感光鼓基體用鋁管的陽極氧化處理方法和感光鼓基體的製作方法

2023-05-21 20:41:41 2

專利名稱：感光鼓基體用鋁管的陽極氧化處理方法和感光鼓基體的製作方法
技術領域：
本發明涉及用於製造作為例如複印機、印表機、傳真機等電子圖像裝置的OPC感 光鼓用的基體使用的、表面品質優異的鋁管的陽極氧化處理方法，和使用該方法陽極氧化 處理得到的表面品質優異的感光鼓基體。另外，在本說明書和權利要求書中的詞語「鋁」以包括鋁和其合金的意思使用。此外，在本說明書和權利要求書中的詞語「電解波形」是選自電流、電壓中的控制 因素，指的是在電解處理時用於控制的控制因素的輸出波形。
背景技術：
作為複印機、印表機、傳真機等電子圖像裝置的感光鼓基體使用的鋁管，其表面需 要形成均勻的0PC(有機光導電體)塗膜，所以要求為接近鏡面的表面狀態。以往通過對鋁管進行切削來進行鏡面加工，但切削用刀具的調節和管理並不容 易，而且需要操作熟練，所以存在不適合大量生產的問題。因此，近年來，使用由鋁軋制板引縮加工(ironing)而成的DI管、由鋁擠出管材引 縮加工而成的EI管、由鋁擠出管材拉制加工而成的ED管等無切削管作為感光鼓用基體的 情況逐漸變多。其中的ED管與其它的無切削管不同，可以通過1次加工(2次拉制加工) 生產10根以上的管，所以適合大量生產，作為可以解決隨著市場擴大而被大量消費的情況 的產品受到人們關注。ED管一般是將鋁製顆粒擠出，得到鋁擠出管材，然後將該擠出管材裁切成規定的 長度，對其進行拉制加工，得到外徑、內徑、管壁的壁厚被規定為一定值的鋁管，然後依次進 行切斷，對端部進行倒稜加工，再洗淨，再經過尺寸和外觀的檢查，從而製造。由上述ED管制成的感光鼓用基體需要具有高度的表面平滑性和尺寸精度，但由 於是無切削加工，所以具有因擠出加工的口模線條而產生的筋狀缺陷、因拉制加工的潤滑 油擠入而產生的油坑等的微細表面缺陷。特別是，由表面附著有微小鋁片(91)的擠出管材拉制產生的鱗片狀的表面缺陷 (92)經過超聲波洗淨、OPC塗布時的熱的影響等，容易產生毛刺狀的凸起缺陷(93)(參照圖 5)。如果在感光鼓用基體的表面上存在這樣的毛刺狀凸起缺陷(93)，則在構成感光鼓，使之 均勻帶電時，該毛刺狀凸起缺陷(93)容易成為漏電的起點，存在圖像劣化的問題。作為防止這種毛刺狀凸起缺陷發生的技術，公知下述方法(參照專利文獻1)使 用擠出口模的軸承部的圓周方向上的中心線平均粗糙度Ra(Y)和擠出方向上的中心線平 均粗糙度Ra(X)的關係被設定成Ra(Y) < Ra(X)的擠出口模進行擠出加工，製造鋁擠出管 材，從而抑制導致毛刺狀凸起缺陷的、在擠出管材表面附著的微小鋁片(發生)的方法。雖 然通過該方法可以抑制在ED管表面上發生毛刺狀凸起缺陷，但有時偶爾也會發生毛刺狀 凸起缺陷，還未能切實地防止毛刺狀凸起缺陷的發生。專利文獻1 特開平8-267122號公報

發明內容
