光學膜及其製造方法

2023-05-08 06:56:26 2

入射光，、100從上式可知，所說的霧度值高，意味著透過光中擴散透過光的比例高的情況。本發明的特定光學物性膜的全光線透過率為70%以上、霧度值為20%以上。該膜的霧度值優選為20%以上且小於100%,進一步優選為50%以上、95%以下。這是因為光擴散性優異。即，本發明的特定光學物性膜具有的特徵為全光線透過率高，且透過光線中，不是平行透過光而是擴散透過光高，也就是說光擴散性高(光擴散性優異)。(2)透明樹脂本發明的特定光學特性膜含有透明樹脂、以及分散於透明樹脂中的金屬氧化物粒子。所說的透明樹脂是在膜厚為15pm時，顯示出波長650nm的平行光線透過率在60%以上的有機聚合物(聚合物)，優選為顯示出波長650nm的平行光線透過率在70%以上的有機聚合物(聚合物)。本發明中使用的透明樹脂優選為對水或可與水混合的溶劑具有溶解性的樹脂。如後述所示，本膜的製造方法包括在以透明樹脂為溶質的溶液中，使通過溶膠-凝膠反應生成金屬氧化物的金屬化合物進行溶膠-凝膠反應的工序。這是因為，由於有時在溶膠-凝膠反應中使用水，因此，如果所述溶劑的溶質是水或可與水混合，則容易進行溶膠-凝膠反應。這樣的透明樹脂的例子，包括聚醯亞胺、聚碳酸酯、聚丙烯酸酯、聚曱基丙烯酸酯(PMMA)、聚醚酮、聚醚醚酮、聚苯乙烯、聚酯、環氧樹脂、聚醯胺、聚碸、聚芳醯胺、聚氨酯、聚醋酸乙烯酯、聚乙烯醇(PVA)、聚丙烯酸。(3)金屬氧化物在特定光學物性膜中使用的金屬氧化物，只要是可採用溶月交-凝膠法生成的物質，就沒有特別限制。這些例子包括鋰、鈉、銅、鈣、鍶、鋇、鋅、硼、鋁、鎵、釔、矽、鍺、鉛、磷、銻、釩、鉭、鴒、鑭、釹、鈦或鋯的氧化物。其中，為了提高光擴散性能，優選使用矽、鋯、鈦或鋁的氧化物。特定光學物性膜中的金屬氧化物的含量相對於100質量份的透明樹脂與金屬氧化物的複合體，優選為0.170質量份，更優選為0.1~50質量份。這是因為光散射效果與膜的機械強度優異。這裡所說的金屬氧化物的含量是指，將由透明樹脂與金屬氧化物的複合體構成的光學膜在空氣中在800°C下進行燒成，其後殘留的灰分。為了滿足特定的光學特性，優選從折射率差的角度考慮，選擇特定光學物性膜中使用的金屬氧化物與透明樹脂。該折射率的差(金屬氧化物的折射率與透明樹脂的折射率的差分)優選為0.02~1.40，更優選為0.041.30。這樣的優選例子，包括聚甲基丙烯酸曱酯、聚乙烯醇或聚醯亞胺等透明樹脂與金屬氧化物為氧化矽或氧化鈦等金屬氧化物的組合。(4)金屬氧化物的粒徑與粒徑梯度特定光學物性膜中的金屬氧化物的粒徑優選為0.001lam100pm的範圍，進一步優選為0.01nm20pm的範圍。特別是用作光擴散膜時，上述粒徑優選為0.03jim15nm。這是因為，可以滿足上述光學特性，並且膜表面的平滑性優異。另外，在膜中存在超過15iim的金屬氧化物粒子時，如果該粒子不存在於膜表面而存在於膜內部，則不會損害膜的平滑性，所以優選。但是，在金屬氧化物含量一定的狀態下，如果增大其粒徑，則粒子的個數減少。這樣的光學膜的光擴散性有時降低。即，特定光學物性膜中的金屬氧化物的粒徑因金屬氧化物的含量而受到影響，因此，該粒徑優選也考慮金屬氧化物的含量來調節。特定光學物性膜中的金屬氧化物的形態及其大小可以通過透射電子顯微鏡(TEM)、掃描電子顯微鏡(SEM)、原子力顯微鏡(AFM)或X射線散射來測定。本發明的金屬氧化物是以與透明樹脂相分離的形態存在，其形狀各種各樣。該金屬氧化物，由於如後所述在聚合物中通過溶膠-凝膠反應來生成，因此經常為不定形狀。另外，特定光學物性膜中的金屬氧化物優選以相對於膜的厚度方向，該金屬氧化物粒子的粒徑梯度性地變化的方式來存在。存在於膜中的金屬氧化物粒徑相對於膜厚度方向的梯度性變化被稱為"粒徑梯度"。具體來講，粒徑梯度是由從膜的雙面至膜厚40%的範圍的單位面積上存在的金屬氧化物粒子的平均粒徑，按如下所述來定義的。對存在於從膜的一個面至膜厚40%(作為X區域)的粒子的平均粒徑X進行測定，對存在於從另一個面至相同範圍(作為Y區域)的粒子的平均粒徑Y進行測定。將X/Y定義為粒徑梯度(其中，X大於Y)。在本膜中，優選為X區域與Y區域中的其中一方的平均粒徑大、而另一方小的粒徑梯度。本膜中的粒徑梯度優選為1.2100000，更優選為1.550000，進一步優選為1.6~10000。所述平均粒徑，在膜的雙面至膜厚40%的範圍內，優選在單位面積為l~10000|im2、進一步優選為55000pm2、特別優選為102500nm2的範圍內計算。平均粒徑可以由例如通過TEM觀察得到的圖像，採用圖像分析軟體(Image-ProPlus,Planetron,>司製造)等來求出。(5)金屬氧化物的體積分數特定光學物性膜優選膜中的金屬氧化物的體積分數在膜厚方向上實質上沒有變化。這是因為，這種結構的膜，在厚度方向上熱膨脹係數沒有差異，不會由於溫度變化等而產生翹曲。所述體積分數按如下方法求得。首先，對光學膜截面進行TEM觀察，將得到的圖像進行圖像分析，求出存在於單位面積中的金屬氧化物粒子的面積的總和。接著，用該面積除以單位面積來求出面積率。將改該面積率定義為體積分數。在圖像分析中，優選使用前述的圖像分析軟體(Image-ProPlus:Planetron公司)。單位面積優選為l1000^im2，進一步優選為5500pm2，更進一步優選為10250pm2。所說的在膜厚方向上的體積分數實質上沒有變化，意味著如下定義的體積分數梯度大約為1。將所述光學膜的從一個面至40%的範圍(X區域)中的所述金屬氧化物的體積分數設為W,而將從另一個面至40%的範圍(Y區域)中的所述金屬氧化物的體積分數設為V時，體積分數梯度用W/V(其中，W為V以上)來表示。本發明的光學膜的體積分數梯度優選為2以下，更優選為1.01.5。這是由於可以減小因溫度變化等而產生的膜的翹曲。(6)膜的表面平滑性特定光學物性膜的表面粗糙度以平均面粗糙度Ra來計，優選為100nm以下。這是因為如果膜的表面平滑性降低，則與其他的膜層疊時，有時會損傷其他的膜。例如，將特定光學物性膜用作為在LCD中使用的光擴散膜時，如果表面平滑性低，則有時會損傷稜鏡片。因而，通過使Ra在所述範圍，在將特定光學物性膜與其他的構件組合使用時，能夠在不損傷其他構件的情況下使用。(7)膜的厚度本發明的特定光學物性膜的厚度優選為550(Vm,更優選為8-300pim,進一步優選為1010(Him,特別優選為1030nm。這是因為在用於顯示裝置等時，可以實現裝置的薄型化。本發明的特定光學物性膜就光學特性、表面平滑性、厚度而言，優選厚度為30pm以下、霧度值為70%以上，更優選厚度為30pm以下、霧度值為70%以上、且Ra為100nm以下。1-2梯度結構膜作為本發明的另一個光學膜的梯度結構膜是金屬氧化物分散於透明樹脂中的光學膜，其具有的特徵為在該光學膜的厚度方向上，所述金屬氧化物的粒徑梯度性地變化，並且，該金屬氧化物的體積分數實質上沒有變化。