顯示面板、製造該顯示面板的方法和玻璃料組合物的製作方法
2023-05-23 12:41:16 1
專利名稱：顯示面板、製造該顯示面板的方法和玻璃料組合物的製作方法
技術領域：
當前實施例涉及一種包括用玻璃料密封的玻璃封裝件的顯示面板、一種製造該顯示面板的方法和一種在該顯示面板中使用的玻璃料組合物。
背景技術：
有機發光二極體(OLED)顯示器是自發光顯示器，並包括位於兩個電極之間的有機材料。當注入的電子和空穴在有機材料中複合時，OLED顯示器發光。 OLED顯示器內的電極和有機層由於與進入OLED顯示器的氧和溼氣的相互作用而易於受到損壞。因此，將玻璃料設置在玻璃基底之間，以將它們進行密封並保護內部器件免受氧和溼氣的影響。為了提高玻璃料的密封能力，應增加玻璃料的有效密封寬度。玻璃料的有效密封寬度取決於當上基底和下基底結合在一起時玻璃料如何有效地被加熱和熔化。
發明內容
當前實施例的多個方面提供了一種具有優異的密封能力的顯示面板。當前實施例的多個方面還提供了一種製造具有優異的密封能力的顯示面板的方法。當前實施例的多個方面還提供了一種具有優異的密封能力的玻璃料組合物。然而，當前實施例的多個方面不局限於這裡闡述的一個方面。通過參考下面給出的當前實施例的詳細描述，當前實施例的以上和其他方面對於當前實施例所屬領域的普通技術人員來說將變得更加明顯。根據當前實施例的一方面，提供了一種顯示面板，該顯示面板包括第一基底;第二基底，面對所述第一基底；玻璃料，將所述第一基底和所述第二基底結合在一起，其中，對於大約760nm至大約860nm的波長範圍內的任何一個波長的雷射,所述玻璃料具有大於大約O. 0683/μ m的光密度。根據當前實施例的另一方面，提供了一種製造顯示面板的方法，該方法包括準備第一基底和第二基底；將對於810nm的波長的雷射具有大於大約O. 0683/ μ m的光密度的玻璃料組合物塗覆在所述第二基底上；將所述第一基底堆疊在所述玻璃料組合物上；通過向所述玻璃料組合物照射810nm的波長的雷射來燒結所述玻璃料組合物。根據當前實施例的另一方面，提供了一種玻璃料組合物，所述玻璃料組合物包括母玻璃和填料，並且對於大約810nm的波長的雷射具有大於大約O. 0683/ μ m的光密度。
通過參考附圖詳細描述當前實施例的示例實施例，當前實施例的以上和其他方面及特徵將變得更加明顯，在附圖中圖I是根據示例實施例的顯示面板的示意性布局圖；圖2是在圖I中示出的顯示面板的剖視圖；圖3A是玻璃料的掃描電子顯微鏡(SEM)照片；圖3B是示出圖3A的玻璃料的密封寬度的示意圖；圖4是示出根據示例實施例的製造顯示面板的方法的流程圖；
圖5是示出釩基玻璃料中的釩化合物的含量與釩基玻璃料的光密度之間的關係的曲線圖；圖6是示出圖5的每個樣品的密封寬度的示圖；圖7是示出在鉍基玻璃料中包含的顏料的類型與鉍基玻璃料的光密度之間的關係的曲線圖；圖8是示出圖7的每個樣品的密封寬度的示圖；圖9是示出具有含Mn的顏料的玻璃料中的Mn的含量與玻璃料的光密度之間的關係的曲線圖；圖10是示出圖9的每個樣品的有效密封寬度的示圖；圖11是示出雷射密封所需的鉍基玻璃料的光密度範圍的曲線圖。
