一種蒸鍍設備和系統的製作方法

2023-05-14 01:50:16

本實用新型涉及真空鍍膜技術領域，具體而言，涉及一種蒸鍍設備和系統。

背景技術：

在基板上形成有機發光二級管(Organic Light-Emitting Diode，OLED)器件通常採用蒸鍍工藝，具體地，是在一定的真空條件下加熱蒸鍍材料，使蒸鍍材料升華成原子、分子或原子團組成的蒸氣，然後凝結在基板表面成膜，從而形成OLED器件的功能層。

經發明人研究發現，現有技術中，在對真空條件下進行材料蒸鍍時，存在能源浪費和電源控制系統成本較高的問題，除此之外，現有的蒸鍍設備無法實現對蒸鍍過程的實時監測和蒸鍍控制。

技術實現要素：

有鑑於此，本實用新型提供了一種蒸鍍設備和系統，通過對蒸鍍設備的巧妙設計，能夠提高蒸鍍效率，降低能源消耗，同時，能夠實現蒸鍍過程的有效監控。

為實現上述目的，本實用新型提供如下技術方案：

一種蒸鍍設備，所述蒸鍍設備包括反光罩、加熱絲和設備本體，所述設備本體包括底座和兩端開口的中空加熱室，所述加熱室上開設有第一通孔；

所述底座與所述加熱室的一端連接，所述反光罩套設於所述加熱室，且所述第一通孔暴露於所述反光罩外，所述加熱絲設置於所述加熱室。

在本實用新型實施例較佳的選擇中，上述所述反光罩包括兩端開口的中空罩體和支架，所述支架與所述罩體的一端連接。

在本實用新型實施例較佳的選擇中，上述所述設備本體還包括開設有多個第二通孔的蓋體，所述蓋體安裝於遠離所述底座的所述加熱室的一端。

在本實用新型實施例較佳的選擇中，上述所述加熱絲繞設於所述加熱室的外部。

在本實用新型實施例較佳的選擇中，上述所述加熱室的外壁開設有用於放置所述加熱絲的凹槽。

在本實用新型實施例較佳的選擇中，上述所述底座設置有第三通孔，所述加熱絲繞設於所述加熱室的內壁，且通過所述第二通孔延伸至所述加熱室外。

在本實用新型實施例較佳的選擇中，上述所述加熱絲內嵌於所述加熱室的側壁，且所述加熱絲的兩端穿透所述側壁，並延伸至所述加熱室外。

在本實用新型實施例較佳的選擇中，上述所述底座設置有加熱絲。

在本實用新型實施例較佳的選擇中，上述所述加熱絲為鎢絲。

一種蒸鍍系統，所述蒸鍍系統包括監控設備和上述所述的蒸鍍設備，所述監控設備包括檢測探頭，所述檢測探頭設置於所述第一通孔處。

與現有技術相比，本實用新型提供的蒸鍍設備和系統，通過對該蒸鍍設備的巧妙設計，能夠提高蒸鍍效率，降低能源消耗，同時，可實現蒸鍍過程的有效監控，且結構簡單，易於操作。

進一步地，通過在蒸鍍設備上設計帶有小孔的蓋體，能夠有效避免蒸鍍過程中由於材料受熱而噴出加熱室，進而導致蒸鍍材料浪費的問題。

為使本實用新型的上述目的、特徵和優點能更明顯易懂，下文特舉較佳實施例，並配合所附附圖，作詳細說明如下。

附圖說明

為了更清楚地說明本實用新型實施例的技術方案，下面將對實施例中所需要使用的附圖作簡單地介紹，應當理解，以下附圖僅示出了本實用新型的某些實施例，因此不應被看作是對範圍的限定，對於本領域普通技術人員來講，在不付出創造性勞動的前提下，還可以根據這些附圖獲得其他相關的附圖。