該光學膜可以是光擴散膜。(1)各成分在梯度結構膜中使用的透明樹脂與金屬氧化物中，可以使用與特定光學物性膜同樣的物質。金屬氧化物的含量並無特別限制，但優選按照在特定光學物性膜中敘述的那樣來做。(2)金屬氧化物的粒徑梯度與體積分數梯度結構膜的特徵為在其厚度方向上，所述金屬氧化物的粒徑梯度性地變化。所說的該粒徑的梯度性變化，與在特定光學物性膜中敘述的"粒徑梯度"是相同的意思。該粒徑梯度的值也優選為如在特定光學物性膜中敘述的那樣。另外，關於體積分數，也優選為與特定光學物性膜相同。(3)光學特性梯度結構膜的光學特性只要是滿足作為光學膜的特性即可，並無限制。其中，優選霧度值為20°/。以上且小於100%，特別優選為70%以上。這是因為光擴散能力優異。(4)表面平滑性、膜厚梯度結構膜的表面平滑性與膜厚，優選按照在特定光學物性膜中敘述的那樣來做。特別是，梯度結構膜就光學特性、表面平滑性、膜厚而言，優選霧度值為70%以上、Ra為1OOnm以下、且厚度為30fim以下。2.關於光學膜的製造方法上述特定光學物性膜，如上所述通過包含(A)(D)的第一方法或包含(E)(G)的第二方法來製造。另外，梯度結構膜可以任意地製造，但優選通過前述方法來製造。以下，作為特定光學物性膜與梯度結構膜(有時合併它們來稱作"本發明的光學膜")的製造方法，說明第一與第二製造方法。本製造方法分成包含(A)(C)或(E)(F)的"調節膜用混合物的工序"、與包含(D)或(G)的"制膜工序，，兩個部分。因而，對每部分工序進行說明。1-1調節膜用混合物的工序在本發明中，所說的溶膠-凝膠反應是指，將金屬化合物的烷氧基等官能團通過酸或鹼催化劑進行水解而生成羥基的反應(以下，稱作"水解反應")，以及將生成的金屬氫氧化物的羥基進行脫水縮聚的反應(以下，稱作"縮聚反應")。(1)第一方法的A工序在本工序中使用的通過溶膠-凝膠反應生成金屬氧化物的金屬化合物是指，可發生溶膠-凝膠反應而變化為金屬氧化物的化合物。金屬化合物是在金屬原子上結合有官能團的結構。以下，有時將該金屬化合物簡稱為"金屬化合物"。通過金屬化合物的金屬原子，來確定最終得到的光學膜中的金屬氧化物。在本發明的光學膜中優選的金屬氧化物如前所述。因而，上述金屬化合物中，作為金屬原子，優選含有鋰、鈉、銅、鈣、鍶、鋇、鋅、硼、鋁、鎵、釔、矽、鍺、鉛、磷、銻、釩、鉭、鴒、鑭、釹、鈦或鋯。例如作為光擴散膜時，如前所述，金屬化合物優選含有矽、鋯、鈦、鋁作為金屬原子。在上述金屬結合有官能團的金屬化合物的例子中，包含金屬醇鹽、金屬乙醯丙酮化合物、金屬羧酸鹽等金屬有機化合物、或金屬硝酸鹽、金屬氯氧化物、金屬氯化物等金屬無機化合物(參照作花濟夫著的"溶膠-凝膠法的科學"，7夕、、才承風者，p17)。在本發明中，可以單獨使用它們，也可以組合2種以上來使用。另外，也可以使用將它們的一部分的官能團進行縮聚而得的縮聚物(也稱作"部分水解縮聚化合物")。金屬醇鹽的具體例子包含以下物質。四曱氧基矽烷(TMOS)、四乙氧基矽烷(TEOS)、四丙氧基矽烷、四異丙氧基矽烷、甲基三甲氧基矽烷、曱基三乙氧基矽烷、曱基三丙氧基矽烷、曱基三丁氧基矽垸、乙基三甲氧基矽烷、乙基三乙氧基矽烷、正丙基三甲氧基矽烷、正丙基三乙氧基矽烷、異丙基三甲氧基矽烷、異丙基三乙氧基矽烷、二甲基二曱氧基矽烷、二曱基二乙氧基矽烷、二苯基二曱氧基矽烷、二苯基二乙氧基矽烷、三氟甲基三曱氧基矽烷、三氟曱基三曱氧基矽烷、乙烯基三甲氧基矽烷、乙烯基三乙氧基矽烷、苯基三曱氧基矽烷、苯基三乙氧基矽烷、2-(3,4-環氧基環己基)乙基三曱氧基矽烷、3-環氧丙氧基丙基三曱氧基矽烷、3-環氧丙氧基丙基三乙氧基矽烷、3-環氧丙氧基丙基曱基二曱氧基矽烷、3-環氧丙氧基丙基曱基二乙氧基矽烷、對苯乙烯基三曱氧基矽烷、3-甲基丙烯醯氧基丙基甲基二甲氧基矽烷、3-曱基丙烯醯氧基丙基曱基二乙氧基矽烷、3-曱基丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷、3-曱基丙烯醯氧基丙基三乙氧基矽烷、3-丙烯醯氧基丙基三曱氧基矽烷、3-丙烯醯氧基丙基三乙氧基矽烷、3-氯丙基三乙氧基矽烷、3-巰基丙基曱基二曱氧基矽烷、3-巰基丙基三曱氧基矽烷、3-異氰酸酯基丙基三乙氧基矽烷、四曱氧基鈦、四乙氧基鈦、異丙氧基鈦、丁氧基鋁、四正丁氧基鋯、四異丙氧基鋯、異丙氧基鋇、乙氧基鈣等。金屬乙醯丙酮化合物的具體例子包含乙醯丙酮鋯、乙醯丙酮鈥、乙醯丙酮鋁、乙醯丙酮銦或乙醯丙酮鋅等。其中，優選乙醯丙酮鋯、乙醯丙酮鈦、乙醯丙酮鋁。金屬羧酸鹽的具體例子包含醋酸鉛、硬脂酸釔、草酸鋇。在上述化合物中，優選TMOS、TEOS、異丙氧基鈦、丁氧基鋁、四正丁氧基鋯、四異丙氧基鋯等烷氧基矽烷。這是因為反應容易控制。另外，最終得到的光學膜中的金屬氧化物的折射率，是通過並用具有不同金屬原子的金屬化合物來調節。這樣的組合的例子中包含烷氧基矽烷與四甲氧基鈦、四乙氧基鈦、異丙氧基鈦、丁氧基鋁、四正丁氧基鋯、四異丙氧基鋯、乙醯丙酮鋯、乙醯丙酮鈦或乙醯丙酮鋁等的組合。在本(A)工序中，使所述金屬化合物在溶劑中進行溶膠-凝膠反應。在溶膠-凝膠反應中，當金屬化合物具有烷氧基等官能團時，優選在水解該金屬化合物而將烷氧基製成羥基之後進行縮聚反應。因此，也可以根據需要添加水。該水也可以含有催化劑。上述反應例如可以通過預先將所述金屬化合物溶解於溶劑中，添加根據需要也可含有催化劑的水，在室溫下或加熱至規定溫度等來進行。此時，如前述那樣使用兩種以上的金屬化合物也可以。或者，也可以先分別使第一金屬化合物、第二金屬化合物進行溶膠-凝膠反應後，將它們混合。進而也可以使該混合物進行溶膠-凝膠反應。在本反應中使用的溶劑，只要能溶解所述金屬化合物即可，並無限制。但優選與在後述的(B)工序中使用的、以透明樹脂為溶質的溶液的調製中使用的溶劑是相溶的溶劑或相同的溶劑。該溶劑的例子包含水、N,N-二曱基乙醯胺、N，N-二曱基曱醯胺、N-曱基-2-吡咯烷酮、DMSO、環戊酮、環己酮、甲基乙基酮、丙酮、THF、二噁烷、曱醇、乙醇、丙醇、丁醇、環己醇、曱基溶纖劑、或乙基溶纖劑等。在(A)工序中使用的溶劑與所述金屬化合物的配合比並無特別限制，相對於10g的溶劑，優選0.1~100g的所述金屬氧化物。在(A)工序中使用的水的添加量相對於l摩爾所述金屬化合物，優選為40摩爾當量以下，更優選為IO摩爾當量以下，進一步優選為5摩爾當量以下。另夕卜，在本工序中使用的催化劑是出於促進所述水解或縮聚反應的目的而添加的。這樣的催化劑可以使用公知的催化劑(參照平島碩著，"最新、/^一y少法t上3機能性薄膜作製技術(利用最新溶膠-凝膠法來製作功能性薄膜的技術)"，株式會社総合技術七乂夕一(抹式會社綜合技術中心)，p29,或者作花濟夫著，"溶膠-凝膠法的科學"，7夕'、淨承風者，pl54等)。這些例子中包含酸催化劑、鹼催化劑。酸催化劑的例子中包含鹽酸、硝酸、硫酸、磷酸、醋酸、草酸、酒石酸、曱苯磺酸等無機與有機酸類。