本發明想到了在鋁管的表面上形成陽極氧化皮膜，使得即使表面附著有微小鋁片 的擠出管材拉制加工時有時會產生的鱗片狀表面缺陷發生，該鱗片狀表面缺陷經過隨後的 超聲波洗淨、OPC塗布時的熱的影響等不會顯現。即想到了通過形成陽極氧化皮膜使鋁拉 制管(ED管)的包含鱗片狀表面缺陷的表面硬化(變硬)，從而使鱗片狀表面缺陷不顯現， 由此切實防止毛刺狀凸起缺陷的發生。要形成這種陽極氧化皮膜，就必須要進行陽極氧化處理，但人們強烈要求該陽極 氧化處理以儘可能便宜的價格進行。鋁材的陽極氧化處理一般通過將鋁材和對電極板浸漬在電解槽內的電解液中，以 鋁材作為陽極，以對電極板作為陰極進行通電來進行，但其成膜速度慢，所以處理時間長， 這已經成為陽極氧化處理所需成本較高的重要原因。此外，由ED管制成的感光鼓用基體，由於是連續大量地生產的，所以陽極氧化處 理裝置必須容易併入到生產線的流程中，即必須是可以以應對生產線流程的高速度進行處 理的裝置，但以往的陽極氧化處理方法不能應對這種高速化的要求。此外，要通過上述以往的陽極氧化處理法形成陽極氧化皮膜，一般要使用高濃度 的電解液，但如果這樣，則形成的陽極氧化皮膜中殘留的電解質(離子類)在OPC塗布後容 易向OPC側溶出移動，在該OPC層中通過該離子發生載流子注入(carrier injection)，導 致圖像劣化的問題。本發明是鑑於這種技術背景而完成的，其目的在於提供一種感光鼓基體用鋁管的 陽極氧化處理方法，該方法可以製造出管的表面形成陽極氧化皮膜的、無毛刺狀凸起缺陷 的鋁管，並且可以高速進行陽極氧化處理來形成皮膜，且可以形成殘存的電解質溶出量少 的陽極氧化皮膜，還提供沒有毛刺狀凸起缺陷，表面品質優異，並且可以形成高品質圖像的 感光鼓基體。為了實現上述目的，本發明提供了以下內容。[1] 一種感光鼓基體用鋁管的陽極氧化處理方法，其特徵在於，在感光鼓基體用鋁 管的外周面與電解液接觸的狀態下，對該電解液施加5kHz以上的高頻電壓進行電解，從而 在所述鋁管的外周面上形成陽極氧化皮膜。[2]如上述1所述的感光鼓基體用鋁管的陽極氧化處理方法，所述高頻電壓施加 時的負成分電壓是0V。[3]如上述2所述的感光鼓基體用鋁管的陽極氧化處理方法，所述高頻電壓施加 時的負電壓施加比例為0. 05 0. 8，所述負電壓施加比例是通過將1周期中的負成分電壓 的施加時間除以1周期整體的時間計算出的。[4]如上述2或3所述的感光鼓基體用鋁管的陽極氧化處理方法，使用短路電路進 行所述高頻電壓施加時的負成分電壓的輸出。[5]如上述1 4的任一項所述的感光鼓基體用鋁管的陽極氧化處理方法，通過所 述高頻電壓進行電解時的電解波形是矩形波。[6]如上述1 5的任一項所述的感光鼓基體用鋁管的陽極氧化處理方法，作為所 述電解液使用含有選自硫酸、磷酸和草酸中的至少一種酸的電解液。[7]如上述1 6的任一項所述的感光鼓基體用鋁管的陽極氧化處理方法，將所述鋁管浸漬在電解槽內的電解液中以使該鋁管的外周面與電解液接觸，並且對所述電解槽內 的電解液一邊進行溫度調節和濃度調節中的至少一種操作，一邊進行所述電解。[8]如上述1 7的任一項所述的感光鼓基體用鋁管的陽極氧化處理方法，作為所 述鋁管使用由選自Al-Mn系合金、Al-Mg系合金、Al-Mg-Si系合金和純Al中的一種材料制 成的管。[9] 一種感光鼓基體，其特徵在於，由通過上述1 8的任一項所述的陽極氧化處 理方法進行陽極氧化處理所得的鋁管制成。[10]如上述9所述的感光鼓基體，當將形成有陽極氧化皮膜的所述鋁管的表面的 ι夂口維氏硬度記作「T」，將除了施加直流電壓以外在相同的電解條件電解而形成了陽極 氧化皮膜的鋁管的表面的7 」 口維氏硬度記作「W」時，滿足(T-W) ^ 50的關係式。