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一種分子鏈末端修飾含有S,S‑二氧‑二苯噻吩的共聚物發光材料及其製備方法與應用與流程

2023-05-18 06:05:01 2


本發明屬於共聚物發光材料領域,具體涉及一種分子鏈末端修飾含有S,S-二氧-二苯噻吩的共聚物發光材料及其製備方法與應用。



背景技術:

有機發光二極體(OLED)因具有高效、低電壓驅動,易於大面積製備等優點得到人們廣泛的關注。OLED的研究始於20世紀50年代,直到1987年美國柯達公司的鄧青雲博士採用三明治器件結構研製出了OLED器件在10V直流電壓驅動下發光亮度可達到1000cd m-2,使OLED獲得了劃時代的發展。

OLED器件結構是單層或多層的有機物內嵌於陰陽兩電極之間,有機層一般包括電子傳輸層、發光層和空穴傳輸層,首先電子和空穴分別從陰極和陽極向電極之間的有機活性層注入,然後在電場作用下相向輸運,使得電子和空穴複合產生激子,激子在經過輻射躍遷產生光。

在OLED的研究主要是提高發光效率,降低驅動電壓,優化光色純度,增強器件穩定性和壽命這幾方面,其中材料本身的電子和空穴傳輸注入的平衡對器件效率影響極大,為獲得高效的OLED器件,必須合理調節材料的電子和空穴傳輸注入的平衡。



技術實現要素:

本發明的目的在於針對現有技術的不足,提供一種分子鏈末端修飾含有S,S-二氧-二苯噻吩的共聚物發光材料,該材料具有良好的空穴傳輸能力,可以平衡載流子的傳輸,使得更多電子和空穴有效複合產生激子,從而提高發光效率。

本發明的目的通過以下技術方案實現。

一種分子鏈末端修飾含有S,S-二氧-二苯噻吩的共聚物發光材料,該共聚物發光材料的化學結構如下:

式中,x,y為摩爾分數,0<x≤0.4,x+y=1;Ar為功能性基團;R為碳原子數為1-20的直鏈或者支鏈烷基或者烷氧基;n為聚合度,100<n<400;

其中,所述Ar的結構為如下結構中的任意一種:

R、R1為碳原子數1-20的直鏈或者支鏈烷基或者烷氧基。

所述的一種分子鏈末端修飾含有S,S-二氧-二苯噻吩的共聚物發光材料的製備方法,包括如下步驟:

(1)將2,7-雙(4,4,5,5-二甲基-1,3,2-二氧雜硼烷-二基)-9,9-烷基芴和2,7-二溴-9,9-烷基芴、3,7-二溴-S,S-二氧化二苯並噻吩、三環已基磷和醋酸鈀加入到三口瓶中,換氣;

(2)在氬氣保護下加入甲苯、四氫呋喃(THF)和有機鹼溶液,加熱回流;

(3)反應24~48h後,再加入烷基芴,反應6~12h後加入封端劑進行封端反應12h;

(4)封端反應結束後,冷卻至室溫,將反應液倒入甲醇中沉澱,過濾,再用甲苯/氧化鋁柱層析;

(5)將洗液倒入甲醇中沉澱,過濾,乾燥,得到所述的分子鏈末端修飾含有S,S-二氧-二苯噻吩共聚的發光材料。

進一步地,步驟(1)中,所述2,7-雙(4,4,5,5-二甲基-1,3,2-二氧雜硼烷-二基)-9,9-烷基芴、2,7-二溴-9,9-烷基芴和3,7-二溴-S,S-二氧化二苯並噻吩的摩爾比為0.5:0.1~0.45:0.05~0.4。

進一步地,步驟(1)中,所述2,7-雙(4,4,5,5-二甲基-1,3,2-二氧雜硼烷-二基)-9,9-烷基芴和三環已基磷的摩爾比為0.5:0.02。

進一步地,步驟(1)中,所述2,7-雙(4,4,5,5-二甲基-1,3,2-二氧雜硼烷-二基)-9,9-烷基芴和醋酸鈀的摩爾比為0.5:0.02。

進一步地,步驟(2)中,所述四氫呋喃的添加量與甲苯添加量的體積比為1:1。

進一步地,步驟(2)中,所述有機鹼為四乙基氫氧化銨,有機鹼溶液的濃度為1.5M,有機鹼溶液添加量與甲苯添加量的體積比為1:2。

進一步地,步驟(2)中,所述加熱回流的溫度為80~100℃。

進一步地,步驟(3)中,所述烷基芴的添加量與2,7-雙(4,4,5,5-二甲基-1,3,2-二氧雜硼烷-二基)-9,9-烷基芴的摩爾比為1:5。

進一步地,步驟(3)中,所述封端劑包括苯硼酸、溴苯、1-溴三苯胺或2-(4-溴苯基)-1-苯基-1H-苯並咪唑;所述封端劑與2,7-雙(4,4,5,5-二甲基-1,3,2-二氧雜硼烷-二基)-9,9-烷基芴的摩爾比為2:5。

