防靜電離心乾燥保護裝置及含有這種保護裝置的甩幹設備的製作方法
2023-05-05 03:58:06 2
專利名稱：防靜電離心乾燥保護裝置及含有這種保護裝置的甩幹設備的製作方法
技術領域：
防靜電離心乾燥保護裝置及含有這種保護裝置的甩幹設備技術領域：
本實用新型涉及一種基片生產工藝中使用的部件和含有這種部件的設備， 尤其是一種在基片甩幹過程中使用的保護裝置和含有這種保護裝置的設備。
背景4支術
鏡片生產工藝中，在鏡片鍍膜切割成中片之後，需要對中片進行漂洗和甩 幹，以清除鏡片上的汙物。在現有的甩幹設備中，均是採用高速旋轉脫水的方
法進行甩幹。如圖1所示，甩幹機上設有中心軸1和底座2，以及可跟隨中心軸 l旋轉的懸掛架3，基片託盤4兩端固定在懸掛架上3並可繞兩固定端翻轉。基 片託盤4上放置清洗架，鏡片中片垂直放置在清洗架中。甩幹機工作時，中心 軸1帶動懸掛架3、基片託盤4和其上的清洗架高速旋轉，在離心力的作用下中 片上的水滴被甩幹。
現有設備的缺陷是，基片託盤4的高度低於清洗架6的高度，在高速旋轉 時，靠近清洗架6外部邊緣的鏡片，與周邊的空氣發生高速摩擦，極易產生靜 電。在靜電的作用下，邊緣部位的鏡片吸附了空氣中的很多灰塵，影響鏡片質 量，降低了成品率。
對其他需要清洗甩幹的基片或電子元器件而言，如果對於防靜電要求比較 高，那麼在甩幹的過程中也同樣存在類似的問題。
實用新型內容
本實用新型要解決的技術問題是針對現有技術的不足，提供一種可防止基 片在甩幹過程中與空氣摩擦產生靜電而吸附灰塵的保護裝置。本實用新型還可 以提供含有這種保護裝置的甩幹設備。
為了解決上述技術問題，本實用新型採用以下技術方案
一種防靜電離心乾燥保護裝置，其所述防靜電保護裝置為設有閉合側壁的
保護罩，所述保護罩側壁的高度與放置待甩幹基片的清洗架高度適配。
其中所述保護罩為金屬保護罩，該金屬保護罩採用不鏽鋼材料製成。 其中所述^f呆護罩為上下貫通的環形。 其中所述保護罩為上下貫通的方形。
一種含有防靜電離心乾燥保護裝置的甩幹設備，包含馬達、由馬達驅動的 中心軸、隨同中心軸旋轉的基片託盤，放置待甩幹基片的清洗架置於所述基片 託盤上，其特徵在於還包含一置於基片託盤上的防靜電離心乾燥保護罩，所 述清洗架位於所述防靜電離心乾燥保護罩內部空間中，且兩者的高度相適配。
其中所述防靜電離心乾燥保護罩為金屬保護罩。
其中所述防靜電離心乾燥4呆護罩為上下貫通的環形。
其中所述防靜電離心乾燥保護罩為上下貫通的方形。
其中所述防靜電離心乾燥保護罩上端封閉。
其中防靜電離心乾燥保護裝置為側壁高度與所述清洗架高度相適配的基 片託盤。
本實用新型具有以下有益效果
1. 本實用新型採用金屬製成的保護罩，高度與放置基片的清洗架高度相當， 並且環繞清洗架設置，能夠有效阻隔基片與周邊空氣摩擦而產生靜電，進而防 止基片沾附汙物。不鏽鋼相對於鐵等金屬，不會因沾附清洗液、水等物質而產 生鏽蝕，不會因此影響基片質量。
2. 本實用新型的保護罩採用有蓋或無蓋上下貫通的形式，可保證基片上的 清洗液及雜質全部脫離不殘留，尤其是上下貫通的形式，甩幹的效果更為徹底。
3. 本實用新型的保護罩製作簡單、成本低廉，效果好。