發明效果[1]的發明可以通過陽極氧化處理在鋁管的外周面上形成陽極氧化皮膜，通過形 成這樣的陽極氧化皮膜使得鋁管的外周面硬化，所以不顯現鱗片狀表面缺陷(即不發生毛 刺狀凸起缺陷)。即，即使在該陽極氧化處理之後進行例如用於洗淨的超聲波照射、OPC塗 布時的加熱等，也可以充分防止毛刺狀凸起缺陷發生。因此，通過本發明的處理方法陽極氧 化處理製造出的鋁管沒有毛刺狀凸起缺陷，表面品質優異，因此以該鋁管作為基體構成的 感光鼓在均勻帶電時不易發生漏電。此外，由於對電解液施加5kHz以上的高頻電壓進行電解，所以可以提高陽極氧化 皮膜的成膜速度。由於可以這樣以高速進行陽極氧化處理(可以以較高的處理效率進行陽 極氧化處理)，所以可以併入到連續生產線的流程中(可在線進行陽極氧化處理)。此外，由於施加5kHz以上的高頻電壓進行電解，所以可以比使用小於5kHz的高頻 電壓電解的情況形成質地更硬的陽極氧化皮膜，同時可以降低從陽極氧化皮膜溶出的電解 質的溶出量(即可以排除陽極氧化皮膜中的殘留離子溶出造成的影響)。[2]的發明，由於施加高頻電壓時的負成分電壓是0V，所以可以以更高的速度進 行陽極氧化處理。[3]的發明，在施加高頻電壓時，1周期中的負成分電壓的施加時間除以1周期整 體的時間計算出的負電壓施加比例為0. 05 0. 8，所以可以以更高的速度進行陽極氧化處理。[4]的發明，由於使用短路電路來代替具有負側的電源，所以可以通過這樣省略負 側電源來降低設備成本，以低成本進行陽極氧化處理。[5]的發明，由於通過高頻電壓進行電解時的電解波形為矩形波，所以可以以更高 的速度進行陽極氧化處理。[6]的發明，可以進一步提高陽極氧化皮膜的成膜速度。[7]的發明，一邊對電解液進行溫度調節和濃度調節中的至少一種操作，一邊進行 上述電解，所以可以抑制成膜速度、膜質的不均勻。[8]的發明，作為鋁管使用由選自Al-Mn系合金、Al-Mg系合金、Al-Mg-Si系合金 和純Al中的一種材料製成的管，所以可以提高陽極氧化皮膜的成膜速度，並且進一步使陽 極氧化皮膜的膜質均勻化。[9]的發明所涉及的感光鼓基體，在外周面上實質上不存在毛刺狀凸起缺陷，所以在該感光鼓基體的外周面上被覆形成感光層(0PC等)的感光鼓在均勻帶電時不易發生漏 電。此外，可以在線進行陽極氧化處理，所以成本低。[10]的發明所涉及的感光鼓基體滿足(T-W) ≥50的關係式，所以可以進一步充分 防止毛刺狀凸起缺陷的發生。


圖1示出了本發明的陽極氧化處理方法所使用的陽極氧化處理裝置的一例概略 圖。圖2是示出電源部的電路構成例的圖，圖2 (a)是具有正側電源和負側電源的電路 構成圖，圖2(b)是具有正側電源和短路電路的電路構成圖。圖3是顯示實施例1中使用的施加電壓的電解波形的波形圖。圖4是顯示實施例6中使用的施加電壓的電解波形的波形圖。圖5是用於說明毛刺狀凸起缺陷的發生途徑的說明圖。附圖標記說明1..陽極氧化處理裝置
2..鋁管
4..電解槽
6..電解液
11..溫度調節機
12..濃度調節機
