新型低浴比溢流染色機的製作方法
2023-04-24 08:43:26 1
專利名稱：新型低浴比溢流染色機的製作方法
技術領域：
本實用新型涉及一種染色機，屬於染色設備技術領域，尤其是指一種新型低浴比溢流染色機。
背景技術：
在影響染色成本的各種因素中，染色機的浴比大小佔有極大的比重，因為一臺染色機運轉時的浴比關係到燃料、助劑水及廢水處理等各項費用的多少，即浴比愈大的染色機，其運營成本愈高。目前，市面上各種類型的染色機，其所需浴比有些高達I : 10，較低的也要在I : 6 8之間，並不是理想的浴比關係。這類高浴比染色機的共同結構為導布裝置的出布端位於儲布槽的上方或從上方伸入儲布槽內，這樣在染色筒體體積相等的情況下，儲布槽的容量會減小，使得儲布載量也隨之減少。另一方面，現有染色機的提布輪設置
於染色筒體外部的輪殼內，輪殼再通過管道與染色筒體連接，這種結構的染色機，提布輪和儲布槽的出布端距離較大，如果用於彈性材質及人造棉等布料的染色，容易對彈性材質及人造棉等布料造成拉扯而出現褶皺或斷布現象，影響染色效果，從而對染色機的使用造成了局限。
實用新型內容本實用新型的目的在於克服現有技術中的缺點與不足，提供一種低浴比、節能環保、適用性強且效率高的新型溢流染色機。為了實現上述目的，本實用新型按照以下技術方案實現一種新型低浴比溢流染色機，包括有染色筒體、走布系統和水循環系統，其中，所述走布系統包括有儲布槽、提布輪和導布裝置，所述水循環系統包括有主泵換熱器、噴嘴裝置和回流機構；進一步，所述導布裝置包括有固定在位的導布管和水平擺動的擺布鬥，擺布鬥的進布端通過一平擺機構活動連接於導布管的出布端，擺布鬥的出布端水平延伸置設於儲布槽的正面，及所述提布輪裝設於染色筒體內部且臨靠於噴嘴裝置的進布端。進一步，所述儲布槽包括有一體成型的進布倉和容布倉，進布倉朝向擺布鬥的正面為垂直平面，容布倉整體呈弧形結構，且進布倉的內徑小於容布倉的內徑。進一步，所述儲布槽底部鋪設有光滑的鐵弗龍板。進一步，所述染色筒體包括有封閉式的相接相通的橫向柱體和縱向柱體，提布輪整體置設於縱向柱體內或至少一部分置設於橫向柱體內。進一步，所述染色筒體為封閉式的橫向柱體，提布輪整體置設於橫向柱體內。進一步，所述容布倉的出布端頂部邊沿高於橫向柱體的水平中軸線。進一步，所述噴嘴裝置裝設於染色筒體內且與導布裝置連接。本實用新型與現有技術相比，其有益效果為本實用新型的擺布鬥設置於儲布槽的正面，可以充分利用儲布槽的高度空間，同時獨特的儲布槽結構設計，可以最大限度的增加每次染色的布料載量，降低了浴比，提高了效益；另一方面，提布輪設置於染色筒體內且接近儲布槽的出布端，減少了提布輪和儲布槽內布料頂部之間的距離，減小對布料造成拉扯，可以應用於彈性布料及人造棉等材質的染色，適用性強。為了能更清晰的理解本實用新型，以下將結合附圖說明闡述本實用新型的具體實施方式
。
圖I是本實用新型的內部結構示意圖。
具體實施方式
如圖I所示，本實用新型所述新型低浴比溢流染色機，包括有染色筒體I、走布系統和水循環系統，其中，所述走布系統包括有儲布槽2、提布輪3和導布裝置4，水循環系統包括有主泵換熱器、噴嘴裝置5和回流機構6，及噴嘴裝置5裝設於染色筒體I內且與導布 裝置4連接。上述儲布槽2包括有一體成型的進布倉21和容布倉22，進布倉21朝向擺布鬥的正面為垂直平面，容布倉22整體呈弧形結構，且進布倉21的內徑小於容布倉22的內徑。進一步，所述儲布槽2底部鋪設有光滑的鐵弗龍板，減少布匹向前移動的阻力，使得布匹的移動更加順暢，保護布匹在移動過程中不會起毛掛紗等現象。上述導布裝置4包括有固定在位的導布管41和水平擺動的擺布鬥42，擺布鬥42的進布端通過一平擺機構活動連接於導布管41的出布端，擺布鬥42的出布端水平延伸置設於儲布槽的進布倉21垂直平面端。