縫隙塗敷方法及裝置以及濾色片的製造方法

2023-05-11 22:28:06 3

專利名稱：：縫隙塗敷方法及裝置以及濾色片的製造方法
技術領域：
：本發明涉及一種縫隙塗敷方法及裝置以及濾色片的製造方法，特別涉及一種在液晶顯示器、等離子顯示器等圖像顯示裝置中使用的基板或半導體晶片上，以均一的薄膜狀態塗敷各種塗敷液的技術。
背景技術：
：近年來，光學薄膜的需要一直在增加。作為該光學薄膜，例如包括用作各種圖像顯示裝置的顯示部的濾色片。製造濾色片時，在玻璃制等的平板狀透明基板上，塗敷彩色抗蝕劑、黑矩陣用抗蝕劑、取向控制突起用抗蝕劑、其他光致抗蝕劑液等各種塗敷液，而作為其塗敷方法，採用縫隙塗布塗敷方法、旋塗塗敷方法等。例如專利文獻1所示的之類的縫隙塗布塗敷方法由於可以將形成需要的塗敷面所必需的噴出流體量抑制在必要量的1.1倍以下，所以具有可以比旋塗塗敷方法更大幅度地削減塗敷液的浪費的優點。另外，在專利文獻2中還提出了在利用滑動型模縫塗布機(DieCoater)，向連續行進的帶狀薄膜塗敷塗敷液時，通過在滑動型模縫塗布機與帶狀薄膜之間設置減壓室，而穩定地形成塗敷液焊道(bead)的方法。專利文獻h特開2000—126664號公報專利文獻2:特開2006—187723號公報但是，在固定基板而使塗敷頭移動的縫隙塗敷方法中，存在從具有縫隙狀的開口部的塗敷頭供給的塗敷液容易在基板上斷液(在與塗敷方向平行或正交的方向上發生條狀的未塗敷部的現象)的問題。特別是在濾色片的情況下，由於在塗敷彩色抗蝕劑之前對基板表面進行UV照射、用超純水等洗滌，或者在已經塗敷彩色抗蝕劑層的基礎上塗敷其他顏色的彩色抗蝕劑，所以基板的表面狀態大多不均一。所以難以使塗敷液在基板表面上不發生斷液而穩定且均一地塗敷。作為防止該斷液的方法，包括將彩色抗蝕劑的固體成分濃度從以往的2030%減低至1020。％的方法，但由於粘度變得過低，所以存在彩色抗蝕劑在基板的端部向基板的背側流入等不良情況。另外，近年來，圖像顯示裝置用的基板的大型化正在進展中，隨著G5、G6、G7、G8及G9尺寸基板的實用化，縫隙塗敷裝置也被要求應對大型基板。但是，如果基板大型化，則l批的塗敷所需要的時間(生產節拍時間)也變長，即使提高塗敷速度從而縮短生產節拍時間，也存在發生所述斷液的問題。
發明內容本發明正是鑑於這樣的情況而提出的，其目的在於提供在固定基板、使塗敷頭行進的縫隙塗敷方法中，不受基板的表面狀態的影響，即使以高塗敷速度，也可以在基板的表面均一且穩定地塗敷塗敷液的縫隙塗敷方法及裝置以及濾色片的製造方法。本發明的技術方案l為了實現所述目的，提供一種縫隙塗敷方法，其是使塗敷液從塗敷頭的縫隙前端流出，在其與板狀的平坦基板表面之間的隙間形成塗敷液的焊道，且使所述塗敷頭行進，藉助所述焊道，在所述基板表面塗敷塗敷液的縫隙塗敷方法，其特徵在於，具備將所述基板嵌入並保持在基板保持盤上的凹部中，以使所述基板與所述基板保持盤的面成為同一平面的基板保持工序；使所述塗敷頭從所述基板的一端側向另一端側行進，塗敷塗敷液，且利用與所述塗敷頭一體行進的減壓腔，對所述焊道的塗敷頭行進方向前方進行減壓的減壓塗敷工序。利用本發明的技術方案l，在減壓塗敷工序中，在保持於基板保持盤上的基板表面，使塗敷頭從基板的一端側向另一端側行進，塗敷塗敷液，且利用與塗敷頭一體行進的減壓腔，對焊道的塗敷頭行進方向前方進行減壓。這樣，即使是固定基板而使塗敷頭行進的縫隙塗敷，也可以穩定形成焊道。因而，即使基板的表面狀態例如為基板表面的溼潤性低而塗敷液容易彈起的表面狀態或者已經在基板表面塗敷其他塗敷液的表面狀態，也可以穩定且均一地而且高速地塗敷塗敷液。另外，在利用減壓腔減壓焊道的塗敷頭行進方向前方的情況下，在塗敷終端位置，減壓腔從基板表面擠出到基板保持盤表面。即使這種情況下，在基板保持工序中，將基板嵌入並保持在基板保持盤上的凹部中，以使基板與基板保持盤的面成為同一平面，因此在基板與基板保持盤的邊界沒有形成高低差。這樣，不會發生減壓腔引起的減壓變動，可以使塗敷液直至塗敷終端位置穩定且均一地塗敷。本發明的技術方案2的特徵在於，在本發明的技術方案l中，所述減壓腔減壓至該減壓腔的內部與外部的壓力差成為l1000mmH2O。此外，更優選所述壓力差為1300mmH2O，進而優選2150mmH20，特別優選5100mmH2O。本發明的技術方案3為了實現所述目的，提供一種縫隙塗敷方法，其是使塗敷液從塗敷頭的縫隙前端流出，在其與板狀的平坦基板表面之間的隙間形成塗敷液的焊道，且使所述塗敷頭行進，藉助所述焊道，在所述基板表面塗敷塗敷液的縫隙塗敷方法，其特徵在於，具備將所述基板嵌入並保持在基板保持盤上的凹部中，以使所述基板與所述基板保持盤的面成為同一平面的基板保持工序；使所述塗敷頭從所述基板的一端側向另一端側行進，塗敷塗敷液，同時利用與所述塗敷頭一體行進的加壓腔，對所述焊道的塗敷頭行進方向後方進行加壓的加壓塗敷工序。本發明的技術方案3與本發明的技術方案1的基本構成相同，是代替減壓腔而利用加壓腔使焊道的塗敷頭行進方向後方加壓的構成。即使在這種情況下，即使是固定基板而使塗敷頭行進的縫隙塗敷，也可以穩定形成焊道。因而，即使基板的表面狀態例如為基板表面的溼潤性低而塗敷液容易彈起的表面狀態或者已經在基板表面塗敷其他塗敷液的表面狀態，也可以穩定且均一地而且高速地塗敷塗敷液。另外，在利用加壓腔加壓焊道的塗敷頭行進方向後方的情況下，在塗敷始端位置，在加壓腔從基板表面擠出到基板保持盤表面的狀態下開始塗敷。即使這種情況下，在基板保持工序中，將基板嵌入並保持在基板保持盤上的凹部中，以使基板與基板保持盤的面成為同一平面，因此在基板與基板保持盤的邊界沒有形成高低差。這樣，不會發生加壓腔引起的加壓變動，可以使塗敷液從塗敷始端位置開始穩定且均一地塗敷。本發明的技術方案4的特徵在於，在本發明的技術方案3中，所述加壓腔加壓至該加壓腔的內部與外部的壓力差成為l1000mmH2O。此外，更優選所述壓力差為1300mmH2O，進而優選2150mmH20，特別優選5100mmH2O。本發明的技術方案5為了實現所述目的，提供一種縫隙塗敷裝置，其是使塗敷液從塗敷頭的縫隙前端流出，在其與板狀的平坦基板表面之間的隙間形成塗敷液的焊道，且使所述塗敷頭行進，藉助所述焊道，在所述基板表面塗敷塗敷液的縫隙塗敷裝置，其特徵在於，具備具備將所述基板嵌入並與該基板的面成為同一平面的凹部的基板保持盤；使所述塗敷頭從所述基板的一端側向另一端側行進的行進機構；與所述塗敷頭一體形成，對所述焊道的塗敷頭行進方向前方進行減壓的減壓腔；調整所述減壓腔的減壓度的減壓調整機構。本發明的技術方案6為了實現所述目的，提供一種縫隙塗敷裝置，其是使塗敷液從塗敷頭的縫隙前端流出，在其與板狀的平坦基板表面之間的隙間形成塗敷液的焊道，且使所述塗敷頭行進，藉助所述焊道，在所述基板表面塗敷塗敷液的縫隙塗敷裝置，其特徵在於，具備具備將所述基板嵌入並與該基板的面成為同一平面的凹部的基板保持盤；使所述塗敷頭從所述基板的一端側向另一端側行進的行進機構；與所述塗敷頭一體形成，對所述焊道的塗敷頭行進方向後方進行加壓的加壓腔；調整所述加壓腔的加壓度的加壓調整機構。