具體實施例方式在本發明涉及的感光鼓基體用鋁管的陽極氧化處理方法中，在感光鼓基體用鋁管 的外周面與電解液接觸的狀態下，對該電解液施加5kHz以上的高頻電壓進行電解。雖然通過上述電解可以在鋁管的外周面形成陽極氧化皮膜，但由於該陽極氧化皮 膜的形成使得鋁管的外周面硬化，所以不會出現鱗片狀表面缺陷(即不發生毛刺狀凸起缺 陷)。即，即使在該陽極氧化處理之後進行例如為了洗淨而進行的超聲波照射、OPC塗布時 的加熱等，也可以充分防止毛刺狀凸起缺陷發生。因此，通過本發明的處理方法陽極氧化處 理後製造的鋁管，在外周面上實質上不存在毛刺狀凸起缺陷，表面品質優異，以該鋁管作為 基體構成的感光鼓在均勻帶電時難以發生漏電。另外，「外周面上實質上不存在毛刺狀凸起 缺陷」是指在鋁管的外周面形成有OPC塗膜的狀態下不存在從該OPC塗膜的表面向外突出 的毛刺狀凸部(缺陷部)。此外，由於對電解液施加5kHz以上的高頻電壓使其電解，所以可以提高陽極氧化 皮膜的成膜速度。由於可以這樣高速進行陽極氧化處理，所以容易將本發明的處理方法並 入到連續生產線的流程中(即可以在線(in-line)進行陽極氧化處理)。進而，由於施加5kHz以上的高頻電壓進行電解，所以與使用小於5kHz的高頻電壓 的情況相比，可以形成質地更硬的陽極氧化皮膜，同時可以降低殘留在陽極氧化皮膜中的 電解質從該皮膜中溶出的溶出量(即可以防止由於殘留離子溶出而造成的圖像劣化)。圖1示出了本發明的陽極氧化處理方法所使用的陽極氧化處理裝置(1)的一例。該圖1中，(4)是電解槽，(5)是電源部，(11)是溫度調節機，(12)是濃度調節機。在上述電解槽(4)的內部配置有電解液(6)。此外，電解架(20)被固定成以位於 上述電解槽(4)的內部的中央部的方式下吊的狀態。上述電解架(20)的底板上配置有豎 立狀態的鋁管(2)。該鋁管(2)以整體浸漬在上述電解槽(4)內的電解液(6)中的方式配 置。此外，在上述電解槽(4)的內部，以非接觸地夾持上述鋁管(2)的方式配置有左右一對 的對電極(3)。這些對電極(3)以其大部分浸漬在上述電解槽⑷內的電解液(6)中的方 式配置。上述電源部(5)的陽極(+極)介由上述電解架(20)與鋁管⑵連接，上述電源部 (5)的陰極(_極)與上述對電極(3)連接。這樣從該電源部(5)對電解液(6)施加5kHz 以上的高頻電壓進行電解，從而在上述鋁管(2)的外周面上形成陽極氧化皮膜。作為上述鋁管(陽極氧化處理對象的鋁管)(2)可以列舉出，通過對鋁擠出管材進 行拉制加工所得的感光鼓基體用鋁拉制管(感光鼓基體用鋁ED管)等。上述溫度調節機(11)是用於調節電解液(6)溫度的裝置。S卩、該溫度調節機(11) 介由吸液管(15)引入上述電解槽(4)內的電解液(6)進行溫度調節，然後將該溫度調節後 的電解液(6)介由管(16)返回到上述電解槽(4)內。上述濃度調節機(12)是用於調節電解液(6)濃度的裝置。即該濃度調節機(12) 介由吸液管(17)引入上述電解槽(4)內的電解液(6)進行濃度調節，然後將該濃度調節後 的電解液(6)介由管(18)返回到上述電解槽(4)內。通過使用這些溫度調節機(11)和濃度調節機(12)，可以保持上述電解槽(4)內的 電解液(6)的溫度和濃度固定，由此可以抑制陽極氧化皮膜的成膜速度和膜質的不均勻。本發明的陽極氧化處理方法中，通過對電解液施加5kHz以上的高頻電壓進行電 解，其中優選施加6 30kHz的高頻電壓進行電解，特別優選10 15kHz的高頻電壓。此外，電解時，優選設定成高頻電壓施加時的負成分電壓為0V。此種情況具有可以 以更高的速度進行陽極氧化處理的優點。