圖1A為本實用新型實施例提供的一種蒸鍍設備的結構示意圖。

圖1B為本實用新型實施例提供的一種蒸鍍設備的另一視角的結構示意圖。

圖2為圖1中所示的反光罩的結構示意圖。

圖3為本實用新型實施例提供的設備本體與加熱絲的位置關係示意圖。

圖4為本實用新型實施例提供的設備本體與加熱絲的另一位置關係示意圖。

圖5為本實用新型實施例提供的設備本體與加熱絲的又一位置關係示意圖。

圖6為本實用新型實施例提供的一種蒸鍍設備的另一結構示意圖。

圖標：100-蒸鍍設備；110-反光罩；112-罩體；114-支架；120-設備本體；122-加熱室；1222-第一通孔；124-底座；130-加熱絲；140-蓋體；142-第二通孔。

具體實施方式

為使本實用新型實施例的目的、技術方案和優點更加清楚，下面將結合本實用新型實施例中的附圖，對本實用新型實施例中的技術方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例只是本實用新型的一部分實施例，而不是全部的實施例。通常在此處附圖中描述和示出的本實用新型實施例的組件可以以各種不同的配置來布置和設計。

因此，以下對在附圖中提供的本實用新型的實施例的詳細描述並非旨在限制要求保護的本實用新型的範圍，而是僅僅表示本實用新型的選定實施例。基於本實用新型中的實施例，本領域普通技術人員在沒有作出創造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例，都屬於本實用新型保護的範圍。

應注意到：相似的標號和字母在下面的附圖中表示類似項，因此，一旦某一項在一個附圖中被定義，則在隨後的附圖中不需要對其進行進一步定義和解釋。在本實用新型的描述中，術語「第一、第二、第三、第四等僅用於區分描述，而不能理解為只是或暗示相對重要性。

在本實用新型的描述中，除非另有明確的規定和限定，術語「設置」、「相連」、「連接」應做廣義理解，例如，可以是固定連接，也可以是可拆卸連接，或一體地連接；可以是機械連接，也可以是電連接；可以是直接相連，也可以通過中間媒介間接相連，可以是兩個元件內部的連通。對於本領域的普通技術人員而言，可以具體情況理解上述術語在本實用新型中的具體含義。

請結合參閱圖1A和圖1B，本實用新型實施例提供一種蒸鍍設備100，主要用於熱蒸發真空鍍膜。其中，該蒸鍍設備100包括反光罩110、設備本體120和加熱絲130，所述設備本體120包括底座124和兩端開口的中空加熱室122，所述加熱室122上開設有第一通孔1222，所述底座124與所述加熱室122的一端連接，所述反光罩110套設於所述加熱室122，所述第一通孔1222暴露於所述反光罩110外，所述加熱絲130設置於所述加熱室122。

具體地，在蒸鍍過程中，所述反光罩110用於對所述加熱絲130產生的熱量進行反射、使得熱量再次聚集至所述加熱室122，以提高蒸鍍過程中熱量的利用率。可選地，如圖2所示，所述反光罩110包括罩體112和支架114，所述罩體112為兩端開口的中空結構，所述支架114設置於該罩體112的一端。

可選地，在實際實施時，所述反光罩110套設於所述設備本體120，且所述罩體112與所述設備本體120之間可間隔設置。其中，所述反光罩110和所述設備本體120之間可採用固定式或可拆卸式連接，也可直接套設於所述設備本體120外，以便於在實際應用中對所述反光罩110進行靈活選用。

可選地，所述罩體112的內表面可採用反光材料製成，以保證蒸鍍過程中的熱量最大範圍的反射至所述設備本體120。應理解，所述反光罩110的形狀、材料、大小在此均不作限制。

可選地，在本實用新型實施例中，所述支架114可以是，但不限於如圖2所示的三角支架114。

進一步地，所述設備本體120用於放置蒸鍍材料並對其進行加熱，在本實用新型實施例中，所述設備本體120包括底座124和兩端開口的中空加熱室122，所述底座124安裝於所述加熱室122的一端。在開始蒸鍍時，所述蒸鍍材料通過遠離所述底座124的一端加入所述加熱室122。其中，所述底座124與所述加熱室122的一端無縫安裝，所述無縫安裝的方式可以根據實際情況進行靈活選擇，如一體成型、可拆式安裝等。

