含有對抗性環境的過程容器內部溫度測定儀的製作方法
2023-05-12 16:00:56
專利名稱：含有對抗性環境的過程容器內部溫度測定儀的製作方法
技術領域：
本發明就一般而論，是關於充氣容器或管道中的溫度測量問題。更詳細點說，它是關於含有高溫計的系統的改進，這種高溫計是專門用於測量反應室裡提高後的溫度的。一個以烴基燃料部分氧化而氣化的方法，生產合成體氣的發生器，就是這類反應室的一例。
一個氣化過程可能包括氣體、液體或固體烴基的氣化。其中含不同濃度的不可氣化的灰分物質。這種氣化反應是在高溫和高壓的反應容器內部進行，該反應容器是由內部連續多層地敷以耐火材料的內襯。根據烴基原料的組成成分，各種熱態氣體在這樣過程中產生，正常情況下都含有(由反應)帶來的不能轉化的碳的顆粒，參加反應的烴燃料，熔化的灰分和/或不熔化的高熔點灰分物質。在這樣過程中使用的反應室的內部耐火牆，常會生成一層熔化了的灰渣，垂直地順牆流下，直奔底部出口。
在如上述的氣化過程中，具有一套可靠的反應室溫度測定裝置是很重要的。溫度測量的可靠性多方面地影響氣化過程的運行，包括對反應的控制、過程運行安全、耐火襯的毀壞率、以及熔化灰分的粘度控制，控制粘度的目的是保證有適當的灰渣通過反應器底部排除。
考慮到溫度測定，曾使用過輻射高溫計來測量諸如氣化反應器及其相類設備的熱表面和熱態大氣空間。輻射測高溫技術包括熱態環境發散出的熱輻射的測定和由輻射定律有關的知識和關於要測量的表面和/或氣體的輻射特性的知識或合理假設推論出其溫度。
用以測量固體輻射的探測器是十分精密的而且需要與對抗性的大氣環境絕緣，此大氣的溫度正是需用它測定的。正常情況下，這種絕緣是用瞄準璃窗口的形式同時還用一個氣體清洗孔口通入容器外殼和其耐火襯的辦法來實現的。這種辦法為探測器提供了一個清潔的光學瞄準線，直通容器的內部。
上述絕緣方法的一個缺點在於不論何時只要被測的大氣中含有熔化了的顆粒時，清洗過的觀察孔就會被阻塞。在這種條件下，熔化的顆粒就可能被與其相鄰的清洗觀察孔的清洗氣體冷卻器冷卻而凍結。因而光學瞄準通道就會逐漸地被積累的物料所堵塞。
關於解決這個問題的以前的一個專利是要在高溫計與高溫反應器之間維持一開式瞄準線，此專利是美國專利No.4，411533。這個發明包括一個由觀察孔的壁面和頂部組成整體的頂棚架，以便把熔化的物料從孔口的頂部引開，和一個由觀察孔的底部組成整體的傾斜的蔭避通道，以便把熔化的物料從孔口的底部疏放走。
上述系統在實線中可能會遇到幾個困難。當生產出來的反應氣體攜帶高濃度的熔化顆粒時，大量的熔化物料從容器內部的縱向牆壁上流淌下來，覆蓋住從瞄準孔為把物料引開而伸長棚架的容量。此外，如果熔化的物料與用以做伸長棚架的耐火材料有化學侵蝕作用時，此棚架就被侵害以至磨損掉。
但是，主要困難還在於清洗氣體，清洗氣體是保護瞄準孔的光學窗口與反應室內部的高溫氣體隔離的，而此清洗氣體同時也冷卻伸長的棚架。其結果使此棚架就成了冷卻了的點，而此冷卻點增加了對接觸到它的熔化物料的凍結，以致於有足夠的冷凍物料積聚，而使整個觀察孔被堵塞。