鹼催化劑的例子包含氫氧化銨、氫氧化鉀、氫氧化鈉等鹼金屬氬氧化物；四曱基氫氧化銨、四乙基氫氧化銨、四丁基氫氧化銨等季銨氳氧化物；氨、三乙胺、三丁胺、嗎啉、吡啶、哌咬、乙二胺、二亞乙基三胺、乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺等胺類；3-氨基丙基三乙氧基矽烷、N(2-氨基乙基)-3-氨基丙基三曱氧基矽烷等氨基矽烷類等。其他的例子包含有機錫化合物、四異丙氧基鈥、雙乙醯丙酮基鈦酸二異丙酯、四丁氧基鋯、四乙醯丙酮鋯、三異丙氧基鋁、三乙基丙酮酸鋁、三曱氧基硼烷等金屬醇鹽等。催化劑相對於1摩爾所述金屬化合物，優選為2摩爾當量以下的添加量，更優選為l摩爾當量以下。但是，當所述金屬化合物具有顯示所述催化作用的官能團(例如，氨基或羧基等)時，優選調節催化劑添加量。凝膠-溶膠反應，如前所述存在水解反應、縮聚反應這兩種反應，但各反應是同時並行地進行的。因而，不能與反應操作對應來區別兩個反應，但在反應初期階段主要發生前者的水解反應，在反應後期的階段主要發生後者的反應。另外，已知根據催化劑的種類兩個反應的進行過程會不同。通常，在使用酸催化劑時，水解反應容易進行，使用鹼催化劑時，縮聚反應容易進行。溶膠-凝膠反應可以通過實施加熱、微波照射、紅外線照射等來促進反應。因而，在本(A)工序中，可以通過水或催化劑的量、是否有上述加熱手段、反應時間等來控制溶膠-凝膠反應的進行程度。隨著溶膠-凝膠反應的進行，金屬氧化物的粒子增大。因而，最終得到的膜中的金屬氧化物的粒徑是由該溶膠-凝膠反應的進行程度來決定的。在本發明中，如後述那樣可以主要在制膜工序中控制金屬氧化物的粒徑。但是，優選先在作為其前面工序的本(A)工序中也調節好反應度。由於這樣的原因，本工序中的溶膠-凝膠反應優選在0150°C、進一步優選在1~100°C、更進一步優選在2060。C下進行，並且優選進行150小時左右，進一步優選進行130小時左右。在本發明中，"，，以包含其兩端數值的意思來使用。反應的進行可以通過混合物的粘度的上升或混濁等外觀變化來確認。(2)第一方法的B工序本發明的(B)工序是準備以透明樹脂為溶質的溶液(稱作"樹脂溶液")。所說的透明樹脂是當膜厚為30|im時，顯示70%以上的平行光線透過率的有機聚合物(聚合物)。在本發明中使用的透明樹脂優選為對水或可與水混合的溶劑具有溶解性的樹脂。這樣的透明樹脂的例子包含聚醯亞胺、聚碳酸酯、聚丙烯酸酯、聚曱基丙烯酸酯(PMMA)、聚醚酮、聚醚醚酮、聚苯乙烯、聚酯、環氧樹脂、聚醯胺、聚碸、聚芳醯胺、聚氨S旨、聚醋酸乙烯酯、聚乙烯醇(PVA)、聚丙烯酸。其中，優選為可溶於沸點和極性高的溶劑中的聚醯亞胺、聚碳酸酯、聚丙烯酸酯、PMMA、聚醚酮、聚醚醚酮、聚苯乙烯、聚酯等。這是因為，極性高的溶劑與水的親和性良好，因此如後述那樣，容易在樹脂溶液中進行溶膠-凝膠反應。另外，如果使用高沸點的溶劑，則如後述那樣，在(D)的制膜工序中，容易控制分散於透明樹脂中的金屬氧化物粒子的粒徑等。透明樹脂可以單獨使用，或者組合使用。另外，當使用聚乙烯醇、聚丙烯酸這種可溶於水的透明樹脂的場合或耐熱性低的樹脂的場合，為了提高得到的膜的耐水性或耐熱性，優選進行交聯後使用。使用聚乙烯醇時，如果與聚丙烯酸或聚醯胺基酸等具有官能團的樹脂進行組合，則會產生交聯反應，從而提高耐水性，因此特別優選。聚乙烯醇與聚丙烯酸的交聯反應通常通過熱處理來進行，為了降低處理溫度、縮短處理時間，也可以使用PCT/JP2006/310193中記載的酯化催化劑。在(B)工序中使用的溶劑，只要是能溶解透明樹脂的溶劑即可，並無限制。所說的溶劑是指可溶解溶質的液體物質，可以是有機溶劑，也可以是水。這樣的溶劑的例子包含在前述的(A)工序中敘述的溶劑。特別優選在(B)工序中使用的溶劑與在所述(A)工序中使用的溶劑是相同或可相溶的溶劑。本發明的準備以透明樹脂為溶質的溶液的工序，是通過將所述透明樹脂溶解於所述溶劑中來進行。溶解時根據需要，還可以進行加熱或照射超聲波。也可以購入市售的以透明樹脂為溶質的溶液來準備。該溶液的濃度優選為1~50質量％，進一步優選為5~30質量％。(3)第一方法的C工序本發明的(C)工序是將在上述(A)工序中得到的混合物與在(B)工序中得到的溶液進行混合。混合的方法並無特別限制，可以通過向在(B)工序中得到的溶液中注入在(A)工序中得到的混合物，用攪拌機等攪拌來進行。此時的混合比並無特別限制，優選調節至最終得到的光學膜中的金屬氧化物達到期望的量。也可以根據需要，在本(C)工序後且在(D)工序前，使在(C)工序得到的混合物中存在的金屬化合物進行溶膠-凝膠反應(以下，稱作"追加反應，，)。追加反應中可以進行加熱、微波照射、紅外線照射等。追加反應的條件優選與所述(A)工序的反應條件相同，更優選在2060。C下反應130小時左右。在所述追加反應中，也可以重新混合從溶劑、水、催化劑中選出的l種以上的物質，來進行該金屬化合物與從一開始就存在於由(C)工序得到的混合物中的金屬化合物的溶膠-凝膠反應。此時，如果重新添加與從一開始就存在於由(C)工序得到的混合物中的金屬化合物不同種類的金屬化合物，則可以將最終得到的光學膜中含有的金屬氧化物的折射率調節至期望的值，因此優選。另外，在追加反應中，如果重新添加鹼催化劑，則還可以促進金屬化合物的縮聚反應。(4)關於第二方法的(E)工序(E)工序優選與已經敘述的(B)工序同樣地進行。只是，在本(E)工序中使用的溶劑優選可以溶解下一工序(F)工序中使用的金屬化合物。(5)關於第二方法的(F)工序在本工序中，向在前(E)工序中得到的以透明樹脂為溶質的溶液(樹脂溶液)中，混合通過溶膠-凝膠反應生成金屬氧化物的金屬化合物，進行溶月交-凝膠反應。與前述(A)工序同樣，當金屬化合物具有烷氧基等官能團時，優選水解而製成羥基後進行縮聚反應。因此，根據需要添力。水也可以。進一步，水中含有催化劑也可以。上述反應是例如通過將所述金屬化合物溶解於在(E)工序得到的樹脂溶液中，根據需要添加可以含有催化劑的水，在室溫或加熱至規定溫度等來進行。此時，可以使用兩種以上的金屬化合物。本工序中的樹脂溶液與所述金屬化合物的混合比，是調節成使得如前述最終得到的光學膜中的金屬氧化物的含量達到期望的量。在本工序中混合的金屬化合物由於尚未進行溶膠-凝膠反應，因此容易溶解於溶劑中，可以直接混合於樹脂溶液中。但是，當金屬化合物難以溶解於樹脂溶液時，可以先溶解於溶劑後再進行混合。此時使用的溶劑優選與樹脂溶液相溶。本工序中的、優選的溶膠-凝膠反應的條件(反應體系的濃度、溫度、時間等)，會因使用的透明樹脂的種類和分子量而不同，因此不能一概而論。但是，當樹脂溶液的濃度高時，如果在高的反應溫度或者長時間進行反應，則金屬氧化物的分子量增大，存在高粘度化或凝膠化的可能性。這是因為，由於樹脂溶液的粘度增高，攪拌不充分，因此溶膠-凝膠反應容易進行得不均勻。當樹脂溶液中的透明樹脂的分子量大時，樹脂溶液的粘度也會上升，因此容易產生同樣的現象。因而，本反應優選使溶液中的固體成分濃度為150質量％，進一步優選為530質量％來進行。