可選地，在實際實施時，所述加熱室122的尺寸大小、形狀均可根據實際情況進行靈活設計。其中，所述加熱室122採用耐高溫材料製成，如石英、氮化硼等。在實際實施時，所述加熱室122的材料可根據待蒸鍍材料進行靈活選擇。

進一步地，通過所述蒸鍍設備100對蒸鍍材料進行加熱的過程中，採用所述加熱絲130加熱的方式實現。所述加熱絲130設置於所述加熱室122，其中，所述加熱絲130與所述加熱室122之間的位置關係根據實際過程中對蒸鍍材料的選擇以及其他因素大體分為以下幾種。

(1)所述加熱絲130繞設於所述加熱室122的外部。

具體地，在進行金屬等材料的蒸鍍時，為避免蒸鍍過程中，可能發生蒸鍍材料與所述加熱絲130之間粘連等情況，從而造成加熱絲130的損壞等問題出現，因此，如圖3所示，所述加熱絲130可均勻繞設於所述加熱室122的外表面，以避免所述加熱絲130與所述蒸鍍材料不發生直接接觸，例如，所述加熱絲130呈「Z」字形繞設於所述加熱絲130的外表面。

可選地，為保證所述加熱絲130與所述加熱室122外表面的充分接觸，以及二者之間的位置相對固定，所述加熱室122的外壁可開設用於放置所述加熱絲130的凹槽。

(2)所述加熱絲130繞設於所述加熱室122的內壁。

具體地，如圖4所示(圖4b為圖4a的剖面結構示意圖)，當蒸鍍材料為有機材料時，為了充分利用所述加熱絲130發出的熱量，所述加熱絲130可均勻設置於所述加熱室122的內壁，並與蒸鍍材料直接接觸，其中，所述底座124設置有第三通孔，所述加熱絲130繞設於所述加熱室122的內壁，且通過所述第三通孔延伸至所述加熱室122外。應注意，所述第三通孔的位置可以位於，但不限於所述底座124。

(3)所述加熱絲130內嵌於所述加熱室122的側壁。

具體地，如圖5所示(圖5b為圖5a的剖面結構示意圖)，若在加熱過程中，對蒸鍍材料的受熱均勻度要求較高，所述加熱絲130可內嵌於所述加熱室122的側壁，且所述加熱絲130的兩端穿透所述側壁，並延伸至所述加熱室122外。例如，當所述加熱室122為陶瓷材料製備，可將所述加熱絲130燒結在所述加熱室122的側壁內部，使得所述加熱絲130與所述加熱室122的側壁充分接觸，同時，將所述加熱絲130內嵌於所述加熱室122側壁的方式也進一步地增強了所述加熱絲130與所述加熱室122之間的牢固性。

應理解，在本實用新型實施例中，所述加熱絲130與所述加熱室122的實際設置位置可以是，但不限於上述所述(1)-(3)中任一種。在實際實施時，所述加熱絲130也可對所述設備本體120起到支撐作用。

進一步地，為了增大所述加熱絲130與所述設備本體120的接觸面積，提高蒸鍍效率，保證加熱室122內部的蒸鍍材料受熱均勻，所述底座124上也可均勻的設置有加熱絲130。其中，設置於所述底座124上的所述加熱絲130與設置於所述加熱室122的所述加熱絲130可以為一體成型，也可分別獨立設置。

進一步地，在本實用新型實施例中，所述加熱絲130可以是，但不限於為鎢絲，所述加熱絲130可根據加熱過程中的實際溫度需求以及發熱速度等情況進行靈活選擇。其中，所述加熱絲130的長度、形狀，在本實用新型實施例均不做限制。