例如如圖3所示的電解波形圖那樣，優選高頻電 壓施加時的負成分電壓是0V。此外，在設定成高頻電壓施加時的負成分電壓為OV的情況中，高頻電壓施加時的 負成分電壓的輸出優選使用短路電路進行。即優選採用例如圖2(b)所示那樣的具有正側 電源(33)和短路電路(34)的電路構成。通過使用這樣的短路電路(34)，可以省略負側電 源，所以可以降低設備成本。另外，在設定成高頻電壓施加時的負成分電壓是小於OV的電壓(負電壓)的情況 中(參照例如圖4)，只要採用例如圖2 (a)所示的具有正側電源(31)和負側電源(32)的電 路構成即可。此外，作為通過高頻電壓進行電解時的電解波形，沒有特殊限定，可以列舉出例如 矩形波、正弦波、三角波等。其中電解波形優選為矩形波(參照例如圖3、4)，此時可以以更 高的速度進行陽極氧化處理。作為上述電解液(6)沒有特殊限定，優選使用含有選自硫酸、磷酸和草酸中的至 少一種酸的電解液。其中特別優選使用含有硫酸作為主成分的電解液(6)，此時可以進一步 提高陽極氧化皮膜的成膜速度。從可以提高陽極氧化皮膜的成膜速度，並且使該皮膜的膜質更加均勻方面考慮，
7作為上述鋁管(2)優選使用由Al-Mn系合金、Al-Mg系合金、Al-Mg-Si系合金或純Al製成 的管，但並不特別限定這些。通過本發明的陽極氧化處理方法陽極氧化處理後製造的鋁管，其外周面上實質上 不存在毛刺狀凸起缺陷，具有優異的表面品質，當將該形成有陽極氧化皮膜的鋁管的表面 的7 」 口維氏硬度MHv記作「T」，將除了施加直流電壓以外在相同的電解條件電解而形成 了陽極氧化皮膜的鋁管的表面的7 」 口維氏硬度MHv記作「W」時，優選滿足(T-W) ^ 50的 關係式。通過使(T-W)為50以上，可以更加充分地防止毛刺狀凸起缺陷的發生，可以得到 表面品質更加優異的感光鼓基體用鋁管。此外，當將施加上述5kHz以上的高頻電壓進行電解，形成陽極氧化皮膜的鋁管的 溶出電解質的量記作「X」，將除了施加直流電壓以外，在相同的電解條件電解，形成陽極氧 化皮膜的鋁管的溶出電解質的量記作「Y」時，優選滿足(X-Y)/Y < 2/3的關係式。在滿足 這樣的關係式時，可以充分降低從陽極氧化皮膜溶出的電解質的溶出量，即可以充分排除 由於陽極氧化皮膜中的殘留離子溶出到OPC(有機光導電體)側而對品質的影響(圖像的 劣化)，可以確保作為感光鼓基體的長期品質穩定性。實施例下面來說明本發明的具體實施例，但本發明並不受這些實施例的特別限定。將由A3003材料製成的鋁擠出管材拉制加工所得的鋁拉制管(鋁ED管)(2)設置 在圖1所示的陽極氧化處理裝置(1)中進行電解，從而在鋁拉制管(2)的外周面上形成陽 極氧化皮膜，得到感光鼓基體用鋁管。作為電源部(5)使用圖2(b)所示的具有正側電源 (33)和短路電路(34)的電源部，作為電解液(6)使用濃度30質量％的硫酸水溶液，將電 解浴(電解液)(6)的溫度控制在5°C，施加具有圖3所示矩形狀電解波形的5000Hz (5kHz) 的高頻電壓進行電解。另外，使正側為CC恆定電流電解，使負側為CV恆定電壓電解(參照 圖3)。該電解時的正電流密度為5A/dm2，正電壓施加比例為0. 5，負電壓為0V，負電壓施加 比例為0. 1。這樣進行20分鐘電解，從而形成27 μ m的陽極氧化皮膜。