所述固體成分是指樹脂與金屬化合物.金屬氧化物。另外，反應溫度優選為0150°C,進一步優選為1~100°C,更進一步優選為2060"C。反應時間優選為150小時左右，進一步優選為130小時左右。進一步也可以與(C)工序同樣地，在(F)工序之後且在接下來的(G)工序之前，重新混合通過溶膠-凝膠反應生成金屬氧化物的金屬化合物、溶劑、可以含有催化劑的水，進行該金屬化合物與已經存在於在(G)工序得到的混合物中的金屬化合物的溶膠-凝膠反應。此時重新添加的溶劑優選為水、N，N-二甲基乙醯胺、N，N-二曱基曱醯胺、N-曱基-2-吡咯烷酮、DMSO、環戊酮、環己酮、曱基乙基酮、丙酮、THF、二噁烷、曱醇、乙醇、丙醇、丁醇、環己醇、曱基溶纖劑或乙基溶纖劑。所述溶劑可以與在(E)工序中使用的溶劑相同，也可以不同。(6)關於金屬氧化物的粒徑控制金屬氧化物的粒徑控制可以通過調節"制膜工序中的乾燥條件"、"透明樹脂與金屬氧化物之間的相互作用，，來進行。關於制膜工序中的調節在下節敘述，這裡對通過"透明樹脂與金屬氧化物之間的相互作用"的粒徑控制進行說明。如果增強透明樹脂與所述金屬氧化物的相互作用，則金屬氧化物不易從樹脂中分離，因此金屬氧化物的粒子也變小。相反，如果減小它們的相互作用，則金屬氧化物粒子增大。為了增強所述相互作用，增大膜中的金屬氧化物的粒徑，作為金屬化合物優選使用具有與透明樹脂容易產生相互作用的官能團的金屬醇鹽、金屬乙醯丙酮化合物、金屬羧酸鹽、硝酸鹽、氯氧化物、氯化物。與透明樹脂容易產生相互作用的官能團的例子包括氨基、環氧基、乙烯基、丙烯酸基、曱基丙烯酸基、異氰酸酯基、巰基等。具有與透明樹脂容易產生相互作用的官能團的金屬化合物的例子包含乙烯基三氯矽烷、乙烯基三曱氧基矽烷、乙烯基三乙氧基矽烷、3,4-環氧基環己基乙基三曱氧基矽烷、環氧丙氧基丙基三甲氧基矽烷、環氧丙氧基丙基三乙氧基矽烷、苯乙烯基三曱氧基矽烷、曱基丙烯醯氧基丙基曱基二曱氧基矽烷、曱基丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷、曱基丙烯醯氧基丙基曱基二乙氧基矽烷、曱基丙烯醯氧基丙基三乙氧基矽烷、丙烯醯氧基丙基三曱氧基矽烷、3-氨基丙基三曱氧基矽烷、3-氨基丙基三乙氧基矽烷、3-氨基丙基曱基二甲氧基矽烷、3-氨基丙基曱基二乙氧基矽烷、N-2-(氨基乙基)-3-氨基丙基甲基二甲氧基矽烷、N-2-(氨基乙基)-3-氨基丙基三曱氧基矽烷、2-氨基乙基氨基甲基三曱氧基矽烷、3-氨基丙基二曱基乙氧基矽烷、2-(2-氨基乙基硫乙基)三乙氧基矽烷、對氨基苯基三曱氧基矽烷、N-苯基-3-氨基丙基曱基二曱氧基矽烷、N-苯基-3-氨基丙基曱基二乙氧基矽烷、N-苯基-3-氨基丙基三甲氧基矽烷、N-苯基-3-氨基丙基三乙氧基矽烷、巰基丙基三甲氧基矽烷、巰基丙基曱基二曱氧基矽烷、異氰酸酯基丙基三乙氧基矽烷等。另外，為了提高金屬氧化物與透明樹脂的相互作用，可以向透明樹脂中導入可形成共價鍵、氫鍵、離子鍵等的官能團。可形成共價鍵的官能團的例子包含烷氧基曱矽烷基、矽烷醇基等。可形成氫鍵的官能團的例子包含羥基、羧基、氨基等。另外，可形成離子鍵的官能團的例子包含銨基等。可以減小金屬氧化物的粒徑的具體例子包含PMMA、PVA、聚醯胺基酸或聚醯亞胺等透明樹脂與具有氨基、環氧基的金屬化合物的組合。相反，為了減弱透明樹脂與金屬氧化物的相互作用，增大膜中的金屬氧化物的粒徑，最好選擇透明樹脂與金屬氧化物不易產生相互作用的組合。例如，優選將具有極性基團的透明樹脂、與作為金屬化合物的具有烷基和烷氧基的烷基金屬醇鹽進行組合。這是因為，由於烷基具有疏水性，因此具有烷基的金屬化合物與具有極性基團的透明樹脂難以親合，使得兩者之間的相互作用減小。此時，進一步優選以水作為樹脂溶液的溶劑，透明樹脂則為可溶於水的樹脂。例如，以金屬化合物為曱基三曱氧基矽烷、透明樹脂為聚乙烯醇(PVA)與聚丙烯酸(PAA)、所述溶劑為水的組合為例子進行說明。由曱基三甲氧基矽烷生成的金屬氧化物的末端具有曱基。該曱基與作為溶劑的水以及聚乙烯醇(PVA)和聚丙烯酸(PAA)的極性部分難以親合。因此，呈現出容易從透明樹脂以及溶劑中分離的傾向。但是另一方面，該曱基與聚乙烯醇(PVA)和聚丙烯酸(PAA)的非極性部分具有親和性。因而，不能完全從聚乙烯醇(PVA)和聚丙烯酸(PAA)中分離，可維持適度分離的狀態。因而，最終可以將聚乙烯醇(PVA)和聚丙烯酸(PAA)中的金屬氧化物的粒徑調節在某個程度的大小。但是，粒徑控制的機理並未限定於此。此時，所述烷基金屬醇鹽優選與其他的金屬化合物(四曱氧基矽烷等)共同使用。可是，本發明的光學膜中的金屬氧化物的粒徑相對於膜厚方向可以不均一。這是因為將本發明的光學膜用作光擴散膜時，可以降低擴散光的波長依賴性。金屬氧化物的粒徑的分布如下所述，可以通過制膜工序來控制。1-2制膜工序(D、G工序)本發明的(D)、(G)工序為，將在所述工序中得到的混合物(也包含進行了所述追加反應的物質)，在基板或容器上塗布或者展開後，進行加熱使溶劑蒸發來制膜。在本工序中，由於在蒸發溶劑時進行加熱，所以有時會進一步進行溶膠-凝力交反應。所說的展開是指，將所述混合物注入玻璃、金屬、塑料等容器中，通過旋轉容器等使混合物附著於容器的壁等，使混合物成型為膜狀的操作。將該成型為膜狀的含有溶劑的混合物稱作膜前體。所說的塗布是指，將所述混合物在基板等上塗布成大致一定的厚度來得到膜前體的操作。所說的基板是平的構件，基板的例子包含玻璃、石英、金屬、陶瓷、塑料、橡膠等的基板、滾筒、帶等玻璃板、高分子膜等。塗布可以採用公知的方法進行。塗布方法的例子包含流動塗布法、浸漬法、噴塗法等。此時，可以使用棒塗機、刮刀塗布機、刮板塗布機、模塗機、逗號式塗布機、輥式塗布機、凹版塗布機、幕塗機、噴塗機、旋塗機等公知的塗布機。此外，也可以將所述混合物塗布在透明膜的單面或雙面上，作為塗膜來得成的復層膜。作為復層膜來制膜時，可以任意設定將膜用混合液與其他種類的塗布液塗布於透明膜上的順序。在本工序中，使進行過塗布等的膜前體的溶劑蒸發(乾燥)的方法採用通常的加熱乾燥爐進行。此時，也可以進行減壓、送氣、紅外線照射、極超短波照射等處理。乾燥可以在空氣、惰性氣體(氮氣、氬氣)等氛圍下進行。(1)關於金屬氧化物粒子的控制如前所述，本發明的光學膜優選為，分散於膜中的金屬氧化物粒子具有"粒徑梯度"。這樣的具有粒徑梯度的膜，通過使本工序的乾燥條件最佳化來得到。這是因為，在乾燥膜前體時，竟爭性地產生由溶膠-凝膠反應的進行而引起的金屬氧化物的粒子成長、以及伴隨著膜前體中的溶劑的蒸發而帶來的流動性的降低。此時的最佳條件因透明樹脂的種類、金屬氧化物的濃度、溶劑的種類而異，因此，一般化困難。但是，1)通過選擇使膜前體中的溶劑的蒸發速度變慢的條件，以及2)通過適當選擇使膜前體中的金屬氧化物粒子成長至某程度的條件，可以得到適宜的粒徑梯度。首先，對1)減慢膜前體中的溶劑的蒸發速度的條件進行說明。