除垢器的製作方法
2023-05-21 05:37:11 2
專利名稱：除垢器的製作方法
技術領域：
本實用新型除垢器，涉及一種設置於輸水管路間、用以作為水垢去除效用的技術範疇。
背景技術：
輸水用管路或各式儲水容器內壁，經年累月後均會累積一層水垢。由於水分子為 H2O,而水中另具有鈣、鎂離子，因此水中鈣、鎂離子會與碳酸根離子結合，進而產生碳酸鈣 晶體，此即為俗稱的水垢。公知為了清除水垢，其中一種方式於水管外周套設環形磁鐵，由磁鐵磁力線破壞 水分子團氫鍵結合，進而防止鈣離子結合；該種方式因磁力線單位作用面積小，因此效果有 限。另一種水垢清除方式，是以管路清洗機為之。其包含有一壓縮機、一連接至壓縮機 並用以暫存高壓氣體的儲氣槽與電磁閥。使用時，令電磁閥不斷地重複開/關交換動作，使 高壓氣體間歇性噴注於輸水管路中，進而使管路中產生水錘效應(Water Hammer)，以清除 水管內壁的附著物。該種清洗方式，操作時管路需中斷使用且需拆卸，又操作過程中必須要 確保壓力不會下降，所以操作時間必須於使用前利用空氣噴出計時器與空氣停止計時器來 加以設定，麻煩、複雜且費用不低。設計人有鑑於公知水垢清除方式，一來不甚理想，二來都只能採定期處理，無法持 續作業。若，有一種水垢去除裝置能設置於輸水管路中，平常即能無時無刻進行防止水垢產 生的作用，如此，不但可確保水垢不會形成，更省去了公知各種清除方法需拆卸管路、中斷 使用、費時費工等缺失。基於此一理念，設計人研創成本案，期能由本案的提出，俾改進現有 除垢方式的缺點，期使水垢防止與去除的解決方案能真正獲致完善、理想與實用。
發明內容本實用新型除垢器，其主要目的在於提供一種可內建或外部附加於輸水管路中 的除垢器，其可於輸水過程中，即時進行活水反應作用，以降低水垢的形成可能，或持續進 行水垢的清除作業。為達上述目的，本案具體的內容為一種除垢器，於一本體內部具有中空空間，本 體分設有進水端與出水端，該本體本身結構中設有反應層，又中空空間內配置有一反應體， 統合反應層與反應體，能令通過中空空間的水分子被活化與改變水分子和電位。於輸水管路中設置有除垢器，該除垢器包括有一本體，本體旁分設有進水端與出 水端；本體內部形成有中空空間，空間內設有反應體，又該本體結構中設有反應層，反應層 與反應體間可供輸水流通；由該反應作用，可產生高頻振蕩，以發生衝擊效應，進而使水分 子改變分子結構，破壞離子間的靜電引力，從而產生壓電反應，使粒子電位上升，該高電位 懸浮粒子經撞擊到低電位穩定狀態的原有水垢表面時，部份能量將被移轉，導致原有水垢 的穩定狀態被破壞，變得疏鬆並容易脫落，以獲致順利除垢的目的。[0009]進一步言，該本體頂部開設有頂端開口，且自頂端開口延伸朝向中空空間設置有 對應的兩滑槽，該滑槽內配置有反應體；前述頂端開口處，結合有頂蓋，該頂蓋可由螺件和 螺帽鎖組於本體頂部。本實用新型能夠使原有水垢的穩定狀態被破壞，變得疏鬆並容易脫落，以獲致順 利除垢的目的，達到了有益的技術效果。
圖1為本實用新型的立體分解圖；圖2為本實用新型的剖面動作狀態示意圖；圖3為本實用新型另一實施例的立體分解圖；圖4為本實用新型另一實施例的剖面動作狀態示意圖。附圖標記說明1-本體；11-中空空間；12-頂端開口 ；121-滑槽；13-進水端；14-出水端；15-反 應層；16-反應體；161-反應層；17-頂蓋；18-螺件；19-螺帽；2-本體；21-中空空間； 22-頂端開口 ；221-滑槽；23-進水端；24-出水端；25-反應層；26-反應體；261-反應層； 27-頂蓋；28-螺件；29-螺帽。