具體實施例方式現在將在下文中參照附圖更充分地描述當前實施例，在附圖中示出了優選的實施例。然而，當前實施例可以以許多不同的形式來實施，而不應該被理解為局限於在此提出的實施例。而是提供這些實施例使本公開將是徹底的且完整的，並將把實施例的範圍充分地傳達給本領域的技術人員。在整個說明書中，相同的標號指示相同的組件。在附圖中，為了清楚起見，誇大了層和區域的厚度。除非另有定義，否則這裡使用的所有技術術語和科技術語具有與這些實施例所屬領域的普通技術人員所通常理解的意思相同的意思。應當指出，除非另有說明，否則這裡提供的任何和所有示例或示例術語的使用僅旨在更好地示出實施例，並不對實施例的範圍構成限制。此外，除非另有定義，否則在通用字典中定義的所有術語可以不過於正式地予以解釋。圖I是根據示例實施例的顯示面板100的示意性布局圖。圖2是在圖I中示出的顯示面板100的剖視圖。參照圖I和圖2，顯示面板100包括第一基底400、第二基底300以及設置在第一基底400和第二基底300之間的玻璃料200。第一基底400可以由諸如硼矽酸鹽玻璃、鈉鈣玻璃或它們的混合物之類的玻璃材料製成。然而，當前實施例不限於此。第一基底400會受到在將玻璃料200附著到第一基底400的工藝中使用的加熱構件(例如，雷射)的熱應力。因此，第一基底400可以由幾乎不吸收與加熱構件產生的熱能對應的波長範圍的材料製成。用於光發射的多個微型器件可以形成在第一基底400上。例如，多個發光單元可以形成在第一基底400上。這裡，發光單元可以是有機發光二極體(OLED)，每個OLED可以具有陰極、電子注入層、有機發射層、空穴注入層和陽極的堆疊結構，其中，陰極提供電子，電子注入層傳輸由陰極提供的電子，陽極提供空穴，空穴注入層傳輸由陽極提供的空穴，當傳輸的電子和空穴彼此作用來激發有機分子時，有機發射層發射光。多個薄膜電晶體(TFT)可以進一步形成在第一基底400上。當發光單元包括OLED時，TFT可以連接到OLED的陰極和陽極中的至少一個，以控制電流向陰極和陽極中的所連接的一個或多個的供給。第二基底300面對第一基底400，並覆蓋位於第一基底400上的發光單元。與第一基底400 —樣，第二基底300可以由諸如硼矽酸鹽玻璃、鈉鈣玻璃或它們的混合物之類的玻璃材料製成。另外，與第一基底400 —樣，第二基底300可以由幾乎不吸收與加熱構件產生的熱能對應的波長範圍的材料製成。玻璃料200設置在第一基底400和第二基底300之間，並在第一基底400和第二基底300之間提供密封空間。為了在第一基底400和第二基底300的中心區域中提供足夠 大的密封空間，玻璃料200可以形成在第一基底400和第二基底300的外圍區域中。可以通過燒結玻璃料組合物來形成玻璃料200。為了利用玻璃料200將顯示區域與外部環境充分地密封，玻璃料200的密封寬度應當足夠大，以成為有效密封寬度。這裡，密封寬度可以指在玻璃料200由於其吸收熱能而熔化並且隨後燒結之後能夠使玻璃料200將玻璃料基底400和第二基底300連接並能夠使玻璃料200阻擋外部空氣和溼氣的寬度。現在將參照圖3A和圖3B更詳細地描述密封寬度。圖3A是玻璃料200的掃描電子顯微鏡(SEM)照片。圖3B是示出圖3A的玻璃料200的密封寬度的示意圖。參照圖3A和圖3B，玻璃料200的附著到第一基底400和第二基底300的寬度不總是等於整個玻璃料200的寬度D。如圖3B所示，玻璃料200附著到第二基底300上以接觸第二基底300的區域中的玻璃料200的寬度等於玻璃料200的最大寬度D0然而，由於玻璃料200的邊緣處的空的空間500和550，所以玻璃料200附著到第一基底400上以接觸第一基底400的區域中的玻璃料200的寬度d會小於玻璃料200的最大寬度D。