這樣乾燥膜前體時，可以認為由於以下的理由而引起金屬氧化物粒子的粒徑梯度。以減慢溶劑的蒸發速度的狀態乾燥膜前體時，雖然膜整體的溶劑的蒸發速度慢，但是膜前體的空氣界面(膜的與空氣接觸的表面)附近的溶劑快速蒸發。所以，膜前體的空氣界面附近的流動性降低，因此難以產生金屬化合物之間的反應，該界面附近的金屬氧化物粒子的成長就停止。另一方面，由於膜內部的溶劑的蒸發比空氣界面慢，因此，不會失去流動性，所以金屬氧化物粒子就成長。因此，存在於膜的基板界面側的金屬氧化物的粒徑大，存在於空氣界面側的金屬氧化物的粒徑小。另外，如果提高塗布膜前體的基板的溶劑透過性，則還有可能增大膜內部的金屬氧化物粒子的粒徑，減小膜的兩面附近的金屬氧化物粒子的粒徑。膜前體中的溶劑的蒸發速度減慢的條件因透明樹脂的種類、或金屬氧化物的濃度、溶劑的種類而異。但是，優選的乾燥條件為在150。C下將膜前體乾燥1小時後的、殘存於膜前體中的溶劑的質量(以下，稱作"150。C.1小時後的殘存溶劑的質量")，相對於原先的溶劑的質量IOO質量份為50質量份以下。或者，優選的乾燥條件為1001>5小時後的殘存溶劑的質量或50°010小時後的殘存溶劑的質量，相對於原先的溶劑的質量IOO質量份為50質量份以下。一定溫度下的溶劑的蒸發速度，可以通過組合多種溶劑來調節沸點，或對氣氛減壓來進行調節。另外，可以釆用通風烘箱等使氣氛處於氣體氣流下。接著，對2)使膜前體中的金屬氧化物粒子成長至某程度的條件進行說明。本制膜工序的乾燥溫度越低，金屬氧化物粒子就越不成長，粒徑整體變小。這是由於金屬化合物的溶膠-凝膠反應的進行變慢。溶膠-凝膠反應的進行慢，使得在成長至大粒徑前溶膠-凝膠反應就不進行，因此大粒徑的金屬氧化物也就不存在。因而，當乾燥溫度低時，粒徑梯度也小。另一方面，當乾燥溫度高時，粒徑整體變大。這是由於溶膠-凝膠反應的進行加快。並且，如前所述，由於在膜前體的空氣界面附近的溶劑的蒸發變快，因此在空氣界面側的粒子難以成長，但由於基板界面側的粒子的成長快，其結果粒徑梯度增大。造成影響。存在越加快升溫速度粒徑就越大，而減慢升溫速度時粒徑減小的傾向。由於這種現象與溶劑的蒸發速度、溶膠-凝膠反應的反應速度、膜的流動性密切相關，因此，難以使溫度、升溫速度、乾燥時間的合適的組合一般化。但是，如果增高幹燥溫度或者使升溫速度過快，則膜會起泡。另外，如果降低乾燥溫度或者使升溫速度過慢，則金屬氧化物粒子不太成長。因而，為了使光學膜中的金屬氧化物粒子成長至某程度的大小，乾燥條件優選為在40~180°C下乾燥150小時。其中，乾燥溫度優選為60。C以上，進一步優選為IO(TC以上。另外，優選的升溫速度為0.125。C/分鐘，更優選為0.115。C/分鐘，進一步優選為0.510/分鐘。另外，金屬氧化物的粒徑也因溶劑的沸點而變化。乾燥溫度相同時，由於溶劑的沸點越高溶劑的蒸發速度就趁艮，因此如前所述，粒徑梯度增大。另夕卜，溶劑的蒸發速度相同時，由於溶劑的沸點越高則乾燥溫度就越高，因此，金屬氧化物的粒徑以及粒徑梯度增大。作為這樣的溶劑，優選N,N-二曱基乙醯胺、N,N-二曱基曱醯胺、N-甲基-2-吡咯烷酮、環戊酮等。上述條件優選根據想得到的光學膜的結構進行適當調整來確定，以下，例舉可整體地增大粒徑、並可增大在膜厚方向上的粒徑梯度的例子。透明樹脂使用PMMA、PVA等，溶劑使用NMP、DMAc的情況將膜前體以0.510。C/分鐘的速度從50。C升溫至120。C左右，根據需要在12(TC下乾燥數小時。透明樹脂使用聚醯胺基酸的情況將膜前體以0.510/分鐘的速度從50。C升溫至180。C左右。可以進一步在280380。C下熱處理來進行聚醯胺基酸的醯亞胺化反應。粒徑整體減小、且減小在膜厚方向的粒徑分布時，優選將與上述相同組成的膜前體在室溫下真空乾燥5小時左右後，用上述條件加熱進行乾燥。本(D)及(G)工序優選採用編程好規定的乾燥溫度、升溫速度的乾燥機來進行。或者，可以預先準備多個例如設定為60°C、卯。C、120。C等規定溫度的烘箱等乾燥機，將膜前體依次在各乾燥機中都放入5分鐘來進行乾燥。此時，需要以15分鐘進行升溫來產生6(TC的溫度差，因此升溫速度為4。C/分鐘。本發明的光學膜是將含有透明樹脂、溶劑及金屬化合物的均勻混合物製成膜前體，在該前體中使金屬氧化物粒子成長來得到的。因此，膜中的金屬氧化物粒子即使以具有粒徑梯度的形式分散，在膜厚方向上的金屬氧化物的體積分數實質上也沒有變化。即，在膜中，分布有粒徑小的金屬氧化物的範圍中，粒子的數量增多。另一方面，在膜中的分布有粒徑大的金屬氧化物的範圍中，粒子的數量減少。因此，本發明的光學膜具有如下的優點膜的厚度方向上的熱膨脹係數沒有差異，不會由於溫度變化等而產生翹曲。(2)關於表面平滑性的控制根據將金屬氧化物粒子單純地混合於透明樹脂來複合化的方法，如果金屬氧化物粒子的大小為lpm以上，則膜失去平滑性。這是因為在膜表面上金屬氧化物粒子突出。但是，本發明的製造方法是在所述(D)、(G)工序中，在膜前體內成長金屬氧化物粒子，因此金屬氧化物粒子不會從膜表面突出。因而，即使存在於膜中的金屬氧化物粒子的大小為lpm，也可以得到平滑的膜。同樣地，根據將金屬氧化物粒子單純地混合於透明樹脂來複合化的方法，如果增加金屬氧化物粒子的添加量，則在膜表面金屬氧化物粒子容易突出，因此膜失去平滑性。但是，本發明的製造方法根據前述理由即使增加金屬氧化物的添加量，由於在膜表面上該粒子不突出，因此也能得到平滑的膜。為了得到表面平滑性特別優異的膜，優選抑制在(D)、(G)工序之前實施的溶膠-凝膠反應的進行，在(D)、(G)工序中成長金屬氧化物粒子。為了放慢溶膠-凝膠反應的進行，例如只使用酸催化劑作為催化劑，或減少催化劑的使用量，或降低反應溫度，或使用反應性比較低的金屬化合物，或者添加醋酸、乙醯丙酮或乙醯乙酸乙酯等。但是，就本發明的製造方法而言，即使金屬氧化物粒子小於lpm,如果形成凝集塊則有時也會損害表面的平滑性。此時，優選如前所述提高透明樹脂與金屬氧化物的相互作用，改良金屬氧化物的分散性。膜的表面平滑性，可以通過對光學膜表面利用AFM掃描200pm見方的範圍，測定平均面粗糙度(Ra)來評價。所說的平均面粗糙度(Ra)是將由JISB0601定義的中心線平均粗糙度為了可以對測定面應用而擴張至三維的值，是"將從基準面至指定面的偏差的絕對值進行平均的值"。本發明中的光學膜的表面平滑性以Ra來計優選為300nm以下，更優選為100nm以下。這是因為如前所述，將本發明的光學膜與稜鏡片組合使用時，可以抑制對稜鏡片的損傷。(3)關於膜厚制膜工序中的膜厚的調節可以採用公知的方法。例如，通過適當調節棒塗機等用於塗布的工具的間隙，就可以得到期望膜厚的膜。(4)關於其他成分本發明的製造方法可以在各工序中添加與目的對應的添加劑。添加劑的例子中包含紫外線吸收劑、交聯劑、增粘劑、填充劑、增感劑、增塑劑、光聚合引發劑、單體、低聚物、穩定劑、溼潤劑、流動劑、顏料、染料、粘接促進劑、反應催化劑、脫水劑。3.