具體實施方式
茲謹就本實用新型除垢器其結構組成，及所能產生的功效，配合圖式，舉一本案的 較佳實施例詳細說明如下首請參閱圖1與圖2所示，本案除垢器，主要為一本體1，該本體1內部具有中空空 間11 ；本體1頂部開設有頂端開口 12，且自頂端開口 12延伸朝向中空空間11設置有對應 的兩滑槽121 ；於本體1兩側分設有進水端13與出水端14，進水端13、出水端14和中空空 間11都呈連通關係；該本體1，本身結構中設有反應層15，而前述滑槽121內配置有一反應 體16，統合反應層15與反應體16，能令通過中空空間11的水分子被活化與改變水分子和 電位；前述頂端開口 12處，結合有頂蓋17，該頂蓋17可由螺件18和螺帽19達成鎖組於本 體1頂部的結合關係。前述反應層15與反應體16，內部容置有反應液體。如圖2，當輸水經由進水端13 進入中空空間11後，由反應層15與反應體16的反應作用，可產生高頻振蕩，以發生衝擊效 應，進而使通過的水分子被改變分子結構，破壞離子間的靜電引力，從而產生壓電反應，使 粒子電位上升。當該高電位懸浮粒子經撞擊到低電位穩定狀態的原有水垢表面時，部份能 量將被移轉，導致原有水垢的穩定狀態被破壞，變得疏鬆並容易脫落，以獲致順利除垢的目 的。上述實施例中，本體的反應層15局部設置於下半部，本案的另一實施方式，請參 閱圖3與圖4。其包括一本體2，該本體2內部具有中空空間21 ；本體2頂部開設有頂端開 口 22，且自頂端開口 22延伸朝向中空空間21設置有對應的兩滑槽221 ；於本體2兩側分 設有進水端23與出水端24，進水端23、出水端24和中空空間21都呈連通關係；該本體2， 本身結構中設有反應層25，而前述滑槽221內配置有一反應體26，統合反應層25與反應體 26，能令通過中空空間21的水分子被活化與改變水分子和電位；前述頂端開口 22處，結合
4有頂蓋27，該頂蓋27可由螺件28和螺帽29達成鎖組於本體2頂部的結合關係。該實施例 的不同點在於本體2的反應層25整個設置，幾乎完全包覆於本體2的壁身，如此，可提升 反應活水的效果；再者，本體2的外觀較為平滑、整齊且美觀。 以上對本實用新型的描述是說明性的，而非限制性的，本專業技術人員理解，在權 利要求限定的精神與範圍的之內可對其進行許多修改、變化或等效，但是它們都將落入本 實用新型的保護範圍內。
權利要求一種除垢器，其特徵在於，於一本體內部具有中空空間，本體分設有進水端與出水端，該本體本身結構中設有反應層，又中空空間內配置有一反應體，統合反應層與反應體，能令通過中空空間的水分子被活化與改變水分子和電位。
2.如權利要求1所述除垢器，其特徵在於，該反應層與反應體，內部容置有反應液體。
3.如權利要求1所述除垢器，其特徵在於，該本體頂部開設有頂端開口，且自頂端開口 延伸朝向中空空間設置有對應的兩滑槽，滑槽間配置有反應體。
4.如權利要求3所述除垢器，其特徵在於，該頂端開口處結合有頂蓋，該頂蓋由螺件和 螺帽鎖組。
5.如權利要求1所述除垢器，其特徵在於，該本體本身結構中的反應層，為局部或全部設置。
專利摘要本實用新型有關於一種除垢器，該種用於輸水管路中的除垢器，主要是在本體本身設有反應層，另於本體內部設有反應體，反應層與反應體間形成有通道；經其反應後能使通過的水分子改變進而活化，如是，能用以作為水垢去除之用。
文檔編號C02F5/00GK201678526SQ201020112489
公開日2010年12月22日 申請日期2010年2月5日 優先權日2010年2月5日
發明者呂理政 申請人:呂理政