另一個以前的專利，為美國專利No.4，400，097，此專利的作者們發明了一個含有一個高溫計的輻射測量儀。高溫計以一個伸長了的、穿過容器的耐火襯的測量管道從氣化器式反應器接受輻射。測量管道提供了一個防止氣體從容器中漏洩的安全室。安全室是一個密封的有兩個光學窗口的小間。光學窗口是為防止灰塵和氮氣清洗流的凝結液進入光學管內。在第二個外部光學管裡流動的蒸汽是用以維持一清潔的開孔通進反應器。此外，還有第三個抗熱窗孔用來防止蒸汽回流進內光學管和凝結在安全室的窗口上。
上述以前的兩項專利的共同的另一弱點是，最靠近反應室的觀察孔為一簡單地鑽通了容器的耐火襯的孔。這類孔眼很容易被熱和機械應力所強制而弄歪或毀壞。這些應力可能在周密設計的反應室內佔優勢。由於熱膨脹差的結果，某一耐火層可能與另外的耐火層錯開，這樣就可能部分地或全部地堵塞觀察通道。反應室內迅速變化著的溫度能使孔口邊緣周圍的耐火襯裂開，當這耐火襯一片片地脫落，孔口就擴大，瞄準通道變得難以清洗和清除堵塞物。
總之，以前的技術所提供的儀器易發生問題，或被積聚的在瞄準孔口周圍的凍結的物料堵塞瞄準通道或被最靠近反應室的耐火材料的孔口部分的錯開或毀壞而堵塞瞄準通道。
為了克服上述障礙而獲得可靠的溫度測量，提供一套新穎的系統的改進，此系統使用的為反應容器內的高溫測量用的高溫計。
本發明的一個目的是提供一個改進了的溫度監視系統在其中的對抗性環境裡使用高溫計。
另一目的是提供一個改進了的光學引進口通向有粗糙的顆粒的環境，以獲得要求有潔淨的瞄準通道的光學測量設備，以便取得測量的精確性和可靠性。
進一步的目的，是提供一個耐久的光學引進口通到對抗性的環境中，而不會被此環境毀壞或弄歪。
再進一步的目的是提供周期性地清洗高溫計瞄準通道的裝置，此瞄準通道常被堵塞。
簡單地說，本發明是關於測量含有攜帶固體的熱態氣體溫度的裝置。這些熱態氣體是裝在以耐火材料加襯的反應室或管道中的。特別要說明的是反應室，其中有攜入固體的熔化體片，總要在反應室或管道的壁面上形成熔化物質層。
這種儀器有一個高溫計，諸如紅外線比例高溫計，通過一鑲著兩塊觀察玻璃的帶邊緣的筒子瞄向反應室或管道、一個瞄準線的開口安全閥，和一耐火金屬的瞄準管。為了安放此瞄準管，就在容器或管道的單層或多層耐火材料襯層鑽通一個孔。所鑽的孔與一端聯在容器或管道上的法蘭盤孔口同軸心。此瞄準管插入聯接孔口，使其最前端與加襯的容器或管道內表面取平。孔口的在耐火襯中的尺寸應與瞄準管和耐火襯之間留一小的環形縫隙。
另外，還提出一套清洗瞄準玻璃、閥門和瞄準管的內表面和外表面的裝置並附有適當的清洗氣體，或清洗用的各種配合氣體，如氮氣或由產品合成氣體中分出一小股，加以冷卻或清洗後的合成氣體，瞄準玻璃的帶邊捲筒片、閥門、瞄準管和清洗裝置都一個挨一個地聯接起來並聯到上述的容器的孔口上，聯接時應保證裝有熱態氣體的容器的壓力整體性。系統的所有的組成部件必須維持在精確的、以法蘭盤環、高溫計定線環與瞄準管中心環定位的一條光學定位線上。
除上述各元件的配合外，還提供一套控制系統，這套控制系統不僅監視清洗系統內部的流量和壓力，而且提供一套裝置動態地調節各清洗流量以及響應反應室或管道內各參數變化的脈衝量。本發明的一個基本方面，就是清洗氣體的流率和脈衝可被控制得不僅能保持瞄準通道清潔，而且如果在反應室或管道內的一些困難的運行條件下瞄準通道被堵塞了，還可以讓它重新打開。