另外，正電壓施加比例是將1周期中的正電壓施加時間除以1周期的時間計算出 的值(比例)。此外，負電壓施加比例是以1周期中的負電壓施加時間除以1周期的時間計 算出的值(比例)。除了將電解條件設定成表1所示的值以外，與實施例1同樣操作得到感光鼓基體 用鋁管。另外，實施例6、7中，作為陽極氧化處理裝置⑴的電源部(5)使用圖2(a)所示 的具有正側電源(31)和負側電源(32)的電源部。〈比較例1 5>除了將電解條件設定成表1所示的值以外，其它與實施例1同樣操作，得到感光鼓 基體用鋁管。〈比較例6、7>除了在表1所示的電解條件下施加直流(DC)電壓進行電解以外，其它與實施例1 同樣操作，得到感光鼓基體用鋁管。各實施例、各比較例中的電解時間、形成的陽極氧化皮膜的厚度、成膜速度、陽極
8氧化處理所得的鋁管表面的7 」 口維氏硬度(MHv)和上述溶出電解質的量的增加比例 (X-Y)/Y如表1所示。另外，ι 」 口維氏硬度(MHv)是使用硬度試驗機(明石製作所制，顯微維氏型 MVK-G2)，在試驗載荷5gf下測得的值。此外，「形成有陽極氧化皮膜的鋁管的溶出電解質的量」是通過下述方法測得的 值。即先向容器中加入超純水，測定該超純水的電導度(ys/m)，將該測定值設作「M」。對 上述容器進行加熱使超純水沸騰。另一方面，用流水洗淨感光鼓基體用鋁管(形成有陽極 氧化皮膜的鋁管)，然後再在超純水中浸漬1分鐘以洗淨。將該鋁管浸漬在上述沸騰狀態 的超純水中，在該狀態下煮沸60分鐘。經過該煮沸，陽極氧化皮膜中的電解質溶出。然後 從容器內取出鋁管，將容器內的超純水冷卻，冷到室溫後，測定該容器內的超純水的電導度 (yS/m)，將該測定值設作「N」。這樣將通過數學式(N-M)求出的值作為「形成有陽極氧化 皮膜的鋁管的溶出電解質的量」。[表 1]
9 通過表1中的除了高頻電壓的頻率以外，電解條件相同的實施例1 4和比較例 1 5彼此對比可知，施加5000Hz (5kHz)以上的高頻電壓進行電解的實施例1 4， 比施加頻率小於5000Hz的電壓的比較例1 5成膜速度快。這樣通過施加5000Hz (5kHz)以上的 高頻電壓進行電解，可以以高速形成陽極氧化皮膜。此外，通過實施例4和比較例4、5的對比可知，施加5000Hz(5kHz)以上的高頻電 壓進行電解的實施例4比施加頻率小於5000Hz的電壓的比較例4、5維氏硬度大。通過這 樣施加5000Hz以上的高頻電壓進行電解，所得鋁管的表面的維氏硬度提高。另外，由比較例1 3和實施例1 4中的頻率和成膜速度的數據可知，隨著頻率 條件從IOOHz增大到1000Hz，成膜速度暫時降低，但以該1000Hz時作為最小點，隨著頻率條 件從1000Hz增大到15000Hz，成膜速度再次增大。此外，通過除了負電壓的設定數值以外，其它電解條件相同的實施例5 7彼此對 比可知，設定負電壓(負成分電壓)為OV進行電解的實施例5比負電壓設定在-3V的實施 例6和負電壓設定在-5V的實施例7成膜速度顯著提高。因此施加高頻電壓時的負成分電 壓優選設定在0V。此外還知道，負電壓(負成分電壓)設定在OV進行電解的實施例5比負電壓設定 在-3V的實施例6和負電壓設定在-5V的實施例7溶出電解質量的增加量(X-Y)顯著減 小，可以充分降低從陽極氧化皮膜溶出的電解質的溶出量(即可以充分防止由於陽極氧化 皮膜中的殘留離子溶出到OPC側而造成的圖像的劣化現象)。