在這種情況下，有利於將顯示面板100與外部空氣和溼氣進行密封的寬度是附著到第一基底400的玻璃料200的寬度d。因此，密封寬度被確定為實際附著到第一基底400上的玻璃料200的寬度d，排除了玻璃料200的未連接到第一基底400的邊緣(例如，空的空間500 和 550)。與在圖3A和圖3B中示出的示例不同，附著到第一基底400上的玻璃料200的寬度也會小於整個玻璃料200的寬度D。在這種情況下，將附著到第一基底400上的玻璃料200的寬度和附著到第二基底300上的玻璃料200的寬度中的較小的一個確定為密封寬度。有效密封寬度可以指大到足以能夠使玻璃料200將第一基底400和第二基底300連接並阻擋外部空氣和溼氣的密封寬度。例如，當密封寬度與玻璃料200的最大寬度D的比為大約O. 7或更高時，可以確定已經形成有效密封寬度。具體地說，當玻璃料200的最大寬度D為600 μ m時，如果能夠使玻璃料200阻擋外部空氣和溼氣的密封寬度為420 μ m或更大，則可以確定已經形成有效密封寬度。同樣，當玻璃料200的最大寬度D為1200 μ m時，可以確定840 μ m或更大的密封寬度為有效密封寬度。玻璃料200的密封寬度可以相對於玻璃料200的中心線對稱。然而，密封寬度還可以米用各種形式。在使用加熱構件加熱形成玻璃料200的材料之後，形成玻璃料200的材料中的一些可能沒有被適當地燒結成玻璃料200。未被適當地燒結的材料對顯示面板100的密封不起作用。通過平穩的燒結工藝形成為大到足以超過有效密封寬度的密封寬度與顯示面板100的密封程度密切相關。為了增大玻璃料200的有效密封寬度，期望的是，玻璃料200充分地吸收來自加熱構件的熱能。例如，具有高的光密度(其指輻射能的吸收度)的玻璃料的使用對於顯示面板100的密封來說是有利的。加熱構件可以是在760nm至860nm的波長範圍內的任何一個波長的雷射。光密度也可以稱作消光係數，並可 以用[/ym]來測量。吸光度和消光係數可以滿足以下等式。吸光度=A= log(l/t) = log(l/(It/Io)) = -log(It/100) = ε CL,消光係數=A/L= ε C，其中，t = It/1 ο表示透射光的強度/入射光的強度(入射光100%，透射光測量的透射率(％ ))，ε表示比例常數，C表示樣品的濃度(假設樣品的濃度為常數)，L表示樣品的長度(厚度)。當樣品對於大約760nm至大約860nm的波長範圍內的任何一個波長的雷射(例如，810nm的雷射)的透射率為20 %時，如果樣品的厚度為5 μ m，則A (吸光度)=-log (20/100) = O. 69897，並且 A/L = ε C (消光係數)=O. 69897/5 μ m = O. 139794/μ m0在下文中，將描述確保玻璃料200的優異的密封性能的光密度範圍和實現該光密度範圍內的光密度的方法。在使用雷射的玻璃料燒結工藝中，玻璃料的光密度決定了玻璃料的密封寬度。如果可以確定用於形成有效密封寬度的最小光密度，則基於確定結果可以減少選擇形成玻璃料的材料所需的時間，繼而簡化整個玻璃料工藝。允許玻璃料在用810nm的雷射照射之後具有有效密封寬度的光密度根據玻璃料的其他組分或母玻璃的特性而改變。在下文中將詳細描述玻璃料的組分和玻璃料的最小光密度。玻璃料可以包括母玻璃和陶瓷填料。在一些實施例中，母玻璃可以是包括多種化合物的釩基母玻璃。