同時還提供一套安全系統包括監視兩塊瞄準玻璃的完整性的裝置以及在一些不期而遇的事件中，一塊或兩塊瞄準玻璃故障時能採取補救措施的裝置。
本發明的前述以及其它目的和優點將在下面聯繫著被要實現本發明的發明者們所完成的最佳模式來更充分地加以說明。聯繫到此模式還提供以圖的形式的說明，它們是
圖1 為說明所包括的各元件的組合的橫剖面圖;和圖2 為在圖1上沿2-2線截取的橫剖面圖;
如上面所指出的，在裝有含固體的熱態氣體同時在其壁面上還有一層熔化了的物料的容器或管道內部的溫度，可用一高溫計來測量。在這種情況下，不僅高溫計需要保護，而且聯通到容器的瞄準通道也必須維持得筆直、清潔並清除所有的障礙物。因此，就要求有一個像圖1所說明的各種元件組成的系統。
圖1表示有耐火材料做內襯的容器或管道8的一部分。在此容器或管道內有熔化了的材料層24，它在耐火內襯的最裡面的表面上形成。高溫計1經系統的法蘭盤孔口12和若干其它元件一起聯接在容器8上，以接受由容器8的內部11通過瞄準孔15發射出來的輻射。該瞄準孔是由內部噴管12和同軸沿直線鑽透耐火層9和10而得到的直線孔，穿過瞄準孔15，和最裡層的耐火層表面25取平地插入一根瞄準管7，此管是用耐火金屬，如具有很高重結晶溫度的鉬合金製成的。
瞄準孔7穿過容器的所有耐火襯，聯接在一個瞄準管的中心環6上。此環同心地固定在容器的法蘭盤孔口12上。瞄準管中心環6做成像一個中心有孔的油炸麵餅圈一樣，有一個很小的油炸麵餅圈式的內部通道16，它與在旁邊引入的小孔17也相通，小孔17是聯接清洗氣體源26用的，清洗氣體如氮氣通過管線37與小孔17相連。內部通道16也與由瞄準孔15和瞄準管7之間形成的環形空間14通過許多小孔27相通。這些小孔沿著中心環的周界等距分布。由清洗氣體26、旁側通入孔17，內部通道16，小孔27和環形空間14所形成的空間提供一通道叫做二次清洗氣流。此氣流提供了一套維持或連續或斷續的清洗氣流來清洗瞄準管7的外表面的裝置。此二次清洗氣流也捲成一惰性氣體的保護層，用以在可能暴露在氧化的大氣環境的地方的情況下保護鉬合金的瞄準管7。清洗氣體26供應壓力維持在比容器8的內部11的壓力高出10至1000psi(磅每平方英吋)，最好高出100至500psi為宜。其氣流率被閥門43控制著。
聯接著瞄準管中心環6的是閥門5。在緊急情況下此閥門十分快速地關閉。可以這樣理解，閥門5是這樣製作的，如果該閥在開啟的位置，那麼內部空間18中就沒有堵塞容器11的內部與高溫計1之間的光學瞄準通道，閥門5的啟動器47的尺寸做成即使在容器的內部和外部之間存在著全壓力差時也能關閉閥門。關閉閥門5可以用手動引發也可以由控制系統28引發，控制系統監督並控制著整個系統的功能。
閥門5的另一端聯接到一次清洗環4上，一次清洗環本身則聯接在雙瞄準玻璃有邊緣的筒片3上。雙瞄準玻璃有邊筒片具有兩片高壓瞄準玻璃21和22，用以傳遞從容器內部11至高溫計1之間的熱輻射，同時又維持容器8的壓力的整體性。兩片瞄準玻璃21和22，有邊筒片3、一次清洗環4，閥門5和瞄準管中心環6都是既分別製造又能成為整體，以便能承受可能在容器8中產生的高壓。瞄準玻璃21和22本身可用適當的材料製造，如石英或藍寶石，它們都在適當的光譜域具有很高的透射性，而且具有必要的機械性能參數。
