膜的光的透射量的半透射膜的區域時，設定透射率缺陷抽出閾值為灰調部允許透射率的上限和下限。這樣能保證灰調部的透射率。
本發明中，能夠設定各閾值為任意值。特別是，通過變更灰調部的透射率抽出閾值，能確保與用戶使用灰調掩模的曝光條件一致的透射率。
根據本發明，對於只有灰調部的灰調掩模也能夠進行透射率檢查，對於將只有遮光部和透射部的普通的掩模，和具有遮光部、透射部和灰調部的灰調掩模混在一起的情形也能夠進行透射率檢查。
下面，說明本發明的比較檢查裝置。
本發明的檢查裝置，用平行光源和受光透鏡逐個掃描掩模內形成的圖形來逐個檢測透射率信號的方法。具體地說，例如，具有在掩模的一側設置的平行光源(與透鏡對應的點光源或者掩模全面照射光源)、在掩模的另一側設置的受光透鏡、和使掩模和透鏡相對移動的對掩模的全部區域內進行掃描的裝置(通常是掩模臺移動裝置)，通過這些裝置，沿著掃描方向通過透鏡接收透射光。或者，例如，用在透鏡單元內配置的CCD線型傳感器，檢測出透射率信號。
透射率信號被發送到具有灰調部的透射率缺陷抽出閾值和通常部的透射率缺陷抽出閾值的缺陷檢測電路，來判斷透射率缺陷。缺陷檢測電路中，在一定時間內有中間域透射率的透射率信號，如果超出灰調部用透射率缺陷抽出閾值的上限或者下限時，判斷為灰調部的透射率缺陷。或者，在一定時間內透射率為0％附近的透射率信號，如果高於遮光部用的透射率缺陷抽出閾值時，判斷為遮光部的透射率缺陷。同樣的，在一定時間內透射率為100％附近的透射率信號，如果低於透射部用的透射率缺陷抽出閾值時，判斷為透射部的透射率缺陷。在這些情況下，不能將邊緣信號判斷為透射率缺陷。根據由哪個閾值檢測出透射率信號，能判斷出在哪個區域發生了缺陷。
在本發明中，可以設置識別正在檢查遮光部及透射部和灰調部中哪個區域的裝置，由此，能夠簡單並準確地辨別出哪個區域發生了透射率缺陷。
本發明並不只限於上述的實施方式。
例如，如圖7所示，灰調部3中的遮光圖形3a為虛線型時，或如圖8所示，灰調部3用半透射膜3c來構成時，也適用本發明。
本發明的缺陷檢查方法及缺陷檢查裝置可以和比較檢查方法及其裝置組合使用。這種情況下，在用比較檢查檢測出圖形形狀缺陷的同時，可以通過本發明的透射率檢查檢測出透射率缺陷。
在上述實施例中，對於灰調掩模的灰調部檢查進行了描述，但本發明並不僅限於此，例如，還可用於形成TFT溝道部的光掩模等、包含與上述灰調部相同的細微圖形的光掩模。即使在這些應用中，也能進行高精度的缺陷檢查而不檢測疑似缺陷。
如上所述，根據本發明的灰調掩模缺陷檢查方法和缺陷檢查裝置，可以確保灰調掩模的灰調部的透射率。
特別是，本發明的檢查方法在LCD用的灰調掩模的實際應用上是必不可少的。
另外，本發明的光掩模檢查方法可以對高檢查標準的細微圖形進行高精度(高靈敏度)的檢查。
權利要求
1.一種缺陷檢查方法，用來檢查具有遮光部、透射部和灰調部的灰調掩模的缺陷，其中灰調部是調整透射量的區域，目的是減少透射過該區域的光的透射量而可選地改變光敏抗蝕劑的膜厚，其特徵在於，使用掃描掩模內的圖形所得到的透射率信號，對於該透射率信號，設有灰調部中透射率缺陷的閾值，在超過該閾值時，判斷為灰調部中發生透射率缺陷。
2.如權利要求1所述的缺陷檢查方法，其特徵在於，還設有遮光部及透射部中透射率缺陷的閾值，在超過該閾值時，判斷為遮光部或透射部中發生透射率缺陷。
3.如權利要求1或2所述的缺陷檢查方法，其特徵在於，上述灰調部是形成使用灰調掩模的曝光機的解析度界限以內的遮光圖形的區域，並且將上述透射率缺陷的閾值設定為超過該灰調部中特有的基本信號水平的、超過該灰調部的允許透射率的水平。
4.如權利要求1或2所述的缺陷檢查方法，其特徵在於，上述灰調部是形成可控制透射過膜的光的透射量的半透射膜的區域，並且將上述透射率缺陷的閾值設定為超過該灰調部的允許透射率的水平。
5.一種缺陷檢查方法，用來檢查具有遮光部、透射部和灰調部的灰調掩模的缺陷，其中灰調部是調整透射量的區域，目的是減少透射過該區域的光的透射量而可選地改變光敏抗蝕劑的膜厚，其特徵在於，具有檢測裝置，用平行光源和受光透鏡掃描掩模內形成的圖形來檢測透射率信號；設定裝置，對於上述透射率信號，至少設定灰調部中透射率缺陷的閾值；以及判斷裝置，在超過上述閾值時，判斷為灰調部中發生透射率缺陷。
6.如權利要求1～4中任何一個所述的缺陷檢查方法，其特徵在於，灰調掩模是用於製造LCD的掩模或用於製造顯示設備的掩模。
7.一種光掩模缺陷檢查方法，其特徵在於，在光掩模圖形的缺陷檢查方法中，根據基於掃描掩模內的圖形所得到的透射率信號的透射率的異常變化來檢測缺陷。
8.如權利要求7所述的光掩模缺陷檢查方法，其特徵在於，上述根據透射率的異常變化的缺陷檢測，是根據對應檢查對象圖形區域所設定的透射率缺陷閾值來進行的。
9.如權利要求7或8所述的光掩模缺陷檢查方法，其特徵在於，上述光掩模是包含細微圖形的用於製造LCD的掩模或包含細微圖形的用於製造顯示設備的掩模。
10.一種缺陷檢查裝置，用來檢查光掩模，其特徵在於，具有檢測裝置，用平行光源和受光透鏡掃描掩模內形成的圖形來檢測透射率信號；設定裝置，對於上述透射率信號，根據檢查對象圖形區域設定透射率缺陷閾值；判斷裝置，在超過上述閾值時，判斷為該圖形區域中發生透射率缺陷。
11.一種製造灰調掩模的方法，其特徵在於，包含採用權利要求1所述的缺陷檢查方法的缺陷檢查工序。
12.一種製造灰調掩模的方法，其特徵在於，包含採用權利要求7所述的缺陷檢查方法的缺陷檢查工序。
全文摘要
本發明提供一種保證灰調掩模中灰調部的透射率的缺陷檢查方法及缺陷檢查裝置。該缺陷檢查方法，用來檢查具有遮光部、透射部和灰調部的灰調掩模的缺陷，其中灰調部是調整透射量的區域，目的是減少透射過該區域的光的透射量而可選地改變光敏抗蝕劑的膜厚。使用掃描掩模內的圖形所得到的透射率信號，針對該透射率信號7，設定灰調部中透射率缺陷的閾值為8a、8b，在超過該閾值8a、8b時，判斷為灰調部中發生透射率缺陷。
文檔編號G03F1/00GK1401993SQ0210824
公開日2003年3月12日 申請日期2002年3月28日 優先權日2001年8月10日
發明者中西勝彥 申請人:保谷株式會社