本發明的技術方案7為了實現所述目的，提供一種濾色片的製造方法，其是在板狀且平坦的透明基板表面形成黑、紅、藍、綠的彩色圖案中的至少一色的濾色片的製造方法，其特徵在於，至少具備向所述透明基板表面照射UV來分解該表面的有機物的UV照射工序，用超純水洗滌所述已進行UV照射的透明基板表面的溼式洗滌工序，利用本發明的技術方案14中任意一項所述的縫隙塗敷方法，在所述已進行溼式洗滌的透明基板表面塗敷彩色抗蝕劑的塗敷液的塗敷工序，對所述已進行塗敷的彩色抗蝕劑進行曝光及顯影的曝光*顯影工序；分別對所述黑、紅、藍、綠的彩色抗蝕劑，進行從所述塗敷工序到所述曝光顯影工序。利用本發明的技術方案7，即使在這樣的透明基板的表面狀態下，由於利用本發明的縫隙塗敷方法塗敷，所以可以穩定且均一地而且高速地塗敷塗敷液。因而，即使是對應近年的圖像顯示裝置的大型化的大面積濾色片，也可以以短生產節拍時間製造沒有白缺陷或色的脫落等質量不良的高質量的濾色片。進而，即使在透明基板的表面多少殘存一些有機物，或者溼式洗滌不充分，也可以利用本發明的縫隙塗敷方法穩定且均一地進行塗敷，所以具有能夠減輕UV照射工序或溼式洗滌工序中的實施精密度的效果。這也有助於以短生產節拍時間製造濾色片。利用本發明，即使是固定基板而使塗敷頭移動的縫隙塗敷方法，也不受基板的表面狀態的影響，即使在高塗敷速度下也可以均一且穩定地在基板的表面塗敷塗敷液。圖1是說明本發明中的彩色矩陣的形成工序的流程的流程圖。圖2是說明本發明中的縫隙塗敷裝置的概略結構的立體圖。圖3是從圖2的基臺上面觀察到的模式圖。圖4是說明圖2的塗敷頭的構造的分解立體圖。圖5是說明圖2的塗敷機構部的概略結構的截面模式圖。圖6是說明圖5的塗敷頭的溫調機構的模式圖。圖7是說明本發明中的縫隙塗敷裝置的動作的模式圖。圖8是說明本發明中的縫隙塗敷裝置的操作順序的流程圖。圖9是說明本發明中的縫隙塗敷裝置的另一個方式的模式圖。圖10是表示本發明中的液晶顯示元件的構成方式的一例的截面圖。圖中，IO—縫隙塗敷裝置，12—基臺，14一工作檯，16—基板，20一塗敷機構部，22—塗敷頭，26—頭保持架，68—減壓腔，70—模塊(block),70a—減壓流道，72—減壓葉片(blade)，74—填料，76—側板，78—減壓口，80—減壓泵，82—加壓腔，84—加壓泵，86a—加壓流道，102—基板，104—液晶層，106—濾色片(層)，108—導電層。具體實施方式以下按照附圖，對本發明中的縫隙塗敷方法及裝置以及濾色片的製造方法的優選實施方式進行說明。首先，對濾色片的製造工序進行說明。圖1是說明濾色片的製造工序的流程的流程圖。如圖1所示，本發明中的濾色片的製造工序具備洗滌玻璃基板的表面的基板洗滌工序1及2，在已洗滌的基板表面塗敷形成黑矩陣或彩色抗蝕劑層的塗敷形成工序，除去該黑矩陣或彩色抗蝕劑層中的溶劑的預烘工序，曝光*顯影工序，烘焙工序，殘渣除去工序。此外，根據需要，也可以具備其他工序。在基板洗滌工序l中，通過uv照射玻璃基板表面，分解基板表面的有機物。UV照射可以使用公知的各種UV燈，其中，優選利用172nm受激準分子光(例如USHIO電機株式會社制，受激準分子VUV/03洗滌裝置)，照射5秒120秒鐘。在基板洗漆工序2中，利用純水噴淋等，向所述已進行UV照射的基板表面噴超純水，然後用氣刀等斷水，除去UV照射下分解的有機物等殘渣或顆粒汙染。然後，為了除去附著於基板表面的水，例如在加熱板上放置基板使其乾燥，然後在清潔空氣下冷卻。在塗敷形成工序中，利用UV照射及超純水洗滌之後，在已乾燥的基板表面上塗敷黑矩陣或R(紅)、G(綠)、B(藍)各種彩色抗蝕劑。在本發明中，作為彩色抗蝕劑的塗敷方法，採用能夠以高塗敷速度、大面積塗敷的縫隙塗敷方法。彩色抗蝕劑的溼膜厚優選為1.03.0nm，更優選為1.02.5pm。在塗敷彩色抗蝕劑之後，通過使其真空(減壓)乾燥，除去塗敷膜中的溶劑成分。另外，為了提高後述的曝光感度，也可以在彩色抗蝕劑層上形成阻氧層。作為阻氧層的膜厚，通常優選為0.53.0,，在使彩色抗蝕劑層乾燥之後，利用塗敷形成。對彩色抗蝕劑或阻氧層的組成如後所述。在預烘工序中，以非接觸或接觸的狀態下將基板放置在加熱板上，除去黑矩陣或彩色抗蝕劑層(以下稱為彩色抗蝕劑層等)中的溶劑。在曝光工序中，藉助具有所需要的圖案的曝光掩模，對已塗敷形成的彩色抗蝕劑層等進行曝光。曝光的光源可以適當選擇使用能夠照射可以固化感光層的波長域的光的光源。具體而言，可以舉出超高壓汞燈、高壓汞燈、金屬滷化物燈等。作為曝光量，優選為5150J/CI^左右，更優選為10100J/cm2左右。在顯影工序中，除去彩色抗蝕劑層等的非照射部的不需要部分。作為顯影液，沒有特別限制，可以使用特開平5—72724號公報中記載的顯影液等各種的顯影液。其中，顯影液優選為彩色抗蝕劑層等進行溶解型的顯影舉動的顯影液，例如優選以0.055mol/L的濃度含有pKa=713的化合物。作為顯影的方式，可以使用攪拌式(paddle)顯影、噴淋顯影、噴淋及旋轉顯影、浸漬顯影等公知的方法。在此，噴淋顯影是指利用噴淋向曝光後的樹脂層噴顯影液，由此除去未固化部分的方法。在殘渣除去工序中，通過噴純水或洗滌水除去在曝光，顯影工序中產生的殘渣。在烘焙工序中，通過進行熱處理，使彩色抗蝕劑層等進一步固化。另外，還因為，通過進行烘焙，彩色抗蝕劑層等的收縮、適度的流動使彩色抗蝕劑層等保持為適度的形狀。烘焙的溫度優選為200300°C，更優選為220°C260°C。烘焙的時間優選為10120分鐘，更優選為2070分鐘。通過對每種塗敷液重複從所述塗敷工序到烘焙工序，可以製造在基板上具有黑矩陣、R(紅)、G(綠)、B(藍)的彩色矩陣的濾色片。在本發明中，在塗敷形成工序中，利用使塗敷頭行進的縫隙塗敷方法，在基板上塗敷黑矩陣或彩色抗蝕劑。此時，由於使塗敷頭相對基板行進，所以如果塗敷頭相對基板的位置精密度低，則在塗敷開始部位發生塗敷不均。另外，由於在塗敷形成工序之前，在基板洗滌工序l、2中洗滌基板的表面或者已經形成不同的彩色抗蝕劑，所以大多在基板的表面狀態產生不均。即使在這樣的基板的表面狀態存在不均的情況下，也必需抑制未塗敷部或斷液的發生。因此，在本發明中，在縫隙塗敷裝置設置減壓腔或加壓腔，關鍵是構成為使塗敷液焊道穩定地形成，進而塗敷的構成。以下對本發明中的縫隙塗敷裝置的構成進行說明。圖2是說明本發明中的縫隙塗敷裝置10的概略結構的立體圖。如圖2所示，本發明中的縫隙塗敷裝置IO在靠近基臺12上的中央部設置工作檯14(基板保持盤)，在該工作檯14的上面形成用於保持成為塗敷對象物的基板16的未圖示的凹部。基板16沿著基臺12的前後方向(在圖2中連結左下和右上的方向)成長的矩形形狀，在所述凹部中嵌入並使基板16的上面和工作檯14的上面成為同一平面。這樣，基板16被保持在工作檯14中(參照圖7)。在基臺12的兩側緣分別形成有立起成直角的側壁12a、12b，在這些側壁12a、12b的上面敷設導軌18a、18b，可以使塗敷機構部20邊被引導在導軌18a、18b上邊行進。接著，從在塗敷機構部20上自由升降地具備的塗敷頭22的下端噴嘴部噴出的塗敷液與塗敷機構部20及塗敷頭22的行進一起，在基板16的表面上，從其塗敷始端部到終端部平均分布，被以相同的膜厚、膜質塗敷。塗敷頭22的下端噴嘴部由具有與基板16的寬度(與塗敷頭22的行進方向正交的方向的基板16的長度)大致相等的長度的細長噴嘴部構成，塗敷液相同地從該細長噴嘴部噴出。另外，通過在下端噴嘴部的移動方向的前方，減壓噴出的塗敷液，在基板16與下端噴嘴部之間在寬度方向設置用於形成均一的塗敷液焊道的減壓腔68(參照圖5)。塗敷頭22的結構如後面所詳述。塗敷機構部20具備左右一對移動臺24a、24b，在這些移動臺24a、24b之間自由升降地架設頭保持架26。