與瞄準管中心環6相似，一次清洗環4做成有中心孔的油炸麵餅圈的形狀，有一個更小一點的油炸麵餅圈狀的內部通道20與由旁邊引入的小孔19相通，以便與清洗氣體如氮氣源29經管線36相聯接，須注意，氣源29可以做成與給瞄準管中心環6的供氣源26相同，但這並不是必須的。清洗氣體供應源29要維持氣壓比容器8的內部11的壓力高出10至1000psi(磅每平方吋)，高出100至500psi是最為可取的。清洗氣體的流率由閥門44來控制。
一次清洗環4的內部通道20也與沿油炸麵餅圈狀的清洗環4通過許多等距布置的小孔31所形成的圓筒形空間30相通著。這許多小孔圍繞著清洗環沿其周界排列而與一次瞄準玻璃21有一定的角度。
由清洗氣源29、旁路引入聯接孔19，油炸麵餅圈狀的內部通道20、沿周界排列的許多小孔31、圓筒形空間30在一次清洗環內部4和閥門5的內部空間，瞄準管中心環6和瞄準管7所形成的空間，提供了清洗氣體流動通道，叫做一次清洗流，此清洗流最少有兩種功能;第一藉助氣體從小孔引流出，在瞄準玻璃21表面上的衝掃作用使一次瞄準玻璃的內表面保持冷態和光學清洗，然後這氣體再流入一次清洗環4的空間30。第二，瞄準管7的內部和瞄準管的開口13被清洗而保持開啟，並因流過光學通道的氣體的清洗作用而免除了堵塞物，此光學通道由一次瞄準玻璃21的內表面開始連續經過圓筒空間30、閥門5的內部空間18、瞄準管中心環6的內部空間32、瞄準管7的內部一直到瞄準管的開口13。在這些空間裡的清洗氣流或是連續的或是間斷的、後面還將作出解釋。
清洗氣體流出兩個開口13和14進入容器內部11，而與反應氣體混合。
具有雙層瞄準玻璃的有邊筒片3、一次清洗環4、閥門5和瞄準管中心環6各自的端部都以聯接環型法蘭盤裝配件密接在一起，此裝配件能自動地把各元件按同心軸線排列。瞄準管7也做成與上述各元件同心軸線排列。高溫計1安裝系統中的各元件上並以一個光學定位環2與它們保持精密的光學定位直線。光學定位環2也用一個聯接環型法蘭盤裝配件裝配，以與雙瞄準玻璃的有邊筒片6相接。高溫計的光學定位直線，用轉動光學定位環2上的調整螺旋來完成。
這樣，從高溫計1一直到容器8的內部11的光學瞄準通道就從高溫計的鏡頭開始穿過光學定位環2、雙瞄準玻璃有邊筒片3的兩片同心安放的高壓瞄準玻璃21和22、一次清洗環4的內部圓筒形空間30、閥門5的內部空間18、瞄準管中心環6內部圓筒形空間32，瞄準管7的圓筒形的內腔一直到瞄準管的開口13。
除上述的這些元件的配套，清洗光學瞄準通道、瞄準管7的外部圓筒表面等清洗裝置外，在這裡提出權利要求的系統還提供一套在緊急清洗下，使高溫計1、和瞄準玻璃21和22與容器8隔絕的安全裝置。
簡言之，這套安全系統包括一個監視兩片瞄準玻璃的裝置以及一個在發生不希望出現的事件時即一片或兩片瞄準玻璃被破壞了的時候能採取補救措施的裝置。