所述的一種分子鏈末端修飾含有S,S-二氧-二苯噻吩的共聚物發光材料應用於發光二極體的發光層,將分子鏈末端修飾含有S,S-二氧-二苯噻吩的共聚物發光材料用有機溶劑溶解,再通過旋塗、噴墨列印或印刷方法成膜。

與已有的技術相比,本發明具有以下優點和有益效果:

(1)本發明通過加入功能性基團使材料具有良好的空穴傳輸能力,有利於載流子的傳輸,使得更多的激子有效複合,從而提高器件的發光效率。

(2)本發明製備的聚合物,合成方法簡單,成膜性和薄膜形態穩定性好。

附圖說明

圖1為PFSO-TPA、PFSO-Ph與PFSO10-PBI的薄膜紫外-可見光吸收圖;

圖2為PFSO-TPA、PFSO-Ph與PFSO10-PBI的溶液紫外-可見光吸收圖;

圖3為PFSO-TPA、PFSO-Ph與PFSO10-PBI的電致發光光譜圖。

具體實施方式

以下通過實施例對含有S,S-二氧-二苯噻吩共聚物的合成作進一步的說明,但本發明不限於所列之例。

實施例1

PFSO5-TPA的製備路線:

(1)2,7-二溴芴的製備,合成路線與步驟如下:

將60g芴溶於400ml氯仿中,加入325mg鐵粉,冰浴冷至-5℃,緩慢滴加45ml液溴和50ml氯仿混合液,滴加完之後,在30℃下反應3小時;加入亞硫酸氫鈉水溶液,用硫酸氫鈉洗滌直至紅色消失,然後將反應液倒入蒸餾水中並用乙醚萃取,有機層用飽和食鹽水洗滌並用無水MgSO4乾燥;再蒸餾除去溶劑後,用丙酮重結晶得到白色針狀固體。產率:88%。

(2)2,7-二溴-9,9-二辛基芴的製備,合成路線與步驟如下:

將15.0g 2,7-二溴芴,0.09g三乙基苄基氯化銨,200ml二甲基亞碸放於三口瓶中形成懸浮液,滴入50wt%氫氧化鈉水溶液15ml,反應一個小時後,再滴加18.6g溴辛基烷;滴加完後,混合物在室溫下攪拌3小時,然後用水和乙醚分三次萃取;合併有機相,用飽和食鹽水洗,蒸餾水洗至中性,無水硫酸鎂乾燥過夜;蒸去溶劑後,用石油醚(II)/矽膠進行柱層析,然後再在丙酮裡進行重結晶,得白色黏稠狀液體。產率:81%。

(3)2,7-雙(4,4,5,5-二甲基-1,3,2-二氧雜硼烷-二基)-9,9-二辛基芴的製備,合成路線與步驟如下:

將10.96克2,7-二溴-9,9-二辛基芴溶於180ml THF中,在-78℃下逐滴加入1.6mol/L的正丁基鋰28ml,在N2氣氛下反應2h,然後再快速加入2-異丙基-4,4,5,5-四甲基-1,3,2-二氧硼烷25ml,在-78℃反應2小時,緩慢升至室溫反應24小時;將反應混合物倒入水中,並用乙醚萃取;合併有機相,再用飽和食鹽水洗滌至中性,無水MgSO4乾燥;除去溶劑後矽膠柱層析,用甲醇重結晶,得到白色針狀體結晶10.1克。產率:79%。

(4)S,S-二氧化二苯並噻吩的製備,合成路線與步驟如下:

將1.85g二苯並噻吩溶於110ml石油醚中,攪拌溶解後,加入6ml的H2O2和6ml的甲酸,40℃反應1h後,再加入3ml的H2O2和3ml的甲酸,升溫至70℃反應8h;抽濾得到白色固體,用水洗至中性,烘乾後用三氯甲烷重結晶,得到白色固體20.5g。產率:96%。