在該頭保持架26安裝有塗敷頭22。因而，塗敷頭22利用頭保持架26升降，與該頭保持架26—體地升降。頭保持架26與固設於移動臺24a、24b的升降汽缸28a、28b連結，利用這些升降汽缸28a、28b升降而升降。在移動臺24a、24b的下部安裝有直線式驅動部30a、30b(未圖示直線式驅動部30a)。藉助可動電纜32，向這些直線式驅動部30a、30b供給電力。因此，現在如果藉助可動電纜32，向這些直線式驅動部30a、30b供給電力，未具體圖示，被設置於直線式驅動部30a、30b的電磁線圈勵磁的電磁鐵與在基臺12的兩側壁12a、12b的上面與導軌18a、18b平行敷設的永久磁鐵34a、34b之間發生吸引、排斥作用，形成移動臺24a、24b的推進力，移動臺24a、24b邊被導軌18a、18b引導邊對應勵磁電流的方向向前後任意方向開始行進。在移動臺24a、24b的下面緊固直線式套筒36a、36b，這些直線式套筒36a、36b與導軌18a、18b嵌合滑行，這樣，移動臺24a、24b邊被導軌18a、18b引導邊行進(所述移動臺24a、24b、直線式驅動部30a、30b、導軌18a、18b、直線式套筒36a、36b等綜合起來相當於行進機構)。在靠近基臺12上的工作檯14的一側(在圖2中為左下方)，在塗敷操作的待機時，在將塗敷頭22安裝在頭保持架26的狀態下，設置用於進行塗敷頭22的下端噴嘴部的洗漆或斷液等操作的洗滌待機單元38。另外，在基臺12上的塗敷終端側，配置與基板16相同厚度的端板(endboard)39。圖3是從圖2的基臺12的上方觀察的模式圖。如圖3所示，在端板39的兩端部形成對位銷孔39a。這樣，在塗敷結束時，在構成塗敷機構部20的減壓葉片(參照後述的圖5)離開基板16上時，可以保證減壓葉片的待機場所並繼續減壓腔68(參照後述的圖5)內的減壓。接著，對塗敷頭22的結構進行說明。圖4是說明塗敷頭22的構造的分解立體圖。如圖4所示，塗敷頭22由2個組合頭40、42和隔片44構成。接著，在這2個組合頭40、42之間夾持隔片44來形成。2個組合頭40、42分別由細長的長方體形狀的金屬(不鏽鋼)制模塊構成，在靠近彼此相對的側面的下方部，形成突出成銳角狀的齒頂部40a、42a。隔片44由穿孔成"〕"字形狀的薄板構成，在2個組合頭40、42之間夾持隔片44時，該"〕"字凹部44a在這2個組合頭40、42之間形成縫隙狀的切槽46(參照圖5)。隔片44的厚度決定該切槽46的隙間的尺寸。在本發明中，隔片44的厚度優選為50500pm。另外，凹部44a的長度決定該切槽46的長度，切槽46的長度決定基板16上的塗敷液的塗敷寬度(基板16的寬度方向的塗敷長度)。在一個組合頭40的上部，在其長度方向(塗敷頭22的寬度方向)的中央部，形成用於注入塗敷液的液體注入口48，在其長度方向的兩端部附近，分別形成空氣貫穿口50。另外，同樣地在一個組合頭40的中間部，形成用於使從液體注入口48注入的液體滯留並向寬度方向擴散的貯器52。該貯器52在與一個組合頭40的另一個組合頭42相對的一側的側面開口。接著，形成用於使這些液體注入口48、空氣貫穿口50和貯器52連通的3個通孔54。貯器52與切槽46連通，貯器52內的液體被切槽46形成為一定的厚度，從切槽46的下方的前端開口部噴出。該切槽46的前端開口部形成塗敷頭22的下端噴嘴部的噴嘴口。接著，對塗敷機構部20的構成進行說明。圖5是說明塗敷機構部20的概略結構的截面模式圖，圖6是說明塗敷頭22的溫調機構的模式圖。如圖5所示，塗敷頭22藉助連接件55和多個螺栓56，被裝卸自由地安裝於塗敷機構部20的頭保持架26上。在構成塗敷頭22的一個組合頭40及另一個組合頭42的各外側面，作為塗敷頭22的溫調機構的水冷套58a、58b被多個螺栓60裝卸自由地而且可以熱傳導地設置。該水冷套58a、58b由熱傳導性良好的鋁系材料構成，如圖6所示，具有細長板狀的外形形狀，具有大致覆蓋一個組合頭40及另一個組合頭42的各外側面的傳熱面積。接著，在其內部形成熱源溫水循環的通路62，在該通路62內循環的熱源溫水利用藉助水冷套58a、58b的壁面的熱傳導，加熱或冷卻塗敷頭22，將該塗敷頭22保持在規定的溫度，這樣，可以將該塗敷頭22內的塗敷之前的塗敷液的溫度保持在規定的溫度。另外，在一個組合頭40、另一個組合頭42的各外側面與水冷套58a、58b之間，介設熱傳導性良好的非耐蝕性的金屬制或樹脂制的散熱片64。這樣，藉助水冷套58a、58b的壁面向兩塗敷頭22的熱傳導變得顯著。另外，溫水通路的內壁面已被實施Teflon(註冊商標)塗敷，可以防止該內壁面的電解腐蝕。水冷套58a、58b內的溫水通路與溫水配管系統連結，從溫水配管系統的入口供給的溫水通過在通路62內流通，可以控制在規定的溫度。另外，在塗敷頭22中埋設用於檢測該塗敷頭22的溫度的溫度檢測機構(測溫電阻元件)66，可以利用與溫水配管系統連接的控制機構，將塗敷頭22的溫度控制在規定的溫度。另外，在頭保持架26的行進方向前方(在圖5中為右方向)，在下端噴嘴部與基板16之間設置用於形成塗敷液焊道的減壓腔68。減壓腔68在頭保持架26的行進方向前方，藉助具有減壓流道70a的模塊70，一體形成減壓葉片72，設置填塞頭保持架26的下端部與塗敷頭22之間的隙間的填料74。另外，設置覆蓋減壓葉片72的寬度方向兩端及塗敷頭22的寬度方向兩端的側面(在圖5中為表側和內側)的側板76、76。減壓葉片72被配置成減壓葉片邊緣72a距離基板16表面的高度與塗敷頭22的齒頂部距離基板16表面的高度大致相等。該減壓葉片72本來是為了形成減壓腔68而設置的，同時具有塗敷頭22的齒頂部40a、42a的保護功能。即，在使塗敷頭22移動從而向基板16表面上塗敷塗敷液時，如果在基板16上存在大的異物，則由於與減壓葉片72接觸，可以抑制塗敷頭22的齒頂部40a、42a損傷。設置於模塊70內的減壓流道70a與減壓口78連通，該減壓口78與減壓泵80連接。這樣，可以在塗敷頭22的行進方向前方形成減壓空間68a。減壓腔68的減壓度可以利用減壓泵80(減壓調節機構)調節。減壓腔68的減壓度優選在l1000mmH2O的範圍，更優選l300mmH2O，進而優選2150mmH2O，特別優選5100mmH2O。如果減壓泵72的內側面與塗敷頭22的移動方向端面之間的分離距離L過寬，則必需加大端板39(參照圖2、3)的寬度。這不僅因為作為整個縫隙塗敷裝置的靜區增加，而且由於容易發生塗敷頭22的移動振動引起的高低不均，故不優選。另一方面，如果分離距離L過窄，則不能精密度良好地進行壓力控制，在塗敷開始時容易發生塗敷不均或條，故不優選。因而，所述分離距離L優選為5mm60mm，更優選為10mm50mm，進而優選為20mm40mm。接著，參照圖7及圖8說明本發明中的縫隙塗敷裝置10的動作。圖7是說明縫隙塗敷裝置10的動作的模式圖，圖8是說明縫隙塗敷裝置10的具體操作順序的流程圖。開始向基板16塗敷時，塗敷頭22被設置於基板16的前端(在圖2中為左下端)上方的規定高度位置。首先，用溶劑(MMPG—Ac(丙二醇一甲醚乙酸酯)等)洗滌塗敷頭22內的彩色抗蝕劑已固化的固化物(步驟S1)。接著，邊使塗敷頭22移動到基板16的移動方向端部，邊利用設置於塗敷頭22的行進方向前方的傳感器確認距離基板16的高度(步驟S2)。