安全系統的基本元件是雙瞄準玻璃有邊筒片3。參照圖1，可見一次瞄準玻璃21和二次瞄準玻璃22是以一個小的，密封的、不透氣的空間33所分割。這個空間與通過管線35而聯接到一個高壓氣源34的旁側引入孔23相通。氣源34可做成與氣源29和/或26一樣的，但這不是必需的。儘管一般而論從氣源34出來的氣體是惰性氣體。氣源34的壓力是這樣控制的，它總是容器8的內部11的壓力高出10至500磅每平方吋，最好是高出100～200磅每平方吋。正常情況下，在管線35中沒有氣流，因為這條管線終端是在瞄準玻璃21和22之間的密封的不透氣的空間33中，但是，一旦一片或兩片瞄準玻璃發生故障時就開始漏氣，流量敏感元件38就要檢測管線35中大於零的流量，壓力敏感元件39就要檢測低於整定壓力值的壓力降。在這種情況下，敏感元件38和39就要通過信號線路40和41分別地發出信號去控制系統28。一旦從40或41的任一條線路或兩條同時接受到信號，控制系統28便通過線路42關閉閥門5。
如果一片瞄準玻璃發生故障，安全系統也提供了一種功能來確定哪一片發生了故障。如一次瞄準玻璃發生了故障，那麼就會像壓力敏感元件39所檢測的那樣，管線35中的壓力降低不超過氣源34與容器內部11之間的壓力差。但是，如果二次瞄準玻璃22發生故障、那麼管線35中的壓力將降低到容器內部11的壓力水平之下。
需指出，甚至於一片或兩片瞄準玻璃發生故障，容器8內部的東西也不會從容器中損失掉。如果給一種條件允許(事故)堅持數秒鐘，其結果是會使孔口12和容器8遭到嚴重損壞。如果一次瞄準玻璃21發生故障，那麼氣體就會從壓力高於容器8內部壓力的氣源經管線35，穿過故障的一瞄準玻璃21而進入清洗過的光學瞄準通道，並進入容器的內部11。這種流動情況只需很短的時間，在幾分之一秒的時間裡，就會使敏感元件38和39檢測出故障而給出信號，控制系統28就去關閉閥門5。
另一方面，如果二次瞄準玻璃22發生故障，氣體將從氣源34穿過管線35，穿過故障的二次瞄準玻璃22，進入光學定位環2，衝出到大氣中。敏感元件38和39檢測出管線35中的變化啟動控制系統28迅速關閉閥門5。
本發明的最重要的方面是一套裝置可使各種清洗氣流被控制著以便維持一個清潔的光學瞄準通道、通向裝著熱的、其中帶著顆粒氣體的容器、而且還有一層熔化物料從此容器的縱向牆壁上流下來流入瞄準管的開口中。
再參看圖1，在其壁面25上有熔化物質24的容器中，而且其中的氣體含有熔化的和固體的顆粒，而這些固體顆粒和熔化的物質總是要進入瞄準管的開口13而將它堵塞，從而把通向高溫計1的光學瞄準通道遮住。一組元件包括清洗氣源29，控制閥44、供氣管線36、一次清洗環4和空間20、31、30、18、32和13叫做一次清洗氣流。維持著從一次清洗氣流的氣源29來的氣流為常量，則從一次瞄準玻璃的內表面到瞄準管開口13的光學瞄準通道可以保持清潔、除掉固體和熔化的顆粒。
在容器8裝著帶少量熔化的顆粒的情況下，一個定量的一次清氣流是保持瞄準管開口13清潔而免除遮堵的全部需要。但是在某些情況下有高濃度的熔化顆粒和有相當嚴重的熔化物質層24在容器8的內壁25上，大量的物質積存在瞄準管開口13的頂部，又因冷的清洗氣體在壁面25上造成冷點使其溫度低於熔化物質的熔點溫度區域時。在開始的時候，這種積存的增長還不至於嚴重遮蓋瞄準管的開口13，因而並不明顯地影響由高溫計1上獲得的溫度讀數，但是，當在某些情況下，這種積存物增長到某一點，它開始由於自身重量而彎曲並開始下落到瞄準管開口上，形成嚴重遮蓋，從而戲劇性地影響著溫度讀數。