例如，基於玻璃料的總量，釩基母玻璃可以包括大約40摩爾％至大約50摩爾％的V2O5 (即，釩基化合物)，並且還可以包括TeO2、BaO和ZnO。除了母玻璃之外，玻璃料還可以包括含有V2O5的添加劑。陶瓷填料分布在母玻璃內，以保持燒結的玻璃料的形狀。另外，陶瓷填料控制玻璃料的熱膨脹係數(CTE)，以保持玻璃料的機械強度。更具體地說，陶瓷填料可以由與母玻璃相比具有相對低的CTE的材料製成。因此，即使當母玻璃具有相對高的CTE時，因為母玻璃的CTE被陶瓷填料的CTE抵消，所以玻璃料的CTE可以保持為低。較低的CTE提高了對抗熱的機械強度。因此，陶瓷填料有助於玻璃料的機械強度的提高。當使用釩基母玻璃作為母玻璃時，與釩基母玻璃混合的陶瓷填料可以是例如Zr2(WO4) (P04)2。如通過稍後將描述的實驗示例所證實的，釩基玻璃料應當具有大於大約O. 0683/μ m的光密度，從而在用大約760nm至大約860nm的波長範圍內的任何一個波長的雷射(例如，810nm的雷射)照射之後具有有效密封寬度。玻璃料的光密度的上限可以為O. 2/μ m。
O.2/ μ m或更小的光密度可以防止由於雷射的透射率的減小弓I起的每個玻璃料高度方面的燒結缺陷。釩基玻璃料中的釩基組分的含量可以改變玻璃料的光密度。具體地說，釩基組分可以是例如V2O5。當釩基玻璃料中的V2O5的含量為大約40摩爾％至大約50摩爾％時，可以獲得高的光密度。在一些其他實施例中，釩基玻璃料還可以包括V204。在這種情況下，V2O4的含量和V2O5的含量的總和可以為大約40摩爾％至大約50摩爾％。因為V2O4在顏色方面比V2O5更加呈現出褐色，所以較多含量的V2O4可以使得熱能的吸收率更高，由此提高釩基玻璃料的光密度。為了提高玻璃料中的V2O4的含量，可以在隊氣氛中塑化玻璃料組合物。具體地說，包含V2O5的釩基母玻璃由於五價離子的釩組分而呈微黃色。如果釩基化合物在N2環境中具 有化學反應，則在得到的化合物中包含V02。N2環境中的釩基母玻璃的化學反應式為如下。V205+C — 2V02+C02 因此，得到的化合物包括四價離子的釩組分，並且四價離子的釩在顏色上呈褐色。這對應於提高玻璃料的熱能的吸收率的條件，因而提高了玻璃料的光密度。在塑化玻璃料的工藝期間，工作空間中的氧的含量應當保持在預定的速率或更高，以引發期望的化學反應。因此，考慮到工作空間中的氧的含量，對於塑化工藝，需要調節工作空間中的N2的含量。例如，對於塑化工藝，工作空間中的N2的含量可以為30體積％至40體積％。在一些其他實施例中，玻璃料的母玻璃可以是包括多種化合物的鉍基母玻璃。基於玻璃料的總量，鉍基玻璃可以包括30摩爾％至45摩爾％的Bi2O3,並且還可以包括ZnO、B203、BaO, A1203、SiO2和MgO。這裡，可以與鉍基母玻璃混合的陶瓷填料可以為例如Mg2 (Al4O3 (SiO3)5)) ο如通過稍後將描述的實驗示例所證實的，鉍基玻璃料應當具有大約O. 1567/μ m或更大的光密度，從而在用大約760nm至大約860nm的波長範圍內的任何一個波長的雷射(例如，810nm的雷射)照射之後具有有效密封寬度。與釩基玻璃料相比，鉍基玻璃料需要更高的光密度的原因在於，其材料特性(例如，其母玻璃的顏色)與釩基玻璃料的材料特性不同，因此，鉍基玻璃料需要不同量的熱能。鉍基玻璃料還可以包括顏料，以提高其光密度。加入到玻璃料的顏料可以改變整個玻璃料的顏色。