接著，使塗敷頭22回到洗滌，待機單元38的場所(步驟S3)，供給塗敷液，進行模擬噴出(步驟S4)。這樣，從塗敷頭22內除去洗滌液。接著，使塗敷頭22移動到塗敷開始位置，將塗敷頭22的塗敷高度(距離基板16上方的齒頂部的高度)設定成lmm。與此同時，使與減壓泵80相通的未圖示的閥工作，開始減壓腔68的減壓(步驟S5)。進而，將塗敷頭22的塗敷高度(距離基板16上方的齒頂部的高度)設定成150pm，然後開始向塗敷頭22供給塗敷液(步驟S6)。接著，與塗敷開始同時，使塗敷高度上升至200600pm(優選300pm)，使直線式驅動部30a、30b工作，使塗敷機構部20行進，這樣，邊使塗敷頭22行進50500mm/秒(優選100mm/秒)邊塗敷(步驟S7)。另外，在塗敷頭22的水冷套58a、58b中循環1833°C(優選23。C)的水。如圖7所示，利用未圖示的供給機構供給的塗敷液藉助通孔54被導入貯器52，通過切槽46，從該切槽46的下方的前端開口部噴出塗敷液。另外，由於利用減壓腔68減壓，所以塗敷液從切槽46的下方的前端開口部向寬度方向均一地噴出。塗敷頭22在基板16上向箭頭方向水平移動，在基板16上從塗敷始端部至終端部邊塗敷從下方的前端開口部噴出的塗敷液邊向基板16的後端行進。此時，由於利用減壓腔68減壓，所以塗敷液在基板16上被均一且穩定地塗敷。接著，在塗敷終端部中，停止向塗敷頭22供給塗敷液，使塗敷頭22的高度上升，切斷液膜。如上所述，通過利用減壓腔68減壓塗敷頭22的前端開口部，即使在前面工序的影響下基板的表面狀態存在不均的情況下，也可以在基板16上穩定且均一地高速塗敷塗敷液。此外，在本實施方式中，在塗敷頭22的行進方向前方設置減壓腔68，己在使其減壓的例子中進行了說明，但不限定於此。圖9是說明本發明中的縫隙塗敷裝置的另一個方式的模式圖。如圖9所示，也可以在塗敷頭22的行進方向後方設置加壓腔82，加壓塗敷頭22的前端開口部。在圖4中，加壓腔82的主要結構將減壓泵80變更成加壓泵84，進而使頭保持架26中的減壓腔68與塗敷頭22的安裝位置相反，除此以外，大致相同地構成，所以省略對其詳細說明。其中，加壓腔82可以藉助加壓流道86a，與加壓泵84(加壓調節機構)連接，調節成規定的加壓度。加壓腔82的加壓度優選在l1000mmH2O的範圍，更優選為l300mmH2O，進而優選為2150mmH2O，特別優選5100mmH2O。以上對本發明中的縫隙塗敷裝置及方法以及濾色片的製造方法以及液晶顯示裝置的優選實施方式進行了說明，但本發明不限定於所述實施方式，可以採用各種方式。在所述實施方式中，主要對使用由組合頭40、42和隔片44構成的塗敷頭22的例子進行了說明，但不限定於此，例如也可以採用形成有連通器和與其連通的縫隙的通常的類型。在所述實施方式中，對在塗敷頭22的行進方向前方設置減壓腔的例子或在塗敷頭22的行進方向後方設置加壓腔的例子進行了說明，但也可以構成為在塗敷頭22的行進方向前方、後方分別設置減壓腔、加壓腔雙方，使其往復。本發明在嚴格要求塗敷膜的膜厚均一性的製品通常可以廣泛地適用，但尤其優選適用於液晶顯示裝置用的基板中的濾色片、間隔件、黑矩陣的製造。以下對構成濾色片的各種材料進行說明。作為本發明中使用的基板，例如可以舉出透明基板，可以舉出在表面具有氧化矽被膜的鈉鈣玻璃板、低膨脹玻璃、無鹼玻璃、石英玻璃板等公知的玻璃板或者塑料薄膜等。作為液晶顯示用基板，優選長邊的長度為300mm權0mm，更優選為600mm3000mm。本發明中的彩色抗蝕劑是感放射線性組合物，特別適於利用光的固化，含有(A—l)著色劑、(B)高分子分散劑、(C)聚合性化合物、(D)光聚合引發劑以及(E)溶劑，根據需要，也可以含有其他成分。formulaseeoriginaldocumentpage16用作著色劑的顏料可以為無機顏料，也可以為有機顏料，如果考慮優選為高透過率，則儘可能優選使用粒子尺寸小的顏料。平均粒子尺寸優選10100nm，更優選1050mm的範圍。彩色抗蝕劑由於含有後述的(B)高分子分散劑，所以即使在著色劑的尺寸小的情況下，顏料分散性、分散穩定性也良好，即使薄，也可以形成色純度出色的著色像素。作為用作著色劑的無機顏料，可以舉出由金屬氧化物、金屬配位化合物等表示的金屬化合物，作為具體例，可以舉出鐵、鈷、鋁、鎘、鉛、銅、鈦、鎂、鉻、鋅、銻等的金屬氧化物以及所述金屬的複合氧化物等。另外，作為有機顏料，可以使用以下有機顏料。作為黃色顏料，例如可以舉出C.I.顏料黃11、C.I.顏料黃24、C,I,顏料黃31、C.I.顏料黃53、C.I.顏料黃83、C.I.顏料黃93、C.I.顏料黃99、C丄顏料黃108、C.I.顏料黃109、C.I.顏料黃110、C.I.顏料黃138、C.I,顏料黃139、C.I.顏料黃147、C.I.顏料黃150、C.I.顏料黃151、C.I.顏料黃154、C.I.顏料黃155、C.I.顏料黃167、C.I.顏料黃180、C丄顏料黃185、C.I.顏料黃199等。作為橙色顏料，例如可以舉出C.I.顏料橙36、C丄顏料橙38、C.I.顏料橙43、C丄顏料橙71等。作為紅色顏料，例如可以舉出C.I.顏料紅81、C.I，顏料紅105、C.I.顏料紅122、C.I.顏料紅149、C.I.顏料紅150、C.I.顏料紅155、C.I.顏料紅171、C.I.顏料紅175、C.I.顏料紅176、C.I.顏料紅177、C.I.顏料紅209、C.I.顏料紅220、C.I.顏料紅224、C.I.顏料紅242、C.I.顏料紅254、C.I.顏料紅255、C丄顏料紅264、C.I.顏料紅270等。作為紫色顏料，例如可以舉出C.L顏料紫19、C.L顏料紫23、C.I.顏料紫32、C.I.顏料紫37、C.I.顏料紫39等。作為藍色顏料，例如可以舉出C.I.顏料藍1、C丄顏料藍2、C丄顏料藍15、C.I.顏料藍15:1、C.I.顏料藍15:3、C.I.顏料藍15:6、C.L顏料藍16、C.I.顏料藍22、C.I.顏料藍60、C.I.顏料藍66等。作為綠色顏料，例如可以舉出C丄顏料綠7、C丄顏料綠36、C.L顏料綠37等。作為褐色顏料，例如可以舉出C.I.顏料褐25、C丄顏料褐28等。作為黑色顏料，例如可以舉出C.I.顏料黒1等。作為彩色抗蝕劑中的(A—l)著色劑(顏料)的含量，相對彩色抗蝕劑的全部固體成分(質量)，優選2575質量％，更優選3270質量%。如果(A—l)著色劑(顏料)的含量在所述範圍內，可以有效地保證色濃度充分且出色的顏色特性。高分子分散劑是酸值為20300mg/g且重均分子量在3000100000的範圍內的樹脂。有時將這樣的特定的高分子分散劑簡單地稱為"(B)分散樹脂"。(B)分散樹脂是在作為所述(A)著色劑舉出的顏料的分散劑中可以發揮作為遮光劑(黑矩陣形成用顏料)的分散劑的功能的化合物。如上所述，(B)分散樹脂必需具有特定的酸值，所以優選具有酸性基團的高分子化合物。作為該高分子化合物的高分子骨架，優選從乙烯基單體的聚合物或共聚物、酯系聚合物、醚系聚合物、氨基甲酸酯系聚合物、醯胺系聚合物、環氧系聚合物、矽酮系聚合物以及它們的改性物或共聚物[例如包括聚醚/聚氨酯共聚物、聚醚/乙烯基單體聚合物的共聚物等(無規共聚物、嵌段共聚物、接枝共聚物的任意一種。)。]構成的組中選擇的至少一種，更優選從乙烯基單體的聚合物或共聚物、酯系聚合物、醚系聚合物、氨基甲酸酯系聚合物以及它們的改性物或共聚物構成的組中選擇的至少一種，特別優選乙烯基單體的聚合物或共聚物。