由這套元件組成的系統所提供的裝置來彌補剛才描述的問題，包括兩個方面第一，所積聚的物質可以再加熱使它再變成熔化了的;第二，這些積聚物可以強制地或吹掉，用沿著光學瞄準通道以及穿過環形空間14，導向到積聚物上的高壓清洗氣體的大量衝擊波使它離開其位置，而進入容器內部11。
清除堵塞物的詳細過程如下當由於聚積物增長而發生堵塞時，此堵塞情況可根據高溫計讀數的穩定下降來檢測。當這種情況出現時，控制系統28分別通過管線42和45去關閉閥門5和43這個動作同時阻止一次清洗氣流，即光學瞄準通道的氣流和二次清洗氣流，即環形空間14的氣流。它同時也瞬間地中斷了溫度讀數。但是如果在同一容器上採用兩套相同的系統時，那麼就可使一套系統一直在測量著溫度，而另一系統執行此衝擊工序。還需注意，閥門5是關閉著的，而閥門44則是開著的，以便保護一次瞄準玻璃21，這時一次清洗氣流是停止了的。
隨著閥門5和43都關閉，兩股清洗氣流都停止，壁面25上的冷點消失了，積聚物質又開始熔化。與此同時，清洗氣源26和29的壓力上升以便用大量的清洗氣體來填充供氣管線36和37準備下一步使用。
過適當時間之後，正常情況下1至60分鐘，最好是1至15分鐘，控制系統28通過管線42、45和46迅速地啟開閥門5、43和44，使這些閥門大開。這樣大量的氣流，正常情況下可維持1至60秒鐘，但最好能維持5至15秒。在此期間高溫計讀數因阻塞消除而恢復到原來的數值。緊接著這段時間之後，控制系統28把閥門43和44調整到它們原來的開度、把氣源26和29的壓力降低到它們的正常水平。
可以理解，本發明雖然可以不脫離其精神和範圍而做出許多變型和改動，但在附錄的權利要求中所指出的那些限制應該確立。
權利要求
1.一種為使烴基混合物在反應器的反應室中進行反應所用的反應器，用以產生合成氣體和特種物質，上述反應器具有內部壁面(8)、耐火襯(9、10)圍繞著反應室和一個膛孔(15)穿過上述襯，從反應器壁上的引入孔和一個開口進入反應室，其特徵為一個可移動的瞄準管組裝在上述膛孔(15)裡，以承擔通往反應室的觀察通路來接觸從那裡出來的輻射線，並包括一個用來確定其內部圓筒形瞄準通路的，伸長了的管件(7)，具有一個平面和內部開口端和一個外部開口端，被安放在上述膛孔(15)中，來確定第二個在上述管件(7)與上述膛孔(15)之間的環狀清洗氣體通路(14)；上述伸長的管件(7)縱向地定位在上述膛孔(15)裡，在這裡其內部開口端的平面放在與反應室壁面(25)共同的平面上；一個環狀的配氣管(6)接在上述伸長管件的上述外開口端，且具有一入口(17)與具有壓力的清洗氣源(26)相通，最少有一個放氣口(27)與上述環形清洗氣體通路(14)相通；一個切斷閥(5)具有與上述配氣管(6)相接的接入口，當閥門開啟時，形成一條直線瞄準線的瞄準通道，穿過該閥門和伸長的管件，而且有一個外部端頭；一個第二環形配氣管(4)接在上述閥門(5)的上述外部端頭上，具有一個與有壓力的清洗源相通的入口，和最少有一個放氣口(31)與由第二環形配氣管所圍成的軸向空間(30)相通，上述空間(30)與切斷閥(5)的內空間直接相接，切斷閥本身又與被管件(7)所確定的圓筒形氣體通道相聯接；一個有邊筒片(3)裝著兩片同軸安裝的瞄準玻璃(21、22)、接在第二環形配氣管(4)上，