因為鉍基玻璃由於鉍的性能而帶白色，所以在吸收由加熱構件提供的能量方面是低效的。出於此原因，可以將顏料加入到鉍基母玻璃，以改變玻璃料的顏色，從而玻璃料可以更好地吸收輻射能。當將含Mn的顏料加入到玻璃料時，與未加入時相比，提高了玻璃料的光密度。因此，玻璃料的提高的光密度可以增大玻璃料的有效密封寬度。這裡，含Mn的顏料可以是從由Μη0、Μη02和Mn3O4組成的組中選擇的一種或多種材料。例如,加入到玻璃料的Mn3O4顯著地提高了玻璃料的光密度，繼而確保了足夠大的有效密封寬度。鉍基玻璃料中的含Mn的顏料的含量的增加使得玻璃料的光密度增大，從而使得玻璃料的有效密封寬度增大。從這個角度看，整個玻璃料中的含Mn的顏料的含量應當為9. 9摩爾％或更大。為了防止由於雷射的透射率的減小引起的每個玻璃料高度方面的燒結缺陷，整個玻璃料中的含Mn的顏料的含量應當為11. 01摩爾％。
在一些實施例中，向玻璃料加入顏料會引起玻璃料的黑化。黑化的玻璃料可以更好地吸收熱能。因此，加入到玻璃料的顏料提高了由雷射產生的能量的吸收率。提高的能量吸收率提高了玻璃料的光密度，因而增大了玻璃料的有效密封寬度。可以將顏料直接加入到母玻璃，或者可以將顏料作為除了母玻璃和填料之外的附加組分加入到玻璃料。可以將含Mn的顏料直接加入到母玻璃，或者可以將含Mn的顏料作為除了母玻璃和填料之外的附加組分予以加入。母玻璃中的Mn含量的過度增加會使母玻璃的獨特特性劣化。具體地說，作為玻璃組分的母玻璃在適當的溫度下熔化時具有特定的流動性。然而，如果母玻璃中的Mn的含量超過預定值，則母玻璃的流動性改變，進而難以燒結玻璃料。因此，可以將直接加入到母玻璃的含Mn的顏料的量限制到預定的量。從這個角度看，可以基於玻璃料的總量，將從由MnO、MnO2和Mn3O4組成的組中選擇的一種或多種材料以O. I摩爾％至2摩爾％的量加入到母玻璃，並可以將其他組分作為與母玻璃分開的顏料加入到母玻璃。含有從由Μη0、Μη02和Mn3O4組成的組中選擇的一種或多種材料的顏料不僅可以加
入到基於鉍基母玻璃的玻璃料，而且可以加入到基於釩基母玻璃的玻璃料。在下文中，將描述根據示例實施例的製造顯示面板的方法。圖4是示出根據示例實施例的製造顯示面板的方法的流程圖。參照圖I、圖2和圖4，在第二基底300上塗覆玻璃料組合物(操作S100)。可以不將玻璃料組合物塗覆在其上設置有發光單元的第一基底400上，而是塗覆在覆蓋發光單元的第二基底300上。在一些情況下，可以將玻璃料組合物塗覆在第一基底400上。可以使用絲網印刷方法將玻璃料組合物塗覆在第二基底300上，但不限於此方法。塗覆在第二基底300上的玻璃料組合物可以是通過將氧化物粉末和有機材料加入到玻璃粉末所形成的凝膠態的膏。將塗覆的玻璃料組合物塑化(操作S200)。為了將凝膠態的玻璃料膏作為固態玻璃料200附著到第二基底300，將玻璃料組合物在諸如室的工作空間中塑化。如果玻璃料組合物是釩基玻璃料組合物，則可以將工作空間置於N2環境中。這裡，工作空間中的隊的含量可以為30體積％至40體積％或更少。塑化溫度可以在大約300°C至大約500°C的範圍內，優選地為大約400°C。在該塑化工藝中，有機材料消散到空氣中，凝膠態的膏硬化，從而作為固態玻璃料200附著到第二基底300。將第一基底400放置在塑化的玻璃料200上(操作S300)。將在其表面上具有發光單元的第一基底400放置為面對其上附著有玻璃料200的第二基底300。