另外，作為向如上所述的高分子骨架中導入酸性基團的方法，例如可以舉出在聚合所述高分子骨架時共聚合含有酸性基團的單體的方法或者在使所述高分子骨架聚合之後利用高分子反應導入的方法。作為含有酸性基團的單體，例如可以舉出通過使(甲基)丙烯酸、巴豆酸、衣康酸、馬來酸、富馬酸、桂皮酸、丙烯酸二聚物、乙烯基苯甲酸、苯乙烯磺酸、2—丙烯醯胺一2—甲基丙垸磺酸、磷酸一(甲基)丙烯醯基乙基酯或者甲基丙烯酸2—羥乙基酯等含醇性羥基的單體和馬來酐、鄰苯二甲酸酐等環狀酸酐等反應得到的單體等。進而，具有酸性基團的高分子化合物進而也可以包括共聚合乙烯基單體成分而成的化合物。作為所述乙烯基單體，沒有特別限制，例如優選(甲基)丙烯酸酯類、巴豆酸酯類、乙烯基酯類、馬來酸二酯類、富馬酸二酯類、衣康酸二酯類、(甲基)丙烯醯胺類、乙烯基醚類、乙烯醇的酯類、苯乙烯類、(甲基)丙烯腈等。在本發明中使用的聚合性化合物是至少具有1個乙烯性不飽和雙鍵的加聚性化合物，從至少具有1個優選2個以上末端乙烯性不飽和雙鍵的化合物中選擇。這樣的化合物組在該產業領域中被廣泛已知，可以沒有特別限定地使用。它們具有例如單體、預聚物即二聚物、三聚物以及寡聚物或它們的混合物以及它們的共聚物等化學形態。作為單體及其共聚物的例子，可以舉出不飽和羧酸(例如丙烯酸、甲基丙烯酸、衣康酸、巴豆酸、異巴豆酸、馬來酸等)或其酯類、醯胺類，優選使用不飽和羧酸與脂肪族多元醇化合物的酯、不飽和羧酸與脂肪族多元胺化合物的醯胺類。另外，還可以優選使用具有羥基或氨基、巰基等親核性取代基的不飽和羧酸酯或醯胺類與單官能或多官能異氰酸酯類或者環氧類的加成反應物以及與單官能或多官能羧酸的脫水縮合反應生成物等。另外，還優選具有異氰酸酯基或環氧基等親電子性取代基的不飽和羧酸酯或醯胺類與單官能或多官能的醇類、胺類、硫醇類的加成反應物、進而具有滷素基或甲苯磺醯氧基等消去性取代基的不飽和羧酸酯或醯胺類與單官能或多官能的醇類、胺類、硫醇類的置換反應物。作為脂肪族多元醇化合物與不飽和羧酸的酯的單體的具體例，作為丙烯酸酯，包括乙二醇二丙烯酸酯、三甘醇二丙烯酸酯、1，3—丁二醇二丙烯酸酯、四亞甲基二醇二丙烯酸酯、丙二醇二丙烯酸酯、新戊二醇二丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三丙烯酸酯、三羥甲基丙垸三(丙烯醯氧基丙基)醚、三羥甲基乙垸三丙烯酸酯、己二醇二丙烯酸酯、1，4一環己二醇二丙烯酸酯、四甘醇二丙烯酸酯、季戊四醇二丙烯酸酯、季戊四醇三丙烯酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯、二季戊四醇二丙烯酸酯、二季戊四醇六丙烯酸酯、山梨糖醇三丙烯酸酯、山梨糖醇四丙烯酸酯、山梨糖醇五丙烯酸酯、山梨糖醇六丙烯酸酯、三(丙烯醯氧基乙基)異氰酸酯、聚酯丙烯酸酯寡聚物、三聚異氰酸EO改性三丙烯酸酯等。作為甲基丙烯酸酯，包括四亞甲基二醇二甲基丙烯酸酯、三甘醇二甲基丙烯酸酯、新戊二醇二甲基丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三甲基丙烯酸酯、三羥甲基乙垸三甲基丙烯酸酯、1，3—丁二醇二甲基丙烯酸酯、己二醇二甲基丙烯酸酯、季戊四醇二甲基丙烯酸酯、季戊四醇三甲基丙烯酸酯、季戊四醇四甲基丙烯酸酯、二季戊四醇二甲基丙烯酸酯、二季戊四醇六甲基丙烯酸酯、山梨糖醇三甲基丙烯酸酯、山梨糖醇四甲基丙烯酸酯、二[P—(3—甲基丙烯醯氧基一2—羥基丙氧基)苯基]二甲基甲垸、二[p—(甲基丙烯醯氧基乙氧基)苯基]二甲基甲垸等。作為衣康酸酯，包括乙二醇二衣康酸酯、丙二醇二衣康酸酯、1，3一丁二醇二衣康酸酯、1，4一丁二醇二衣康酸酯、四亞甲基二醇二衣康酸酯、季戊四醇二衣康酸酯、山梨糖醇四衣康酸酯等。作為巴豆酸酯，包括乙二醇二巴豆酸酯、四亞甲基二醇二巴豆酸酯、季戊四醇二巴豆酸酯、山梨糖醇四巴豆酸酯等。作為其他酯的例子，還例如可以舉出在特公昭51—47334、特開昭57—196231中記載的脂肪族醇系酯類或在特開昭59—5240、特開昭59—5241、特開平226149中記載的具有芳香族系骨架的酯，在特開平1—165613中記載的含有氨基的酯等。在彩色抗蝕劑的全部固體成分中，(C)聚合性化合物的含量優選550質量％，更優選740質量％，進而優選1035質量％。在本發明中使用的光聚合引發劑是在光下分解並引發、促進所述(C)的聚合性化合物的聚合的化合物，優選在波長300500nm的區域具有吸收。另外，光聚合引發劑可以單獨或並用兩種以上。作為光聚合引發劑，例如可以舉出有機滷代化合物、噁二唑化合物、羰基化合物、縮酮化合物、苯偶姻化合物、吖啶化合物、有機過氧化化合物、偶氮化合物、香豆素化合物、疊氮化合物、芳環烯金屬衍生物化合物、六芳基聯二咪唑化合物、有機硼酸化合物、二磺酸化合物、肟酯化合物、鎗鹽化合物、醯基膦(氧化物)化合物。作為有機滷代化合物，可以具體舉出若林等、"Bu11Chem.SocJapan"42、2924(1969)、美國專利第3，905，815號說明書、特公昭46—4605號、特開昭48—36281號、特開昭55—32070號、特開昭60—239736號、特開昭61—169835號、特開昭61—169837號、特開昭62一58241號、特開昭62—212401號、特開昭63—70243號、特開昭63—298339號、M.P.Hutt"Journa1ofHeterocyclicChemistry"1(No3)，(1970)"等中記載的化合物，特別可以舉出三滷甲基(卜y八口^於》)取代的噁唑化合物、均三嗪化合物。作為均三嗪化合物，可以更優選舉出至少一個一、二或三滷素取代甲基結合於均三嗪環而成的均三嗪衍生物，作為其具體例，可以舉出2，4，6—三(一氯甲基)一均三嗪、2，4，6—三(二氯甲基)一均三嗪、2，4，6—三(三氯甲基)一均三嗪、2—甲基一4，6—二(三氯甲基)一均三嗪、2—正丙基一4，6—二(三氯甲基)一均三嗪、2—(a，a，卩一三氯乙基)—4，6—二(三氯甲基)一均三嗪、2—苯基一4，6—二(三氯甲基)一均三嗪、2—(對甲氧基苯基)一4，6—二(三氯甲基)一均三嗪、2—(3，4一乙氧基苯基)一4，6—二(三氯甲基)一均三嗪、2—(對氯苯基)4，6—二(三氯甲基)一均三嗪等。作為噁二唑化合物的例子，可以舉出2—三氯甲基一5—苯乙烯基一1，3，4一噁二唑、2—三氯甲基一5—(氰基苯乙烯基)一1，3，4一噁二唑、2—三氯甲基一5—(萘一l一基)一1，3，4一噁二唑等。作為羰基化合物的例子，可以舉出二苯甲酮、米蚩(Michler's)酮、2一甲基二苯甲酮、3—甲基二苯甲酮、4一甲基二苯甲酮、2—氯二苯甲酮、4一溴二苯甲酮、2—羧基二苯甲酮等二苯甲酮衍生物，2，2—二甲氧基一2—苯基乙醯苯、2，2—二乙氧基乙醯苯、l一羥基環己基苯基甲酮、a—羥基一2—甲基苯基丙酮、l一羥基一l一甲基乙基一(對異丙基苯基)甲酮等噻噸酮衍生物，對二甲胺基苯甲酸乙酯、對二乙胺基苯甲酸乙酯等苯甲酸酯衍生物等。作為在本發明中使用的(D)光聚合引發劑，從曝光感度的觀點出發，優選從三滷甲基三嗪系化合物、苄基二甲基酮縮醇化合物、a—羥基酮化合物、a—氨基酮化合物、醯基膦系化合物、氧化膦系化合物、芳環烯金屬衍生物化合物、肟系化合物、三烯丙基咪唑二聚物、鎗系化合物、苯並噻唑系化合物、二苯甲酮系化合物、乙醯苯系化合物及其衍生物、環戊二烯一苯一鐵配位化合物及其鹽、滷代甲基噁二唑化合物、3—芳基取代香豆素化合物構成的組中選出的化合物。