本發明的光學膜的用途(1)特定光學物性膜本發明的特定光學物性膜的全光線透過率為70%以上且霧度值為20%以上。因此，具有的特徵為全光線透過率高，且透過光中不是平行透過光而是擴散透過光的比例高，即，光擴散性高(光擴散性優異)。特別是分散於本膜中的金屬氧化物的粒徑以具有粒徑梯度的狀態分散於膜中時，可以降低擴散光的波長依賴性。本特定光學物性膜可以是擴散透過光的類型(前方散射)，也可以是擴散反射光的類型(後方散射)。另外，本特定光學物性膜也可以是如下類型對透過光與反射光這兩者、或者在塗膜中或膜中傳播的光，產生擴散的類型。由於這樣的特性，本特定光學物性膜可以用作光學用途的光擴散性塗層、光擴散性膜。例如，可以用作塑料或玻璃等的透光性膜或薄板、鏡子、單向透視玻璃、或者公知的顯示元件的防止眩光或防止反射用的塗層或膜。進一步，本發明的特定光學物性膜適合於FPD等顯示裝置。具體來講，適合用作為使用LCD等顯示元件的投影式顯示裝置的屏幕，或者用於改善液在這些FPD領域中，尤其要求小型輕量化或全面降低成本，本發明的特定光學物性膜可以對應這些要求。例如，如果使用本發明的特定光學物性膜來代替用於LCD的多層結構的光擴散膜，則由於可以將多層膜換成單層膜，因此有助於顯示裝置的薄型化。在這樣的用途中，本特定光學物性膜優選霧度值為70%以上，Ra為100nm以下，並且膜厚為30pm以下。當然，本特定光學物性膜對於要求霧度值為70。/。以下的值的用途，也是適宜使用的。(2)梯度結構膜本發明的梯度結構膜為金屬氧化物分散於透明樹脂中的光學膜，其特徵在於，在該光學膜的厚度方向上，所述金屬氧化物的粒徑梯度性地變化，並且，該金屬氧化物的體積分數實質上沒有變化。因此，本發明的梯度結構膜的光擴散能力優異，並且可以降低擴散光的波長依賴性，因此也適宜用於在上述特定光學物性膜中敘述的用途。另夕卜，將本發明的梯度結構膜用於LED、無機EL或有機EL的光取出時，除了可擴散光之外，還可防止在折射率不同的透明材料的界面產生的全反射現象。此外，本梯度結構膜為，存在於基板界面側的金屬氧化物是亞微米微米級，存在於空氣界面側的金屬氧化物是納米級分散的結構，因此，還具有如下特徵基板界面側具有光散射效果，而空氣界面側幾乎不具有光散射效果。因此，作為具有以往所沒有的功能的光學膜是很有用的。這樣的光學膜具有透明樹脂與金屬氧化物的平均的折射率。實施例以下，通過實施例對本發明進行更詳細的說明，但本發明並不受限於此。以下表示實施例中的縮寫。DMAc:二甲基乙醯胺NMP:N-曱基-2-p比咯烷酮TMOS:四曱氧基矽烷APTMOS:氨基丙基三曱氧基矽烷GPTMOS:環氧丙氧基丙基三曱氧基矽烷MTMOS:三甲氧基曱基矽烷PMMA:聚曱基丙烯酸曱酯PVA:聚乙烯醇PAA:聚醯胺基酸HC1:鹽酸HN03:硝酸DCDA'.雙氰胺NUC矽酮L-7001:矽酮系流平劑TIPT:四異丙氧基鈦m-BP:4，4'-(3-氨基苯氧基)聯苯ODA:4,4，-氧代二苯胺(4，4，-二氨基二苯醚)PPD:對苯二胺BPDA:3，3，，4,4，-二苯基四羧酸二酐PMDA:均苯四曱酸酐實施例中的各種測定如以下所述進行。(光學測定)採用紫外/可見分光光度計(UV3100PC/(抹)日立製作所製造)，測定光學膜的平行透過率、全光線透過率以及反射率。測定條件如下。測定波長3001000nm,波長分解能lnm，測定衝莫式中速另外，採用波長550nm的平行透過率以及全光線透過率，通過下式計算霧度值。霧度值(％)={1-(平行光透過率/全光線透過率)}xl00(表面粗糙度的測定)採用桌上小型探針顯微鏡(Nanopics1000/(林)精工儀器製造)，測定光學膜的中心線平均表面粗糙度Ra。具體來講，掃描範圍為200)im見方，測定5次中心線表面粗糙度，由其平均值求得。(劃傷試驗)將3cm見方的稜鏡片(五洋紙工(抹)社製造，PC，50(im間距，高度21pm，頂角IOO度，片厚240pm)靜置於託盤天平之上，使得稜鏡面朝上側。在其上放置同樣大小的光學膜，使得制膜時成為空氣界面的面處於下側。進一步在該膜上放置lcm見方的板，從其上方一邊施加10g、20g、50g的負荷，一邊使該板在光學膜上做2cm的往復運動。接著，取出稜鏡片，通過目測評價薄片的損傷程度。完全沒有損傷的評價為o，不能用目測確認但可用光學顯微鏡確認有損傷的評價為△，可用目測確認有損傷的評價為x。(金屬氧化物含量的測定熱重量測定)採用熱重量測定裝置(TGA-50,島津製作所(抹)製造)，在30~800°C下加熱光學膜。接著，從800。C下的燒成後殘留的灰分量來算出金屬氧化物含量。(TEM觀察)用環氧樹脂包埋光學膜後，用玻璃刀進行整理，然後用鑽石刀製作超薄切片。對製作的超薄切片實施碳增強，採用透射電子顯微鏡(TEM)(H-7000，日立製作所製造)，在加速電壓75kV下觀察。(由圖像分析得到的粒徑、體積分數測定)由通過TEM觀察得到的圖像，採用圖像分析軟體(Image-ProPlus:Planetron^^司)求出金屬氧化物粒子的面積。然後，由該粒子的面積通過計算求出以粒子為圓時的直徑(圓等效直徑)，算出粒徑。此時，算出在膜的厚度方向上的每5(im的範圍的每單位面積(25pm2)的平均粒徑，算出從膜的基板界面至膜厚40%的範圍(X區域)中存在的金屬氧化物粒子的平均粒徑X。同樣地，算出從另一面至相同範圍(Y區域)中存在的金屬氧化物粒子的平均粒徑Y。利用這樣得到的X、Y,將X/Y作為粒徑梯度。另外，計算出X區域中的每單位面積(25(im2)的粒子的面積率W，計算出Y區域中的相同每單位面積的粒子的面積率V。利用該值，將W/V作為體積分數。(線膨脹係數的測定)採用熱機械分析計(TMA-50，島津製作所製造)，在膜的長度方向的兩端施加一定的負荷，測定變化溫度時的伸長(收縮)。由測定值求出380430°C的範圍的平均線膨脹係數(CTE)。(粘彈性測定450'C下的儲能模量的測定)使用Rheometrics公司製造的RSA-II，測定膜的拉伸變形模式的溫度分散，求出450。C下的儲能模量E，。測定條件為溫度範圍30~500°C、升溫速度3°C/min、Auto-Strain控制下、形變0.02。/。、頻率lHz。另外，試樣的尺寸為長度20mm、寬5mm。(實施例1)(E)工序混合作為透明樹脂的PMMA(1.0g)與作為溶劑的NMP(4.0g)，製備出20重量。/。的PMMA/NMP溶液5g。(F)工序將由(E)工序得到的20重量％的PMMA/NMP溶液5g放入20ml的反應容器中。接著，添加通過溶"交-凝膠反應生成金屬氧化物的金屬化合物即TMOS(1.0857g)、O.lNHCl水溶液(0.5136g)，在室溫下反應5小時，以使得到的膜中的金屬氧化物的含有率為30重量％。0.1NHC1水溶液是用NMP稀釋至50重量％後加入的。(G)工序利用貝克塗布機(Bakerapplicator)將得到的溶液塗布於玻璃基板上，使得乾燥膜厚大約為35pm。接著，採用惰性烘箱(inertoven)，在氮氛圍下以3。C/分鐘的升溫速度從50。