最後，使用加熱構件向玻璃料200提供熱能(操作S400)。加熱構件可以是大約760nm至大約860nm的波長範圍內的任何一個波長的雷射(例如,810nm的雷射)。可以利用大約12. 5W至大約13. Off的功率進行雷射照射。在將第一基底400放置在玻璃料200上之後，可以將SlOnm的雷射照射到顯示面板100。因此，將玻璃料200熔化並附著到第一基底400，由此將第一基底400和第二基底300結合在一起。這裡，如果玻璃料200具有大於
O.0683/ μ m的光密度，則可以形成足夠大的有效密封寬度，如上所述。因此，當通過該玻璃料200將第一基底400和第二基底300彼此附著時，可以防止氧和溼氣進入到像素區域中。現在將參照下面的實驗示例更詳細地描述當前實施例。本領域普通技術人員可以容易地推斷出下面未提供的信息，因此將省略其描述。實驗示例I :釩基玻璃料的光密度和密封寬度之間的關係通過調節玻璃料中的釩的含量來製備具有不同的光密度的四個玻璃料樣品Rl至R4。玻璃料樣品Rl至R4中的釩含量滿足Rl < R2 < R3 < R4。如圖5所示，調節玻璃料樣品Rl至R4中的每個樣品的釩含量，使得對於810nm的雷射，Rl具有O. 0683/ μ m的光密度，R2具有O. 0795/ μ m的光密度，R3具有O. 0892/ μ m的光密度，R4具有O. 1483/ μ m的光
山/又ο將玻璃料樣品Rl至R4中的每個樣品塗覆為600 μ m的寬度，並照射具有12. 5W的能量和SlOnm的雷射。然而，因為在Rl的情況下根本未形成密封寬度，所以將雷射的能量增大至15. 5W，然後再次進行實驗。結果示出在表I以及圖5和圖6中。在表I中，確定出，當密封寬度與玻璃料寬度的比為O. 7或更高時，已經形成有效密封寬度。 [表 I]
樣品光密度玻璃料的密密封寬度/玻有效密封寬度的
權利要求
1.一種顯示面板，所述顯示面板包括 第一基底; 第二基底，面對所述第一基底；以及 玻璃料，將所述第一基底和所述第二基底結合在一起， 其中，對於760nm至860nm的波長範圍內的任何一個波長的雷射，所述玻璃料具有大於.O.0683/μ m的光密度。
2.根據權利要求I所述的顯示面板，其中，當所述玻璃料的最大寬度為D時，當所述玻璃料接觸所述第一基底的區域中的玻璃料的寬度為dl時，當所述玻璃料接觸所述第二基底的區域中的玻璃料的寬度為d2時，並且當將dl和d2中的較小值定義為所述玻璃料的密封寬度時，所述玻璃料的密封寬度與D的比為O. 7或更大。
3.根據權利要求I所述的顯示面板，其中，當所述玻璃料接觸所述第一基底的區域中的玻璃料的寬度為dl時，當所述玻璃料接觸所述第二基底的區域中的玻璃料的寬度為d2時，並且當將dl和d2中的較小值定義為所述玻璃料的密封寬度時，所述玻璃料的密封寬度為 420 μ m 至 600 μ m。
4.根據權利要求I所述的顯示面板，其中，所述玻璃料包括釩基母玻璃。
5.根據權利要求4所述的顯示面板，其中，所述玻璃料包括40摩爾％至50摩爾％的V2O50
6.根據權利要求5所述的顯示面板，其中，所述玻璃料還包括V204。
7.根據權利要求6所述的顯示面板，其中，所述玻璃料在顏色上呈褐色。
8.根據權利要求4所述的顯示面板，其中，所述玻璃料還包括填料和顏料，所述顏料包含從由MnO、MnO2和Mn3O4組成的組中選擇的一種或多種材料。