相對彩色抗蝕劑的全部固體成分，彩色抗蝕劑中含有的(D)光聚合引發劑的含量優選在0.150質量％的範圍內，更優選0.530質量％，特別優選120質量％。在該範圍內，可以得到良好的感度和圖案形成性。作為在本發明中使用的溶劑，可以舉出以下例子。酯類，例如醋酸乙酯、醋酸正丁酯、醋酸異丁酯、甲酸戊基酯、醋酸異戊酯、醋酸異丁酯、丙酸丁酯、丁酸異丙酯、丁酸乙酯、丁酸丁酯、烷基酯類、乳酸甲酯、乳酸乙酯、羥基乙酸甲酯、羥基乙酸乙酯、羥基乙酸丁酯、甲氧基乙酸甲酯、甲氧基乙酸乙酯、甲氧基乙酸丁酯、乙氧基乙酸甲酯、乙氧基乙酸乙酯以及3—羥基丙酸甲酯及3—羥基丙酸乙酯等3—羥基丙酸烷基酯類、2—羥基丙酸甲酯、2—羥基丙酸乙酯及2—羥基丙酸丙酯等2—羥基丙酸烷基酯類以及丙酮酸甲酯、丙酮酸乙酯、丙酮酸丙酯、乙醯乙酸甲酯、乙醯乙酸乙酯、2—丁酮酸甲酯、2—丁酮酸乙酯、1，3一丁二醇二乙酸酯等；醚類，例如二甘醇二甲醚、四氫呋喃、乙二醇一甲醚、乙二醇一乙醚、甲基溶纖劑乙酸酯、乙基溶纖劑乙酸酯、二甘醇一甲醚、二甘醇一乙醚、二甘醇一丁醚、丙二醇甲醚乙酸酯、丙二醇乙醚乙酸酯、丙二醇丙醚乙酸酯、二甘醇二乙醚、二甘醇一乙醚乙酸酯、二甘醇一丁醚、二甘醇一丁醚乙酸酯、丙二醇正丙醚乙酸酯、丙二醇二乙酸酯、丙二醇正丁醚乙酸酯、丙二醇苯醚、丙二醇苯醚乙酸酯、二丙二醇一甲醚乙酸酯、二丙二醇正丙醚乙酸酯、二丙二醇正丁醚乙酸酯、三丙二醇一正丁醚、三丙二醇甲醚乙酸酯等；酮類，例如丙酮、甲基乙基甲酮、環己酮、2—庚酮、3—庚酮等。醇類，例如乙醇、異丙醇、丙二醇甲醚、丙二醇一正丙醚、丙二醇一正丁醚等。芳香族烴類，例如甲苯、二甲苯等。溶劑除了可以單獨使用以外，還可以組合使用兩種以上。本發明中的遮光部(黑矩陣)含有(A—2)遮光劑、(B)高分子分散劑、(C)聚合性化合物、(D)聚合引發劑以及(E)溶劑，以固體成分換算，作為遮光劑，由含有4080質量％炭黑或者5090質量％金屬系微粒的濾色片遮光部形成用固化性組合物形成。作為(A—2)遮光劑，可以優選舉出炭黑、鈦黒、金屬微粒、金屬氧化物、硫化物的微粒等。它們可以根據需要單獨或組合使用多種。例如，可以舉出炭黑單獨、金屬微粒單獨、二者的組合或者在其中進而並用其他著色顏料或鈦黒的方式等。從遮光性或成本的觀點出發，炭黑優選為遮光材料之一。作為炭黑的例子，優選顏料黒(PigmentBlack)7(炭黑)。作為炭黑，可以舉出三菱化學(株)制的炭黑#2400、#2350、#2300、弁2200、#1000、#980、#970、#960、#950、#900、#850、MCF88、#650、MA600、MA7、MA8、MAll、MA層、MA220、IL30B、IL31B、IL7B、IL11B、IL52B、#4000、#4010、#55、#52、#50、#47、#45、#44、井40、弁33、#32、#30、#20、#10、#5、CF9、#3050、弁3150、#3250、#3750、弁3950、金剛炭黑(夕、V亇7、，、;/夕)A、金剛炭黑N220M、金剛炭黑N234、金剛炭黑I、金剛炭黑LI、金剛炭黑II、金剛炭黑N339、金剛炭黑SH、金剛炭黑SHA、金剛炭黑LH、金剛炭黑H、金剛炭黑HA、金剛炭黑SF、金剛炭黑N550M、金剛炭黑E、金剛炭黑G、金剛炭黑R、金剛炭黑N760M、金剛炭黑LP等。炭黑的單粒子的尺寸優選為10100nm，更優選為1050nm。作為鈦黑的例子，優選1102、TiO、TiN或它們的混合物。作為市售品，可以舉出三菱7亍!J7V^乂(株)制的(商品名)12S或13M。鈦黑的平均粒徑優選為10100nm。作為石墨的例子，作為濾色片用的遮光材料，優選長徑為lpm以下的石墨。這樣，遮光圖案的輪廓形狀變得均一，銳度(sharpness)變得良好。另外，更優選長徑為20nm以上500nm以下。此外，對於(B)高分子分散劑、(C)聚合性化合物、(D)聚合引發劑及(E)溶劑，可以使用與所述的彩色抗蝕劑相同的物質。本發明中的阻氧層只要是分散或溶解於水或鹼水溶液的物質即可，優選氧透過性低。阻氧層主要由可以分散、溶解於水或鹼水溶液的樹脂成分構成，根據需要，也可以含有表面活性劑等其他成分。作為構成所述中間層的樹脂成分，可以從公知的樹脂成分中適當選擇，例如可以舉出在特開昭46—2121號公報或特公昭56—40824號公報中記載的聚乙烯醚/馬來酐聚合物、羧基烷基纖維素的水溶性鹽、水溶性纖維素醚類、羧基烷基澱粉的水溶性鹽、聚乙烯醇、聚乙烯吡咯烷酮、各種聚丙烯醯胺類、各種水溶性聚醯胺、聚丙烯酸的水溶性鹽、明膠、環氧乙垸聚合物、各種澱粉及其類似物構成的組的水溶性鹽、苯乙烯/馬來酸的共聚物、馬來酸酯樹脂以及組合其中的兩種以上等。接著，對本發明中的濾色片的應用例進行說明。本發明中的濾色片可以適用於液晶顯示元件。液晶顯示元件是在彼此相對側的表面設置導電層的2張基板間夾持液晶層，在導電層與基板之間，具備己述的濾色片層和形成為向液晶層側凸起的取向控制用突起。其中，不一定需要設置取向控制用突起。另外，也可以在導電層上覆蓋它們，形成取向膜。作為液晶顯示元件的基本構成方式，可以舉出(1)經由間隔件，對置排列形成有薄膜電晶體(以下稱為"TFT"。)等驅動元件和像素電極(導電層)的驅動側基板和具備濾色片及對置電極(導電層)的濾色片側基板，在其間隙部封入液晶材料，從而構成的方式；(2)經由間隔件，對置直接在所述驅動側基板形成濾色片的濾色片一體型驅動基板與具備對置電極(導電層)的對置基板，在其間隙部封入液晶材料，從而構成的方式等。作為導電層，例如可以舉出ITO膜；Al、Zn、Cu、Fe、Ni、Cr、Mo等的金屬膜；Si02等的金屬氧化膜等，其中，優選透明性的導電層，特別優選ITO膜。作為所述驅動側基板、濾色片側基板、對置基板的基材，例如使用鈉鈣玻璃板、低膨脹玻璃板、無鹼玻璃板、石英玻璃板等公知的玻璃板或者塑料薄膜等來構成。作為排列形成有TFT等驅動元件和像素電極的驅動側基板，例如可以舉出設置成與彼此垂直相交並配設成矩陣狀的數據總線及柵極總線連接的TFT以及藉助TFT與數據總線連接的導電層等。即使在所述任意方式中，在構成液晶顯示元件的基板的雙方形成導電層，向該兩導電層間施加電壓，夾持在其間的液晶材料對應該電壓進行取向狀態變化從而顯示。因而，可以在任意導電層的內側(導電層與基板之間)，以需要的形狀、形態形成已述的結構體。作為構成方式(1)的一例，參照圖10說明。一方基板110為濾色片側基板。在基板102的相對液晶層104的一側的表面，形成濾色片層106、以等間距形成的截面梯形的取向控制用突起112及構成共通電極的ITO膜(導電層)108。進而，在ITO膜108上設置取向膜(未圖示)。另一方基板110是具備TFT的驅動側基板。在基板103的相對液晶層104的一側的表面，形成TFT(未圖示)、以等間距形成的截面梯形的取向控制用突起112(在圖2中只顯示1個)及與該TFT的漏電極接合的ITO膜(導電層)109。在基板120形成多根構成柵電極的柵極總線(未圖示)，與該柵極總線正交且平行地形成多根數據總線(未圖示)，對應這些柵極總線和數據總線的交點，排列多個TFT。進而，在TFT、ITO膜109上設置取向膜(未圖示)。