C升溫至120°C,在120。C下千燥2小時。通過這樣操作來將PMMA/二氧化矽(矽氧化物)複合膜製作於玻璃基糹反上。然後，從玻璃基板上剝離上述膜，得到膜厚35pm的PMMA/二氧化矽複合膜。得到的膜的光學特性為全光線透過率91.0%、全光線反射率7.3%、霧度35%。(實施例2)使用TMOS(0.6333g)、O.lNHCl水溶液(0.2996g),以使光學膜中的金屬氧化物含有率為20重量％，除此之外，與實施例1同樣操作來製作膜厚35fim的PMMA/二氧化矽複合膜。得到的膜的光學特性為全光線透過率92.0%、全光線反射率75%、霧度24%。(實施例3)(E)工序混合PMMA(l.Og)與DMAc(4.0g),製備5g的20重量％的PMMA/DMAc溶液。(F)工序將由(E)工序得到的5g的20重量。/。的PMMA/DMAc溶液放入20ml的反應容器。加入TMOS(1.0748g)、O.INHN03水溶液(0.5123g)在室溫下反應2小時，以使得到的膜中的金屬氧化物的含有率為30重量％。O.INHN03水溶液是用DMAc稀釋至50重量°/。後添加的。接著，向所述溶液中加入APTMOS(0.0128g),在室溫下反應2小時。此時，APTMOS是用DMAc稀釋至10重量％後再添加。(G)工序採用貝克塗布機將由上述工序得到的溶液塗布在玻璃基板上，使得乾燥膜厚大致為15pm。接著，採用惰性烘箱，在氮氛圍下以3。C/分鐘的升溫速度從50。C升溫至12CTC，在120。C下乾燥2小時，將PMMA/二氧化矽複合膜製作在玻璃基板上。然後，從玻璃基板上剝離PMMA/二氧化矽複合膜，得到膜厚15(im的PMMA/二氧化矽複合膜。得到的膜的光學特性為全光線透過率85.0%、全光線反射率15.0%、霧度95.1%。(實施例4~7)用表1所示的條件，與實施例3同樣操作來製作PMMA/二氧化矽複合膜。具體來講，按照表1所示的組成使用透明樹脂、溶劑、通過溶膠-凝膠反應生成金屬氧化物的金屬化合物等，並將得到的膜中的金屬氧化物的含有率調整至10、15、20、25重量％來製作膜。得到的膜的膜厚、光學特性示於表l中。(實施例8)(A)工序將TMOS(0.3800g)、DMAc(0.3749g)放入10ml的反應容器，加入l.ONHC1水溶液(0.1798g),在室溫下反應3小時。另行將TIPT(0.3559g)放入10ml的反應容器中，加入醋酸(0.3153g)，在室溫下反應1小時。接著，混合該兩個溶液，在室溫下反應l小時。(B)工序混合PMMA(l.Og)與DMAc(3.0g)，製備4g的25重量％的PMMA/DMAc溶液。(C)工序將由(A)工序得到的溶液與由(B)工序得到的溶液進行混合，在室溫下反應1小時。接著，向該反應混合物中加入NUC矽酮L-7001(0.0250g)，在室溫下攪拌10分鐘。NUC矽酮L-7001是用DMAc稀釋至10重量％後再添加。(D)工序採用貝克塗布機將由上述工序得到的溶液塗布在玻璃基板上，使得乾燥膜厚大致為20pm。接著，對於該玻璃基板，釆用惰性烘箱，在氮氛圍下以3。C/分鐘的升溫速度從50。C升溫至120°C,在120。C下乾燥2小時。這樣，將金屬氧化物含有率20重量％、二氧化矽/二氧化鈦=60重量％/40重量％的PMMA/二氧化矽/二氧化鈦複合膜製作在玻璃基板上。然後，將PMMA/二氧化矽/二氧化鈦複合膜從玻璃基板上剝離，得到膜厚20pm的PMMA/二氧化矽/二氧化鈦複合膜。得到的膜的光學特性為全光線透過率91.0%、全光線反射率9.5。/。、霧度92.4%。(實施例9、10)用表1所示的條件，與實施例8同樣操作來製作PMMA/二氧化矽複合膜。具體來講，按照表1所示的組成使用透明樹脂、溶劑、通過溶膠-凝膠反應生成金屬氧化物的金屬化合物等，並將得到的膜中的金屬氧化物的含有率調整至15、10重量％來得到膜。得到的膜的膜厚、光學特性示於表l中。(實施例ll)(A)工序將MTMOS(1.17g)放入1Oml的反應容器，加入0.06N麗03水溶液(0.46g),在室溫下反應1小時30分鐘。(B)工序將PVA(0.3g)、PAA(0.71g)放入10ml的反應容器，加入純水(1.9g)、DCDA(0.172g),在室溫下攪拌15分鐘。(C)工序將在(A)工序得到的溶液與在(B)工序得到的溶液進行混合，在室溫下反應1小時。(D)工序用孔徑liim的圓盤過濾機過濾所得的溶液，採用貝克塗布機將濾液塗布在膜厚llOpm的PET膜上，使得乾燥膜厚大致為24|im。接著，將該PET膜在室溫下乾燥IO分鐘，採用鼓風烘箱在40。C下乾燥IO分鐘，在120"C下乾燥1小時。這樣，將金屬氧化物含有率33重量％的PVA/PAA/二氧化矽複合膜製作在PET膜上。得到的膜的光學特性如表2所示，全光線透過率88.5%、全光線反射率10.6%、霧度91.7%。Ra為88nm。(實施例12~15)用表2所示的條件，與實施例11同樣操作來製作PVA/PAA/二氧化矽複合膜。具體來講，按照表2所示的組成使用透明樹脂、溶劑、通過溶膠-凝膠反應生成金屬氧化物的金屬化合物等，並將得到的膜中的金屬氧化物的含有率調整至IO、15、20、25重量％來製作膜。得到的膜的膜厚、光學特性、Ra以及劃傷試驗的結果示於表2中。(比較例1)混合PMMA(l.Og)與DMAc(4.0g),製備5g的20重量％的PMMA/DMAc溶液。將得到的5g的20重量％的PMMA/DMAc溶液放入20ml的反應容器，加入Si02粒子(0.4285g,宇部日東化成社製造，商品名HipresicaTS,平均粒徑5.0^im),以使得到的膜中的金屬氧化物的含有率為30重量％。將該溶液在室溫下攪拌1小時後，用超聲波處理1小時。採用貝克塗布機將得到的溶液塗布在玻璃基板上，使得乾燥膜厚大致為14pm。接著，對於該玻璃基板，採用惰性烘箱，在氮氛圍下以3。C/分鐘的升溫速度從50。C升溫至120°C，在120。C下乾燥2小時。這樣，將PMMA/Si02粒子複合膜製作在玻璃基板上。然後，從玻璃基板上剝離PMMA/Si02粒子複合膜，得到膜厚14(im的PMMA/Si02粒子複合膜。得到的膜的光學特性為全光線透過率89.9%、全光線反射率7.1%、霧度52.6%。Ra為498nm。進行劃傷試驗的結果，在負荷10g的條件下，稜鏡片上產生了可用目測確認的損傷。(比較例2)將PVA(0.3g)、PAA(0.71g)放入10ml的反應容器，加入純水(1.9g)、DCDA(0.172g)，在室溫下攪拌15分鐘。進一步加入Si02粒子(0.4975g,宇部日東化成社製造，商品名HipresicaTS，平均粒徑5.0(im)，以使得到的膜中的金屬氧化物的含有率為33重量％。將該混合物在室溫下攪拌1小時，然後用超聲波處理1小時。採用貝克塗布機將得到的混合物塗布在膜厚llO(im的PET膜上，使得乾燥膜厚大致為16pm。將該PET膜在室溫下乾燥IO分鐘，採用鼓風烘箱在40。