進一步地，由於所述加熱室122的體積較大，裝載的蒸鍍材料一般較多，造成在對所述蒸鍍設備100加熱過程中，蒸鍍材料受熱之後出現大塊蒸鍍材料噴出所述加熱室122，導致蒸鍍材料浪費，同時，也存在一定的安全隱患，因此，針對上述問題，如圖6所示，所述設備本體120還包括開設有多個第二通孔142的蓋體140，所述蓋體140安裝於遠離所述底座124的所述加熱室122的一端。

具體地，所述多個第二通孔142均勻的設置於所述蓋體140上，使得在蒸鍍過程中，所述蒸鍍材料可以均勻地通過多個所述第二通孔142蒸鍍出所述加熱室122外，而不會出現蒸鍍材料噴出，可有效避免對蒸鍍材料的浪費。其中，所述第二通孔142的大小、數量、形狀在本實用新型實施例中不作限制。

可選地，為方便所述蒸鍍材料通過遠離所述底座124的一端加入所述加熱室122內，所述蓋體140與所述加熱室122之間採用非固定式安裝，例如，可拆卸式、通過水平轉軸或垂直轉軸連接。其中，在本實用新型實施例中，所述蓋體140的材料、大小、形狀均可根據實際情況進行靈活選擇。

進一步地，為了實現對所述蒸鍍設備100內部的蒸鍍速率等進行實時、快速的監控，所述加熱室122上開設有第一通孔1222，在本實用新型實施例中，通過位於所述第一通孔1222處的監控設備實現對蒸鍍過程的有效監控和控制。

在實際實施時，可在所述加熱室122的不同位置開設多個所述第一通孔1222，以實現對蒸鍍過程的多方位監測，保證蒸鍍效果。其中，多個所述第一通孔1222的大小、形狀、位置在本實用新型實施例中均不做限制。應注意，所述第一通孔1222暴露於所述反光罩110外。

本實用新型實施例還提供一種蒸鍍系統，該蒸鍍系統包括監控設備和上述蒸鍍設備100。其中，所述監控設備包括檢測探頭，所述檢測探頭設置於所述第一通孔1222處。可選地，所述監控設備可以為膜厚儀。

具體地，所述檢測探頭用於監測蒸鍍過程中蒸鍍材料的速率和厚度，並根據實際監測結果進行實時調整。因此，所述檢測探頭設置於所述第一通孔1222的外側，且對準所述第一通孔1222。

可選地，為了提高監控過程的精確度，所述檢測探頭可以為多個。其中，所述檢測探頭的類型可以選擇用於速率檢測的專用探頭，如速率傳感器等，本實用新型實施例在此不再贅述。

綜上所述，本實用新型提供一種蒸鍍設備100和系統，其中，通過該蒸鍍設備100的巧妙設計，能夠有效降低蒸鍍過程中的能源浪費，提高蒸鍍效率，且保證加熱室122受熱均勻。

同時，通過檢測設備和設置於加熱室122上的第一通孔1222，實現了對蒸鍍設備100中的蒸鍍狀態的實時監控。

顯然，本領域的技術人員應該明白，上述的本實用新型實施例的功能可以用通用的計算裝置來實現，它們可以集中在單個的計算裝置上，或者分布在多個計算裝置所組成的網絡上，可選地，它們可以用計算裝置可執行的現有程序代碼或算法來實現，從而，可以將它們存儲在存儲裝置中由計算裝置來執行，或者將它們分別製作成各個集成電路模塊，或者將它們中的多個模塊或步驟製作成單個集成電路模塊來實現。這樣，本實用新型的功能實現不限制於任何特定的硬體和軟體結合。

以上所述僅為本實用新型的優選實施例而已，並不用於限制本實用新型，對於本領域的技術人員來說，本實用新型可以有各種更改和變化。凡在本實用新型的精神和原則之內，所作的任何修改、等同替換、改進等，均應包含在本實用新型的保護範圍之內。