而且與第二環形配氣管(4)、切斷閥(5)、第一環形配氣管(6)、管件(7)、各個氣源(26、29)、供氣管線以及反應器相配合形成一氣密的封閉體；上述有邊筒片(3)含有一個小的、密封的氣密的封閉體(33)在上述的兩個同軸排列的瞄準玻璃(21、22)之間，在此上述封閉體有一入口(23)可與壓力氣源(34)相通；並有一個光學定位元件(2)聯接在上述有邊筒片(3)的活動端，提供一個銜接高溫計並為它或任何其它的此類接受輻射的設備做光學定位的裝置，目的是測定由反應器中的氣體和顆粒物質發射出的熱輻射。
2.如權利要求1所定義的儀器，其中，上述的管件(7)、上述的內部圓筒狀的清洗氣體通路和上述的環形清洗氣體通路(14)在一個垂直於上述管件的縱軸的平面上，實質上具有相同的斷面面積。
3.權利要求1或權利要求2所定義的儀器，所述管件(7)是用以耐高溫和高重晶溫度為特徵的材料製作;而且其中上述的管件(7)具有在高溫強度下，能夠不軟化彎曲地抵抗剪應力，這種剪應力在容器內部耐火襯的層間發生錯位的時候可能加在此管件上;這裡，上述管件(7)是能抵抗能夠使管子發生綻裂和毀壞後果的熱應力的。
4.權利要求1至3中任一條所定義的儀器，其中配套元件是這樣聯接的，當上述切斷閥(5)在其正常開啟的位置時，能夠提供可移動的、筆直而不被堵塞的、從上述反應室的內表面到接觸輻射的接受設備(1)的光學瞄準路徑。
5.如權利要求1至4中任一條所定義的儀器，其中第一環形配氣管(6)、第二環形配氣管(4)和雙瞄準玻璃的有邊圓筒片(3)全都在壓力高於反應室中壓力的氣源(26、29、34)。
6.由權利要求5定義的儀器，其中提供可以獨立控制相應的清洗氣流進入第一和第二環形配氣管(4、6)的壓力和流率。
7.權利要求6所定義的儀器、其中清洗氣體是一種惰性氣體。
8.權利要求6所定義的儀器，其中清洗氣體是過程氣體，如從反應器中引出的再循環氣。
9.由權利要求5-8中任一條所定義的儀器，其中敏感元件(F、P)是為了檢測在小的、封閉的、氣密的封閉體(33)中的壓力升高和/或有氣流，此小封閉體(33)是在有邊圓筒片(13)中的兩片瞄準玻璃(21，22)之間的，而且這兩個敏感元件會使切斷閥門自動關閉。
10.由權利要求1至9中任一條所定義的儀器，其中在上述管件(7)和管件外部的環形空間(14)之中的圓筒形瞄準通路可以同時地和連續地清洗，以防止顆粒進入管件而遮堵瞄準通道。
11.由權利要求3所定義的儀器，其中，上述管件(7)是用鉬合金做的。
全文摘要
一個利用高溫計測量裝有夾雜固體的氣體的封閉容器或管道內部溫度的儀器，利用一個光學通路的引入口，其中包括一個高強度的瞄準管(7)、一個安全閥(5)、一雙瞄準玻璃(21、22)、各種清洗設備聯接和光學定位(距)裝置。一個動態的清洗系統，在正常運行時可保持光學瞄準通道清潔，而在容器或管道內部運行失常時該通道被堵塞也能進行清洗。光學通道入口裝在容器或管道(8)的外壁上。
文檔編號G01J5/00GK1064546SQ9110128
公開日1992年9月16日 申請日期1991年3月2日 優先權日1991年3月2日
發明者湯姆斯·費雷德裡克·萊因格, 裡查德·丹尼斯·咔裡, 格斯·扎咔裡歐 申請人:德士古發展公司