4. 本實用新型的甩千i殳備既可以配備分離的保護罩，也可以將基片託盤的 邊緣高度增加到與放置基片的清洗架的高度一致，達到阻隔基片與周邊空氣摩 擦而產生靜電的效果。甩幹設備生產廠家或使用者可以根據需要選擇使用上述 方案。
圖1為現有甩幹i殳備的示意圖 圖2為本實用新型基片離心乾燥保護罩結構示意圖 圖3為本實用新型基片離心乾燥保護罩設置於甩幹設備的示意圖 圖4為本實用新型基片離心乾燥保護罩與基片託盤、清洗架之間的位置關 系示意圖 其中
1- 中心軸 4-基片託盤 51-側壁
2- 底座 5-基片離心乾燥保護罩 6-清洗架
3- 懸掛架
具體實施方式
本實用新型提供一種基片離心乾燥保護裝置，該基片保護裝置為設有閉合 側壁的金屬保護罩，側壁的高度與放置待甩幹基片的清洗架高度適配。同時還 提供一種含有基片離心乾燥保護裝置的甩幹設備。
以下結合附圖進行具體說明。 實施例一
如圖2所示，本實用新型提供一下端敞開，周邊有金屬側壁51的基片離心 乾燥保護罩5。金屬側壁51的高度與清洗架6的高度相當。
如圖3所示，甩幹機上設有中心軸1和底座2,以及可跟隨中心軸1旋轉的 懸掛架3,底部為網狀的基片託盤4兩端固定在懸掛架上3並可繞兩固定端翻轉。 基片託盤4上放置清洗架6,基片中片垂直放置在清洗架6中。防靜電離心乾燥 保護罩5放置在基片託盤4上，並環繞在清洗架6的四周(如圖4所示)。當甩 幹機工作時，基片託盤4、清洗架6和防靜電離心乾燥保護罩5隨同中心軸1高 速旋轉，基片託盤4、清洗架6和防靜電離心乾燥保護罩5在離心力的作用下會 被甩高，繞固頂端翻轉成一定的角度傾斜，殘留清洗液在離心力的作用下被甩
出，同時基片託盤4的底部為網格狀可以方便甩出殘留液體。
基片託盤4的底部也可以不為網格狀，如底部是中空的，只要在底部增設 幾個卡緊裝置，保^〖正清洗架6能夠在其上》文穩，甩幹時不滑落即可。
由於防靜電離心乾燥保護罩5的側壁51環繞在清洗架6的四周，清洗架6 邊緣的基片與周邊空氣的摩4察被防靜電離心乾燥保護罩5阻隔，變成了周邊空 氣與防靜電離心乾燥保護罩5的高速摩擦。因此，保護罩5應為金屬製作，這 樣既可以阻擋高速旋轉產生的風，避免直接吹到基片上，基片上就不會因產生 靜電而吸附灰塵，減少基片汙染，提高合格率。採用金屬還有一個好處是，金 屬質地較重，高速旋轉時不容易被甩掉，結實耐用；若用塑料製成，雖然可以 擋住風，但是質量太輕較容易甩掉，並且容易損壞。最好為不鏽鋼，可以防止 在殘留清洗液的作用下生鏽而汙染基片。
防靜電離心乾燥保護罩5的形狀根據基片託盤4或清洗架6的形狀而定， 可為圖示方形，或為圓環形狀，與基片託盤4或清洗架6的形狀相適配，達到 上述目的即可。
防靜電離心乾燥保護罩5上方可以封閉，也可以上下貫通。相對於頂端封 閉，上下貫通的方式可更加保證基片上清洗液及雜質全部脫離不殘留。
採用此種方法，可以很方便地對採購來的甩幹設備進行改進，因此非常適 合基片生產商使用。而設備生產商也可以為甩幹設備配置相應的防靜電離心千 燥保護罩5，供基片生產商選擇。
實施例二