上述染色筒體I包括有封閉式的相接相通的橫向柱體11和縱向柱體12，提布輪3整體置設於縱向柱體12內或至少一部分置設於橫向柱體11內、且臨靠於噴嘴裝置5的進布端(或染色筒體為封閉式的橫向柱體，提布輪整體置設於橫向柱體內)。進一步，所述容布倉22的出布端頂部邊沿高於橫向柱體11的水平中軸線。本實用新型的擺布鬥設置於儲布槽的側端，可以充分利用儲布槽的高度空間，使布料能均勻布滿儲布槽，增加儲布槽的儲布量和增強布料向前的壓力，從而使得布料向前移動速度加快，同時獨特的儲布槽結構設計，可以最大限度的增加每次染色的布料載量，降低了浴比，提高了效益；另一方面，提布輪設置於染色筒體內且接近儲布槽的出布端，減少了提布輪和儲布槽內布料頂部之間的距離，減小對布料造成拉扯，可以應用於彈性布料及人造棉等材質的染色，適用性強。本實用新型並不局限於上述實施方式，如果對本實用新型的各種改動和變型不脫離本實用新型的精神和範圍，倘若這些改動和變型屬於本實用新型的權利要求和等同技術範圍之內，則本實用新型也意圖包含這些改動和變型。
權利要求1.一種新型低浴比溢流染色機，包括有染色筒體、走布系統和水循環系統，其中，所述走布系統包括有儲布槽、提布輪和導布裝置，所述水循環系統包括有主泵換熱器、噴嘴裝置和回流機構，其特徵在於所述導布裝置包括有固定在位的導布管和水平擺動的擺布鬥，擺布鬥的進布端通過一平擺機構活動連接於導布管的出布端，擺布鬥的出布端水平延伸置設於儲布槽的正面，及所述提布輪裝設於染色筒體內部且臨靠於噴嘴裝置的進布端。
2.根據權利要求I所述新型低浴比溢流染色機，其特徵在於所述儲布槽包括有一體成型的進布倉和容布倉，進布倉朝向擺布鬥的正面為垂直平面，容布倉整體呈弧形結構，且進布倉的內徑小於容布倉的內徑。
3.根據權利要求2所述新型低浴比溢流染色機，其特徵在於所述儲布槽底部鋪設有光滑的鐵弗龍板。
4.根據權利要求2所述新型低浴比溢流染色機，其特徵在於所述染色筒體包括有封閉式的相接相通的橫向柱體和縱向柱體，提布輪整體置設於縱向柱體內或至少一部分置設於橫向柱體內。
5.根據權利要求2所述新型低浴比溢流染色機，其特徵在於所述染色筒體為封閉式的橫向柱體，提布輪整體置設於橫向柱體內。
6.根據權利要求4或5所述新型低浴比溢流染色機，其特徵在於所述容布倉的出布端頂部邊沿高於橫向柱體的水平中軸線。
7.根據權利要求I所述新型低浴比溢流染色機，其特徵在於所述噴嘴裝置裝設於染色筒體內且與導布裝置連接。
專利摘要本實用新型公開了一種新型低浴比溢流染色機，包括有染色筒體、走布系統和水循環系統，其中，所述走布系統包括有儲布槽、提布輪和導布裝置，所述水循環系統包括有主泵換熱器、噴嘴裝置和回流機構；進一步，所述導布裝置包括有固定在位的導布管和水平擺動的擺布鬥，擺布鬥的進布端通過一平擺機構活動連接於導布管的出布端，擺布鬥的出布端水平延伸置設於儲布槽的正面，及所述提布輪裝設於染色筒體內部且臨靠於噴嘴裝置的進布端。本實用新型的擺布鬥設置於儲布槽的正面，可以充分利用儲布槽的高度空間，同時獨特的儲布槽結構設計，可以最大限度的增加每次染色的布料載量，降低了浴比，提高了效益；另一方面，提布輪設置於染色筒體內且接近儲布槽的出布端，減少了提布輪和儲布槽內布料頂部之間的距離，減小對布料造成拉扯，可以應用於彈性布料及人造棉等材質的染色，適用性強。
文檔編號D06B23/20GK202559094SQ201220107210
公開日2012年11月28日 申請日期2012年3月21日 優先權日2012年3月21日
發明者何達廣 申請人:廣州市番禺藝煌洗染設備製造有限公司