在基板110及基板120之間夾持封入液晶材料而成的液晶層104，取向控制用突起112從導電層108、109的內側向液晶層104側突起成凸狀，液晶分子122沿著該凸面取向。[實施例]基於實施例，進一步詳細說明本發明，本發明不被這些所限定。(1)黑色(K)抗蝕劑的配製黑色(K)抗蝕劑可以通過如下所述得到，即首先稱量表l中記載的量的K顏料分散物1、MMPGAC，在溫度24。C(±2°C)下混合，以150rpm攪拌10分鐘，接著，量取表1中記載的量的甲基乙基甲酮、乙二醇一丁醚乙酸酯(BMGAC)、粘合劑2、氫醌一甲醚、DPHA液、2，4—雙(三氯甲基)一6—[4，一(N，N—雙二乙氧基碳醯基甲基)氨基一3，一溴苯基]一均三嗪、表面活性劑l，在溫度25。C(±2°C)下依次添加，在溫度4(TC(±2°C)下150rpm下攪拌30分鐘。此外，表1所示的量為質量份。另外，表l中記載的各材料的組成如下所示。[表l]_tableseeoriginaldocumentpage26[化l]formulaseeoriginaldocumentpage26化合物lformulaseeoriginaldocumentpage26(粘合劑2)聚合物(甲基丙烯酸苄基酯/甲基丙烯酸=78/22摩爾比的無規共聚物，分子量3.8萬)27質量份MMPGAC73質量份(DPHA液)二季戊四醇六丙烯酸(含有阻聚劑MEHQ500ppm，日本化藥(株)制，商品名KAYARADDPHA)MMPGAC(表面活性劑l)下述化合物2MEK[化2]結構物lformulaseeoriginaldocumentpage2776質量份24質量份30質量份70質量份~(CHfH)40—0(EO》7H(n=6，x=55，y=5，Mw=33940，Mw/Mn=2.55PO:環氧丙烷，EO:環氧乙烷)(2)紅色(R)抗蝕劑的配製用捏合機混煉30分鐘下述RED組成A的各成分，然後進而用兩根輥實施高粘度分散處理，得到分散物。(RED組成A)顏料紅254(商品名Irgaphor紅B—CF，汽巴精化(CibaSpecialtyChemicals)公司制)29質量份'顏料黃139(商品名Irgaphor黃2R—CF，汽巴精化(CibaSpecialtyChemicals)公司制)6質量份*甲基丙烯酸苄基酯/甲基丙烯酸/丙烯酸乙氧基甲基酯(=75/15/10[質量比])共聚物(鹼可溶性樹脂，重均分子量Mw:10000)的MMPGAC溶液(固體成分50質量％)22質量份分散劑:(商品名:Disperbyk—161，BYK-Chemie公司制)2質量份向利用所述混煉分散處理得到的分散物，添加下述RED組成B的各成分，在3000rpm的條件下，使用均化器，攪拌3小時。使用0.3mm氧化鋯珠的珠分散機(商品名DISPERMAT(f、7Z—7、;/卜)，GETZMANN公司制)，對得到的混合溶液進行4小時微分散處理。(RED組成B)-甲基丙烯酸苄基酯/甲基丙烯酸/丙烯酸乙氧基甲基酯(二75/15/10[質量比])共聚物(鹼可溶性樹脂，重均分子量Mw:10000)的MMPGAC溶液(固體成分50質量％)22質量份MMPGAC(沸點146°C)200質量份使用帶減壓機構的高壓分散機(商品名NANO—3000—10，日本B'E*E(株)制)，在2000kg/cn^的壓力下，以流量500g/分，對利用所述微分散處理得到的混合溶液實施分散處理。重複10次該高壓分散處理，得到分散液。<紅色(R)抗蝕劑的配製〉在重複10次所述高壓分散處理得到的分散液中，添加下述RED組成C的各成分，攪拌混合，配製紅色(R)抗蝕劑。(RED組成C)二季戊四醇六丙烯酸酯(聚合性化合物)23質量份4—(鄰溴一對一N，N—(二乙氧碳醯基氨基)一苯基)—2，6_二(三氯甲基)一均三嗪(光聚合引發劑)4質量份BMGAC(沸點186°C)MEK(沸點80°C)MMPGAC(沸點146°C)其中，在本實施例中使用的略號表示以下化合物[表2]略號化學名生產商BMGAC乙二醇一丁醚乙酸酯DAICEL化學工業(株)DPM二丙二醇甲醚BDGAC二甘醇一丁醚乙酸酯DRA-150三乙酸甘油酯TPNB三丙二醇正丁醚U-BGDA1，3—丁二醇二乙酸酯EDG二甘醇一乙醚MB3—甲氧基丁醇MMPGAC丙二醇一甲醚乙酸酯MEK甲基乙基甲酮工厶〉一夕一S於/k(株)制117質量份117質量份126質量份(3)綠色(G)抗蝕劑的配製在實施例1中，將RED組成A、B、C分別變更成下述GREEN組成A、B、C，除此以外，與實施例1同樣地進行，配製綠色(G)抗蝕劑。(GREEN組成A)顏料綠36(商品名Rionol綠6YK，東洋油墨製造(株)制)28質量份顏料黃150(商品名Bayplast黃5GN01，Bayer株式會社制)14質量份*甲基丙烯酸苄基酯/甲基丙烯酸/丙烯酸乙氧基甲基酯(=75/15/10[質量比])共聚物(鹼可溶性樹脂，重均分子量Mw:10000)的MMPGAC溶液(固體成分50質量％)20質量份分散劑:(商品名:Disperbyk—161，BYK-Chemie公司制)4質量份(GREEN組成B)*甲基丙烯酸苄基酯/甲基丙烯酸/丙烯酸乙氧基甲基酯(=75/15/10[質量比])共聚物(鹼可溶性樹脂，重均分子量Mw:10000)的MMPGAC溶液(固體成分50質量Q/0IO質量份MMPGAC(沸點不到200'C的溶劑種類；溶劑種類l)200質量份(GREEN組成C)二季戊四醇六丙烯酸酯(聚合性化合物)18質量份4—(鄰溴一對一N，N—(二乙氧碳醯基氨基)—苯基)一2，6—二(三氯甲基)一均三嗪(光聚合引發劑)4質量份1，3—BGDA(沸點232X:)(高沸點溶劑)110質量份MEK(沸點80)(其他溶劑2)110質量份MMPGAC(沸點146°C)(其他溶劑1)110質量份(4)藍色(B)抗蝕劑的配製在實施例1中，將RED組成A、B、C分別變更成下述BLUE組成A、B、C，除此以外，與實施例1同樣地進行，配製藍色(B)抗蝕劑。(BLUE組成A)顏料藍15:6(商品名Rkmol藍ES，東洋油墨製造(株)制)16質量份顏料紫23(商品名Hostaperm紫RL—NF，ClariantJapan(株)制)3質量份*甲基丙烯酸苄基酯/甲基丙烯酸/丙烯酸乙氧基甲基酯(=75/15/10[質量比])共聚物(鹼可溶性樹脂，重均分子量Mw:10000)的MMPGAC溶液(固體成分50質量％)20質量份分散劑:(商品名:Disperbyk—161，BYK-Chemie公司制)4質量份(BLUE組成B)*甲基丙烯酸苄基酯/甲基丙烯酸/丙烯酸乙氧基甲基酯(=75/15/10[質量比])共聚物(鹼可溶性樹脂，重均分子量Mw:10000)的MMPGAC溶液(固體成分50質量％)IO質量份MMPGAC(沸點不到20CTC的溶劑種類；溶劑種類l)(其他溶劑1)200質量份(BLUE組成C)二季戊四醇六丙烯酸酯(聚合性化合物)18質量份4—(鄰溴一對一N，N—(二乙氧碳醯基氨基)—苯基)—2，6一二(三氯甲基)一均三嗪(光聚合引發劑)4質量份1，3—BGDA(沸點232X:)(高沸點溶劑)80質量份MEK(沸點80)(其他溶劑2)80質量份MMPGAC(沸點146°C)(其他溶劑1)25質量份(5)濾色片的製作(黑(K)圖像的形成)在清潔空氣中，用UV洗滌裝置洗滌無鹼玻璃基板60秒鐘之後，使用洗滌劑刷洗，進而用超純水進行60秒鐘超聲波洗滌。然後，用氣刀斷水60秒鐘，然後12(TC下熱處理該基板3分鐘，使表面狀態穩定化。