電加熱反應源儲存及供應設備的製作方法

2023-05-22 09:21:36 1

本發明涉及一種供溫裝置，尤其是電加熱反應源儲存及供應設備，屬於半導體薄膜沉積應用及製備技術領域。

背景技術：

為了滿足為滿足氣相沉積膜設備在沉積時的反應要求，在沉積過程中要向反應腔室內部通入各種反應源，其反應源形態包含氣態、液態及固態等。因此需要一種裝置來儲存及在沉積過程中向反應腔室內供應反應源，且需要此裝置對反應源加熱。尤其對於液態和固態的反應源，可使用此裝置對反應源進行加熱(氣化或升華)。

技術實現要素：

針對上述現有技術的不足，本發明提供了電加熱反應源儲存及供應設備。

為實現上述目的，本發明採用的技術方案是：電加熱反應源儲存及供應設備，包括外殼，加熱管，反應源存儲器，高溫閥和接口。加熱管處於外殼的內壁上。反應源存儲器放入到外殼內。高溫閥設置在反應源存儲器的上端。接口設置在高溫閥上並與反應腔室連接。

本發明的有益效果及特點：通過採用此電加熱反應源儲存及供應裝置，在整個沉積應用過程中，可以很好的實現反應源的儲存及供應。

附圖說明

圖1是本發明的結構示意圖。

圖2是本發明的使用狀態圖。

具體實施方式

下面將結合本發明實施例中的附圖，對本發明實施例中的技術方案進行清晰、完整地描述，顯然，所描述的實施例僅僅是本發明一部分實施例，而不是全部的實施例。基於本發明中的實施例，本領域普通技術人員在沒有做出創造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例，都屬於本發明保護的範圍。

如圖1和圖2所示：電加熱反應源儲存及供應設備，包括外殼1，加熱管2，反應源存儲器3，高溫閥4和接口5。加熱管2處於外殼1的內壁上。反應源存儲器3放入到外殼1內。高溫閥4設置在反應源存儲器3的上端。接口5設置在高溫閥4上並與反應腔室連接。

使用時，在反應源儲存器內儲存反應源，通過接口與反應腔室相連接。將高溫閥打開後，可向反應腔室提供反應源，同時通過電加熱管，可以對裝置進行加熱。