本實用新型也可以將防靜電離心乾燥保護罩5與基片託盤4合為一體。由 於防靜電離心乾燥保護罩5的主要目的是阻隔清洗架6邊緣基片與周邊空氣的 摩擦，因此將基片託盤4四周邊緣的高度調整為與清洗架6的高度相當即可， 此時基片託盤4即有託盤的作用又有保護罩的作用。
採用此種方法，需要對甩幹設備本身配備的部件-基片託盤4進行改進，因 此比較適合設備生產廠家使用。
以上所述實施例僅表達了本實用新型的幾種實施方式，其描述較為具體和 詳細，但並不能因此而理解為對本實用新型專利範圍的限制。應當指出的是， 對於本領域的普通技術人員來說，在不脫離本實用新型構思的前提下，還可以 做出若干變形和改進，這些都屬於本實用新型的保護範圍。因此，本實用新型 專利的保護範圍應以所附權利要求為準。
權利要求1.一種防靜電離心乾燥保護裝置，其特徵在於所述防靜電保護裝置為設有閉合側壁的保護罩，所述保護罩側壁的高度與放置待甩幹基片的清洗架高度適配。
2. 如權利要求1所述的防靜電離心乾燥保護裝置，其特徵在於所述保護 罩為金屬保護罩，該金屬保護罩採用不鏽鋼材料製成。
3. 如權利要求1或2所述的防靜電離心乾燥保護裝置，其特徵在於所述 保護罩為上下貫通的環形。
4. 如權利要求1或2所述的防靜電離心乾燥保護裝置，其特徵在於所述 保護罩為上下貫通的方形。
5. —種含有防靜電離心乾燥保護裝置的甩幹設備，包含馬達、由馬達驅動 的中心軸、隨同中心軸旋轉的基片託盤，放置待甩幹基片的清洗架置於所述基片 託盤上，其特徵在於還包含一置於基片託盤上的防靜電離心乾燥保護罩，所述 清洗架位於所述防靜電離心乾燥保護罩內部空間中，且兩者的高度相適配。
6. 如權利要求5所述的含有防靜電離心乾燥保護裝置的甩幹設備，其特徵 在於所述防靜電離心乾燥保護罩為金屬保護罩。
7. 如權利要求5或6所述的含有防靜電離心乾燥保護裝置的甩幹設備，其 特徵在於所述防靜電離心乾燥保護罩為上下貫通的環形。
8. 如權利要求5或6所述的含有防靜電離心乾燥保護裝置的甩幹設備，其 特徵在於所述防靜電離心乾燥保護罩為上下貫通的方形。
9. 如權利要求5或6所述的含有防靜電離心乾燥保護裝置的甩幹設備，其 特徵在於所述防靜電離心乾燥保護罩上端封閉。
10. 如權利要求5或6所述的含有防靜電離心乾燥保護裝置的甩幹設備， 其特徵在於防靜電離心乾燥保護裝置為側壁高度與所述清洗架高度相適配的基 片託盤。
專利摘要本實用新型公開了一種防靜電離心乾燥保護裝置以及含有這種裝置的甩幹設備。這種保護裝置為設有閉合側壁的金屬保護罩，側壁的高度與放置待甩幹基片的清洗架高度適配。保護罩可以是上下貫通的環形、方形，也可以上端封口。這種甩幹設備，包含馬達、由馬達驅動的中心軸以及隨同中心軸旋轉的基片託盤，還包含一防靜電離心乾燥保護罩，該保護罩環繞著放置待甩幹基片的清洗架設置，且其高度與所述清洗架高度相適配。採用這種防靜電離心乾燥保護罩，能夠防止清洗架邊緣的基片在甩幹過程中與周邊空氣摩擦產生靜電而吸附灰塵，能夠提高基片的合格率，而且製造簡單，成本低廉。
文檔編號F26B11/00GK201196523SQ20082009226
公開日2009年2月18日 申請日期2008年2月5日 優先權日2008年2月5日
發明者蔡華雄, 趙剛科 申請人:深圳歐菲光科技股份有限公司