(5)3,7-二溴-S,S-二氧化二苯並噻吩的製備,合成路線與步驟如下:

稱取1.08g的S,S-二氧化二苯並噻吩放入燒瓶中,加入35ml的濃硫酸,攪拌使S,S-二氧化二苯並噻吩溶解;稱取0.88g的N-溴代丁二醯胺(NBS)分4批加入,加完後室溫反應1h;再次加入0.88g NBS並加大轉速1200r/min攪拌6h;小心用水稀釋濃硫酸,抽濾將產物洗至中性;用氯苯重結晶後,真空乾燥,得到白色針狀固體1.53g。產率:87%。

PFSO5-TPA的製備,合成路線與步驟如下:

將0.321g(0.5mmol)2,7-雙(4,4,5,5-二甲基-1,3,2-二氧雜硼烷-二基)-9,9-二辛基芴、0.1644g(0.45mmol)2,7-二溴-9,9-二辛基芴、0.0187g(0.05mmol)3,7-二溴-S,S-二氧化二苯並噻吩、5.6mg三環已基磷和4.49mg的醋酸鈀加入到50ml的三口瓶中,換氣,在氬氣保護下加入4ml甲苯、4mlTHF和2ml1.5M四乙基氫氧化銨溶液,80℃加熱回流。反應48小時後加入64.2mg 2,7-雙(4,4,5,5-二甲基-1,3,2-二氧雜硼烷-二基)-9,9-二辛基芴,繼續反應12小時後加入64.84mg 1-溴三苯胺封端,12小時後停止反應,待冷卻至室溫,將反應液倒入100ml甲醇中沉澱,過濾,再用甲苯/氧化鋁柱層析,將洗液倒入甲醇沉澱,過濾,所得產物空氣中乾燥過夜,接著真空乾燥24小時。產率:70%。

實施例2

PFSO10-PBI的製備路線:

PFSO10-PBI的製備,合成路線與步驟如下:

將0.321g(0.5mmol)2,7-雙(4,4,5,5-二甲基-1,3,2-二氧雜硼烷-二基)-9,9-二辛基芴、0.219g(0.4mmol)2,7-二溴-9,9-二辛基芴、0.0374g(0.1mmol)3,7-二溴-S,S-二氧化二苯並噻吩、5.6mg三環已基磷和4.49mg的醋酸鈀加入到50ml的三口瓶中,換氣,在氬氣保護下加入4ml甲苯、4mlTHF和2ml1.5M有機鹼溶液,80℃加熱回流。反應48小時後加入64.2mg 2,7-雙(4,4,5,5-二甲基-1,3,2-二氧雜硼烷-二基)-9,9-二辛基芴,繼續反應12小時後加入69.84mg 2-(4-溴苯基)-1-苯基-1H-苯並咪唑封端,12小時後停止反應,待冷卻至室溫,將反應液倒入100ml甲醇中沉澱,過濾,再用甲苯/氧化鋁柱層析,將洗液倒入甲醇沉澱,過濾,所得產物空氣中乾燥過夜,接著真空乾燥24小時。產率:75%。

實施例3

PFSO10-Ph的製備路線:

將0.321g(0.5mmol)2,7-雙(4,4,5,5-二甲基-1,3,2-二氧雜硼烷-二基)-9,9-二辛基芴、0.219g(0.4mmol)2,7-二溴-9,9-二辛基芴、0.037g(0.1mmol)3,7-二溴-S,S-二氧化二苯並噻吩、5.6mg三環已基磷和4.49mg的醋酸鈀加入到50ml的三口瓶中,換氣,在氬氣保護下加入4ml甲苯、4mlTHF和2ml1.5M有機鹼溶液,100℃加熱回流。反應48小時後加入64.2mg 2,7-雙(4,4,5,5-二甲基-1,3,2-二氧雜硼烷-二基)-9,9-二辛基芴,繼續反應12小時後加入31.4mg溴苯封端,12小時後停止反應,待冷卻至室溫,將反應液倒入100ml甲醇中沉澱,過濾,再用甲苯/氧化鋁柱層析,將洗液倒入甲醇沉澱,過濾,所得產物空氣中乾燥過夜,接著真空乾燥24小時。產率:78%。

實施4例

PFSO10-TPA的製備路線:

將0.321g(0.5mmol)2,7-雙(4,4,5,5-二甲基-1,3,2-二氧雜硼烷-二基)-9,9-二辛基芴、0.219g(0.4mmol)2,7-二溴-9,9-二辛基芴、0.037g(0.1mmol)3,7-二溴-S,S-二氧化二苯並噻吩、5.6mg三環已基磷和4.49mg的醋酸鈀加入到50ml的三口瓶中,換氣,在氬氣保護下加入4ml甲苯、4mlTHF和2ml1.5M有機鹼溶液,80℃加熱回流。反應48小時後加入64.2mg 2,7-雙(4,4,5,5-二甲基-1,3,2-二氧雜硼烷-二基)-9,9-二辛基芴,繼續反應12小時後加入64.84mg 1-溴三苯胺封端,12小時後停止反應,待冷卻至室溫,將反應液倒入100ml甲醇中沉澱,過濾,再用甲苯/氧化鋁柱層析,將洗液倒入甲醇沉澱,過濾,所得產物空氣中乾燥過夜,接著真空乾燥24小時。產率:78%。

實施例5

PFSO40-Ph的製備路線:

將0.321g(0.5mmol)2,7-雙(4,4,5,5-二甲基-1,3,2-二氧雜硼烷-二基)-9,9-二辛基芴、0.055g(0.1mmol)2,7-二溴-9,9-二辛基芴、0.150g(0.4mmol)3,7-二溴-S,S-二氧化二苯並噻吩、5.6mg三環已基磷和4.49mg的醋酸鈀加入到50ml的三口瓶中,換氣,在氬氣保護下加入4ml甲苯、4mlTHF和2ml1.5M有機鹼溶液,90℃加熱回流。反應48小時後加入64.2mg 2,7-雙(4,4,5,5-二甲基-1,3,2-二氧雜硼烷-二基)-9,9-二辛基芴,繼續反應12小時後加入31.4mg溴苯封端,12小時後停止反應,待冷卻至室溫,將反應液倒入100ml甲醇中沉澱,過濾,再用甲苯/氧化鋁柱層析,將洗液倒入甲醇沉澱,過濾,所得產物空氣中乾燥過夜,接著真空乾燥24小時。產率:70%。

實施例6

基於含有S,S-二氧-二苯噻吩共聚物的電致發光器件的製備。

在預先做好的氧化銦錫(ITO)玻璃上,其方塊電阻為10歐姆,先依次用丙酮、洗滌劑、去離子水和異丙醇超聲清洗,等離子處理10min,在ITO上旋塗參雜有聚苯乙烯磺酸的聚乙氧基噻吩(PEDOT:PSS)膜40nm,PEDOT:PSS膜在真空烘箱裡80℃下烘乾8h,接著旋塗15nm的聚乙烯基咔唑(PVK),隨後將基於含有S,S-二氧-二苯噻吩共聚物的二甲苯溶液旋塗在PVK膜表面,厚度為65nm最後在發光層上依次蒸鍍一薄層CsF(1.5nm)和金屬Al層,經測試,以PFSO-TPA製得的發光器件的電流效率達到3.8%。

圖1為PFSO-TPA、PFSO-Ph與PFSO10-PBI的薄膜紫外-可見光吸收圖,由圖1可知,PFSO-TPA在薄膜裡面的最大吸收峰為381nm,PFSO-Ph在薄膜裡面的最大吸收峰為385nm,PFSO10-PBI在薄膜裡面的最大吸收峰為380nm。

圖2為PFSO-TPA、PFSO-Ph與PFSO10-PBI的溶液紫外-可見光吸收圖,由圖2可知,PFSO-TPA在溶液裡面的最大吸收峰為386nm,PFSO-Ph在溶液裡面的最大吸收峰為389nm,PFSO10-PBI在溶液裡面的最大吸收峰為387nm。

圖3為PFSO-TPA、PFSO-Ph與PFSO10-PBI的電致發光光譜,由圖3可知,PFSO-TPA在薄膜裡面的最大發射峰為442nm,PFSO-Ph在薄膜裡面的最大發射峰為444nm,PFSO10-PBI在薄膜裡面的最大發射峰為446nm。

上述實施例為本發明較佳的實施方式,但本發明的實施方式並不受上述實施例的限制,其它任何未背離本發明的精神實質與原理下所作的改變、修飾、替代、組合、簡化均應為等效的置換方式,都包含在本發明的保護範圍之內。

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