冷卻該基板，溫調至23'C之後，用圖2的縫隙塗敷裝置10(減壓腔68的減壓度為20mmH2O)，塗敷由所述表1的組成構成的所述黑色(K)矩陣用抗蝕劑K1。接著，用VCD(真空乾燥裝置，東京應化工業(株)制)，乾燥溶劑的一部分30秒鐘，使塗敷層的流動性消失，然後在120"C下預烘3分鐘，得到膜厚2.(Him的黑矩陣層Kl。用具有超高壓汞燈的近接式曝光機(日立高科技電子工程(株)制)，以基板與掩模(具有圖像圖案的石英曝光掩模)垂直立起的狀態，設定曝光掩模面與該黑矩陣層之間的距離為200nm，以曝光量300mJ/cr^進行圖案曝光。接著，用噴淋噴嘴噴霧純水，使該黑矩陣層K1的表面均一地溼潤之後，以23°C、80秒、扁平噴嘴壓力0.04MPa，用純水對KOH系顯影液(KOH，含有非離子表面活性劑，商品名CDK—1，FUJIFILMElectronicMaterials(株)制)進行IOO倍稀釋的液體進行噴淋顯影，得到圖案形成圖像。接著，用超高壓洗滌噴嘴，在9.8MPa的壓力下噴射超純水，除去殘渣，進而，用噴淋噴嘴，從兩面噴超純水，除去附著的顯影液或所述黑矩陣層溶解物，利用氣刀進行斷液，得到黑(K)的圖像。接著，在22(TC下熱處理30分鐘。熱處理後的黑(K)的圖像高度為2.0pm。(紅(R)像素的形成)在形成所述黑(K)的圖像的基板上，使用在實施例1中製作的紅色(R)抗蝕劑，以與所述黑(K)圖像的形成同樣的工序，形成已熱處理的R像素。該已熱處理的R像素的膜厚為1.6pm。(綠(G)像素的形成)在形成所述K的圖像和R的圖像的基板上，使用由所述記載的組成構成的綠色(G)抗蝕劑，以與所述黑(K)圖像的形成同樣的工序，形成已熱處理的G像素。該已熱處理的G像素的膜厚為1.6,。(藍(B)像素的形成)這樣地進行，對形成了黑(K)、紅(R)以及綠(G)的基板，如下所述地進行，確認本發明中的減壓腔68的效果。艮P，使用所述組成的藍色(B)的抗蝕劑，改變縫隙塗敷裝置30的減壓腔68的減壓度來進行塗敷，膜厚為1.6pm。此外，作為強制條件，通過預先將基板放置於烘焙裝置附近4小時，成為容易發生塗敷液的斷液的表面狀態。該結果如表3所示。[表3]__tableseeoriginaldocumentpage32如表3所示，可知，在利用減壓腔68減壓的實施例13中，從塗敷開始時到塗敷結束時為止，條狀斷液的發生較少，特別是減壓度越增加，則越可靠地不發生斷液。另一方面，在沒有減壓的比較例l中，塗敷開始時毫無問題地塗敷，但靠近像素區域時，發生條狀斷液。如上所述，以往在發生所述條狀的斷液時，採用強化uv照射洗滌的方法或減低彩色抗蝕劑的固體成分濃度的方法、下調塗敷速度的方法等。但是，在UV照射洗滌的強化方法或下調塗敷速度的方法中，處理效率降低，成本提高。另外，在減低彩色抗蝕劑的固體成分濃度的方法中，由於彩色抗蝕劑的使用量變多，所以成本提高，進而在塗敷後的操作等中容易發生不均。在本發明中，在利用減壓腔68減壓的簡單的方法中，可以減低條狀斷液的根數。在本實施例中，在實施例1、2中，條狀斷液儘管沒有成為0，但可以減低，所以實際上發生1、2根左右故障的情況下，在實施例1、2中，也具有充分的效果。另外，還可知即使在發生很多條狀斷液的情況下，通過成為與實施例3為相同程度的減壓度，可以使條狀斷液消失。權利要求1.一種縫隙塗敷方法，其是使塗敷液從塗敷頭的縫隙前端流出，在其與板狀的平坦基板表面之間的隙間形成塗敷液的焊道，且使所述塗敷頭行進，藉助所述焊道，在所述基板表面塗敷塗敷液的縫隙塗敷方法，其特徵在於，具備基板保持工序，其將所述基板嵌入並保持在基板保持盤上的凹部中，以使所述基板與所述基板保持盤的面成為同一平面；減壓塗敷工序，其使所述塗敷頭從所述基板的一端側向另一端側行進，塗敷塗敷液，且利用與所述塗敷頭一體行進的減壓腔，對所述焊道的塗敷頭行進方向前方進行減壓。2.根據權利要求1所述的縫隙塗敷方法，其特徵在於，所述減壓腔減壓至該減壓腔的內部與外部的壓力差成為l1000mmH2O。3.—種縫隙塗敷方法，其是使塗敷液從塗敷頭的縫隙前端流出，在其與板狀的平坦基板表面之間的隙間形成塗敷液的焊道，且使所述塗敷頭行進，藉助所述焊道，在所述基板表面塗敷塗敷液的縫隙塗敷方法，其特徵在於，具備基板保持工序，其將所述基板嵌入並保持在基板保持盤上的凹部中，使所述基板與所述基板保持盤的面成為同一平面；加壓塗敷工序，其使所述塗敷頭從所述基板的一端側向另一端側行進來塗敷塗敷液，且利用與所述塗敷頭一體行進的加壓腔，對所述焊道的塗敷頭行進方向後方進行加壓。4.根據權利要求3所述的縫隙塗敷方法，其特徵在於，所述加壓腔加壓至該加壓腔的內部與外部的壓力差成為l1000mmH2O。5.—種縫隙塗敷裝置，其是使塗敷液從塗敷頭的縫隙前端流出，在其與板狀的平坦基板表面之間的隙間形成塗敷液的焊道，且使所述塗敷頭行進，藉助所述焊道，在所述基板表面塗敷塗敷液的縫隙塗敷裝置，其特徵在於，具備基板保持盤，其具備將所述基板嵌入並使所述基板保持盤與該基板的面成為同一平面的凹部；行進機構，其使所述塗敷頭從所述基板的一端側向另一端側行進；減壓腔，其與所述塗敷頭一體形成，對所述焊道的塗敷頭行進方向前方進行減壓；減壓調整機構，其調整所述減壓腔的減壓度。6.—種縫隙塗敷裝置，其是使塗敷液從塗敷頭的縫隙前端流出，在其與板狀的平坦基板表面之間的隙間形成塗敷液的焊道，且使所述塗敷頭行進，藉助所述焊道，在所述基板表面塗敷塗敷液的縫隙塗敷裝置，其特徵在於，具備基板保持盤，其具備將所述基板嵌入並使所述基板保持盤與該基板的面成為同一平面的凹部；行進機構，使所述塗敷頭從所述基板的一端側向另一端側行進；加壓腔，與所述塗敷頭一體形成，對所述焊道的塗敷頭行進方向後方進行加壓；加壓調整機構，調整所述加壓腔的加壓度。7.—種濾色片的製造方法，其是在板狀且平坦的透明基板表面形成黑、紅、藍、綠的彩色圖案中的至少一色的濾色片的製造方法，其特徵在於，至少具備UV照射工序，其向所述透明基板表面照射UV來分解該表面的有機物；溼式洗滌工序，其用超純水洗滌所述已進行UV照射的透明基板表面；塗敷工序，其利用權利要求14中任意一項所述的縫隙塗敷方法，在所述已進行溼式洗滌的透明基板表面塗敷彩色抗蝕劑的塗敷液；曝光*顯影工序，其對所述已進行塗敷的彩色抗蝕劑進行曝光及顯影,分別對所述黑、紅、藍、綠的彩色抗蝕劑，進行從所述塗敷工序至所述曝光顯影工序。全文摘要本發明提供一種縫隙塗敷方法，其是固定基板、使塗敷頭行進的縫隙塗敷方法，其不受基板的表面狀態的影響，即使以高塗敷速度，也可以在基板的表面均一且穩定地塗敷塗敷液。該縫隙塗敷方法是一種使塗敷液從塗敷頭(22)的縫隙前端流出，在其與板狀的平坦基板(16)表面之間的隙間形成塗敷液的焊道，且使塗敷頭(22)行進，藉助焊道，在基板(16)表面塗敷塗敷液的縫隙塗敷方法，其中，具備將基板(16)嵌入並保持在工作檯(14)上的凹部中，使基板(16)與工作檯(14)的面成為同一平面的基板保持工序；使塗敷頭(22)從基板(16)的一端側向另一端側行進，塗敷塗敷液，且利用與塗敷頭(22)一體行進的減壓腔(68)，對焊道的塗敷頭(22)行進方向前方進行減壓的減壓塗敷工序。文檔編號B05D1/26GK101219423SQ200810002969公開日2008年7月16日申請日期2008年1月11日優先權日2007年1月12日發明者田中光利申請人:富士膠片株式會社