9.根據權利要求I所述的顯示面板，其中，所述玻璃料包括鉍基母玻璃，並且所述玻璃料具有O. 1567/ μ m或更大的光密度。
10.根據權利要求9所述的顯示面板，其中，所述玻璃料包括填料和顏料，所述顏料包含從由Μη0、Μη02和Mn3O4組成的組中選擇的一種或多種材料。
11.根據權利要求10所述的顯示面板，其中，所述顏料的含量為9.9摩爾％至11. 01摩爾％。
12.根據權利要求11所述的顯示面板，其中，所述玻璃料包括30摩爾％至45摩爾％的Bi2O3O
13.—種製造顯示面板的方法，所述方法包括 準備第一基底和第二基底； 將對於810nm的波長的雷射具有大於O. 0683/ μ m的光密度的玻璃料組合物塗覆在所述第二基底上； 將所述第一基底堆疊在所述玻璃料組合物上；以及 通過向所述玻璃料組合物照射810nm的波長的雷射來燒結所述玻璃料組合物。
14.根據權利要求13所述的方法，其中，利用12.5W至13. OW的功率執行照射雷射的步驟。
15.根據權利要求13所述的方法，其中，所述玻璃料組合物包括釩基母玻璃，並且所述方法還包括在塗覆所述玻璃料組合物之後，在300°C至500°C的溫度下並在含有30體積％至40體積％的N2的氣氛中的工作空間中將所述玻璃料組合物塑化。
16.根據權利要求13所述的方法，其中，所述玻璃料組合物包括鉍基母玻璃，在塗覆玻璃料組合物的步驟中，將對於810nm的波長的雷射具有O. 1567/ μ m或更大的光密度的玻璃料組合物塗覆在所述第二基底上。
17.—種玻璃料組合物，所述玻璃料組合物包括母玻璃和填料，並且對於810nm的波長的雷射具有大於O. 0683/ μ m的光密度。
18.根據權利要求17所述的玻璃料組合物，其中，所述母玻璃是包含V2O5的釩基母玻璃，並且所述玻璃料組合物中的V2O5的含量為40摩爾％至50摩爾％。
19.根據權利要求18所述的玻璃料組合物，所述玻璃料組合物還包括顏料，所述顏料包含從由Μη0、Μη02和Mn3O4組成的組中選擇的一種或多種材料。
20.根據權利要求17所述的玻璃料組合物，其中，所述母玻璃是包含V2O5的釩基母玻璃，並且除了所述母玻璃之外，所述玻璃料組合物還包括含有V2O5的添加劑。
21.根據權利要求17所述的玻璃料組合物，其中，所述母玻璃是包含Bi2O3的鉍基母玻璃，所述玻璃料組合物中的Bi2O3的含量為30摩爾％至45摩爾％，並且對於810nm的波長的雷射，所述光密度為O. 1567/μ m或更大。
22.根據權利要求21所述的玻璃料組合物，所述玻璃料組合物還包括顏料，所述顏料包含從由Μη0、Μη02和Mn3O4組成的組中選擇的一種或多種材料。
23.根據權利要求22所述的玻璃料組合物，其中，除了所述顏料之外，所述母玻璃還包括從由MnO、MnO2和Mn3O4組成的組中選擇的一種或多種材料。
全文摘要
本發明提供了顯示面板、製造該顯示面板的方法和在該顯示面板中使用的玻璃料組合物。一種顯示面板包括第一基底；第二基底，面對所述第一基底；玻璃料，將所述第一基底和所述第二基底結合在一起，其中，對於大約760nm至大約860nm的波長範圍內的任何一個波長的雷射，所述玻璃料具有大約0.0683/μm以上的光密度。
文檔編號H01L27/32GK102856344SQ20121013304
公開日2013年1月2日 申請日期2012年4月28日 優先權日2011年6月17日
發明者丁善英, 全震煥, 宋昇勇, 文智永 申請人:三星顯示有限公司