由於該原因，優選將施加高頻 電壓時的負成分電壓設定在0V。本申請要求具有於2007年11月8日遞交的日本專利申請的特願2007-290825號 的優先權，將其公開內容直接作為本申請的一部分。本文中使用的詞語和表達只是為了說明，並不是用於限定解釋，不排除與本文所 公開和講述的技術特徵有類同的發明，應該認識到在本發明權利要求的範圍內進行各種變 形是允許的。產業可利用性通過本發明的陽極氧化處理方法處理後製造出的鋁管表面品質優異，所以可以作 為例如複印機、印表機、傳真機等電子圖像裝置的OPC感光鼓用基體使用。
權利要求
一種感光鼓基體用鋁管的陽極氧化處理方法，其特徵在於，在感光鼓基體用鋁管的外周面與電解液接觸的狀態下，對該電解液施加5kHz以上的高頻電壓進行電解，從而在所述鋁管的外周面上形成陽極氧化皮膜。
2.如權利要求1所述的感光鼓基體用鋁管的陽極氧化處理方法，所述高頻電壓施加時 的負成分電壓是0V。
3.如權利要求2所述的感光鼓基體用鋁管的陽極氧化處理方法，所述高頻電壓施加時 的負電壓施加比例為0. 05 0. 8，所述負電壓施加比例是通過將1周期中的負成分電壓的 施加時間除以1周期整體的時間計算出的。
4.如權利要求2或3所述的感光鼓基體用鋁管的陽極氧化處理方法，使用短路電路進 行所述高頻電壓施加時的負成分電壓的輸出。
5.如權利要求1 4的任一項所述的感光鼓基體用鋁管的陽極氧化處理方法，通過所 述高頻電壓進行電解時的電解波形是矩形波。
6.如權利要求1 5的任一項所述的感光鼓基體用鋁管的陽極氧化處理方法，作為所 述電解液使用含有選自硫酸、磷酸和草酸中的至少一種酸的電解液。
7.如權利要求1 6的任一項所述的感光鼓基體用鋁管的陽極氧化處理方法，將所述 鋁管浸漬在電解槽內的電解液中以使該鋁管的外周面與電解液接觸，並且對所述電解槽內 的電解液一邊進行溫度調節和濃度調節中的至少一種操作，一邊進行所述電解。
8.如權利要求1 7的任一項所述的感光鼓基體用鋁管的陽極氧化處理方法，作為所 述鋁管使用由選自Al-Mn系合金、Al-Mg系合金、Al-Mg-Si系合金和純Al中的一種材料制 成的管。
9.一種感光鼓基體，其特徵在於，由通過權利要求1 8的任一項所述的陽極氧化處理 方法進行陽極氧化處理所得的鋁管制成。
10.如權利要求9所述的感光鼓基體，當將形成有陽極氧化皮膜的所述鋁管的表面的 ι夂口維氏硬度記作「T」，將除了施加直流電壓以外在相同的電解條件電解而形成了陽極 氧化皮膜的鋁管的表面的7 」 口維氏硬度記作「W」時，滿足(T-W) ^ 50的關係式。
全文摘要
本發明的陽極氧化處理方法，其特徵在於，在感光鼓基體用鋁管2的外周面與電解液6接觸的狀態下，對該電解液施加5KHz以上的高頻電壓進行電解，從而在所述鋁管2的外周面上形成陽極氧化皮膜。該方法可以製造出管的表面形成陽極氧化皮膜、且無毛刺狀凸起缺陷的鋁管，並且可以高速進行陽極氧化處理來形成皮膜，且可以形成電解質溶出量少的陽極氧化皮膜。
文檔編號G03G5/00GK101910472SQ20088012419
公開日2010年12月8日 申請日期2008年11月5日 優先權日2007年11月8日
發明者大出雅章, 森川卓哉 申請人:昭和電工株式會社