C下乾燥10分鐘，在12(TC下乾燥1小時，將金屬氧化物含有率33重量％的PVA/PAA/Si02粒子複合膜製作在PET膜上。對得到的膜進行光學測定的結果，全光線透過率86.2%、全光線反射率11.8%、霧度88.0%。測定表面粗糙度Ra的結果為720nm。進行劃傷試驗的結果，在負荷10g的條件下，稜鏡片上產生了可用目測確認的損傷。由實施例115與比較例12可知，用本發明的製造方法得到的光學膜，與將二氧化矽粒子單純地混合於透明樹脂而得的膜相比，膜厚薄，光學特性、表面平滑性優異。進一步可知，與稜鏡片組合使用時，基本不損傷該片。表1tableseeoriginaldocumentpage37表2tableseeoriginaldocumentpage38(合成例1)向具備攪拌機與氮氣導入管的容器中，放入作為溶劑的DMAc261.0g，進一步加入ODA20.44g、m-BP16.12g,在2030。C下攪拌來溶解。然後，向同一容器中加入PMDA30.84g,用ll.Og的DMAc洗落附著於燒瓶內部的原料。接著，將反應體系加熱至5060°C,進行大約l小時的攪拌。接著，向該反應混合物中加入PMDA0.44g，一邊將溫度保持於60。C，一邊進行大約4小時的攪拌，得到清漆l。接著，向另一個具備攪拌機與氮氣導入管的容器中，放入作為溶劑的NMP263.0g,進一步加入PPD19.62g,在2030。C下攪拌來溶解。然後，加入BPDA37.0g、PMDA11.06g,用10.0g的NMP洗落附著於燒瓶內部的原料。接著，將反應體系加熱至5060。C，進行大約4小時攪拌，得到清漆2。然後，向另一個具備攪拌機與氮氣導入管的容器中，以77:23的重量比放入所述清漆1與2,加熱至50~60°C，進行大約4小時攪拌，得到聚醯胺基酸溶液。該聚醯胺基酸溶液中，聚醯胺基酸的含有率為20重量％，25。C下的E型粘度為30000mPa.s。由該聚醯胺基酸通過常用方法得到聚醯亞胺膜的線膨脹係數為10ppmTC。(實施例16)將由合成例1得到的聚醯胺基酸/NMP-DMAc溶液(聚醯胺基酸15重量%)18g,放入100ml的反應容器中，加入TMOS(1.378g)、水(0.652g)，在60。C下反應6小時。TMOS、水是用NMP稀釋至50重量。/o後再添加。採用貝克塗布機將這樣得到的溶液塗布在銅箔上，使得乾燥膜厚大致為16pm。接著，對於該銅箔，採用惰性烘箱，在氮氛圍下以3。C/分鐘的升溫速度從50。C加熱至180。C來乾燥。接著，採用IR回流爐進行280。C至380。C的熱處理，將聚醯亞胺/二氧化矽複合膜製作在銅箔上。對於所述銅箔，從噴塗式噴嘴噴出氯化鐵溶液(40波美度)處理數分鐘左右，除去銅箔而得到聚醯亞胺/二氧化矽複合膜。接著，水洗該膜，在6(TC下真空乾燥，得到膜厚16pm的聚醯亞胺/二氧化矽複合膜。得到的膜的TEM圖像示於圖1中，由TEM圖像進行圖像分析而求得的粒徑、體積分數示於表4中。由圖l觀察到的樣子為銅箔側的二氧化矽成長為粒子狀，空氣界面側的二氧化矽呈納米分散。另外，所得膜通過TGA測定而得的二氧化矽含量示於表3中，CTE(線膨脹係數)、450。C下的彈性模量示於表4中。(實施例17)將在合成例1中製造的聚醯胺基酸/NMP-DMAc溶液(聚醯胺基酸15重量％)18g放入100ml的反應容器，加入TMOS(1.378g)、水(0.652g)，在60。C下反應1小時。接著，向該溶液中加入含有氨基的烷氧基矽烷即APTMOS(0.0016g),在60。C下反應5小時，得到分散有二氧化矽的聚醯胺基酸組合物的溶液。TMOS、APTMOS、水是用NMP稀釋至50重量％後再添加。由這樣得到的溶液，與實施例16同樣操作來製作膜厚16(im的聚醯亞胺/二氧化矽複合膜。所得膜由TEM圖像求得的二氧化矽的粒徑、體積分數示於表4中。另夕卜，所得膜由TGA測定求得的二氧化矽含量示於表3中，450。C下的彈性模量示於表4中。(實施例18、19)用表3所示的條件與實施例17同樣地操作，得到分散有二氧化矽的聚醯胺基酸組合物的溶液。接著，由該溶液，與實施例16同樣地操作，製作膜厚16nm的聚醯亞胺/二氧化矽複合膜。得到的膜的二氧化矽的粒徑、體積分數示於表4中。另外，得到的膜的由TGA測定求得的二氧化矽含量示於表3中。(實施例20)採用貝克塗布機，將與實施例16同樣操作而得到的溶液塗布在銅箔上，使得乾燥膜厚大致為16|im。接著，採用真空乾燥機在室溫下乾燥該銅箔5小時，進一步採用惰性烘箱，在氮氛圍下以3。C/分鐘的升溫速度從5(TC加熱至180。C來進行乾燥。接著，採用IR回流爐，對該銅箔進行280。C至38(TC的熱處理，將聚醯亞胺/二氧化矽複合膜製作在銅箔上。用噴塗式噴嘴向銅箔噴吹氯化鐵溶液(40波美度)，進行數分鐘左右的處理直至銅箔完全消失。將得到的膜水洗後，在60。C下真空乾燥，得到膜厚16|im的聚醯亞胺/二氧化矽複合膜。得到的膜的二氧化矽的粒徑示於表4中。另夕卜，膜的由TGA測定求得的二氧化矽含量示於表3中。(實施例21)將在合成例1中製造的聚醯胺基^/NMP-DMAc溶液(聚醯胺基酸15重量％)18g放入100ml的反應容器，加入TMOS(1.282g)、水(0.650g)，在60。C下反應1小時。接著，加入含有環氧基的烷氧基矽烷即GPTMOS(0.1873g)，在6(TC下反應5小時，得到二氧化矽分散聚醯胺基酸組合物的溶液。TMOS、GPTMOS、水是用NMP稀釋至50重量％後再添加。使用這樣得到的溶液，與實施例16同樣操作來製作膜厚16|im的聚醯亞胺/二氧化矽複合膜。得到的膜的二氧化矽的粒徑示於表3中，由TGA測定求得的二氧化矽含量示於表4中。(比較例3)由合成例1的聚醯胺基酸/NMP-DMAc溶液(聚醯胺基酸12.5重量％),與實施例16同樣操作來製作膜厚16(im的聚醯亞胺膜。得到的膜的由TGA測定求得的二氧化矽含量示於表3中，CTE(線膨脹係數)、450'C下的彈性模量示於表4中。(比較例4)將膠體二氧化矽/DMAc溶液(二氧化矽20重量％)2.690g,加入到合成例1的聚醯胺基酸/NMP-DMAc溶液(聚醯胺基酸15重量％)18g中，在60°C下攪拌5小時，得到聚醯胺基酸組合物的溶液。由得到的聚醯胺基酸溶液，與實施例16同樣操作來製作聚醯亞胺/二氧化矽複合膜。得到的膜的二氧化矽的粒徑示於表4中。另外，得到的膜的由TGA測定求得的二氧化矽含量示於表3中，450。C下的彈性模量示於表4中。由實施例16~21與比較例34可以確認，本發明的光學膜為，二氧化矽粒子在膜厚度方向上以具有粒徑梯度的狀態分散於透明樹脂中，並且，膜厚方向的體積分數為2以下。另外，由彈性模量與CTE的值可知，本發明的光學膜在高溫區域中的尺寸穩定性以及機械特性優異。(實施例22折射率調製效果的確認試驗)對實施例16的聚醯亞胺/二氧化矽複合體的空氣界面附近的、二氧化矽粒子納米分散於聚醯亞胺膜中的部位的反射率進行測定。首先，將在合成例1中製造的聚醯胺基酸/NMP-DMAc溶液(聚醯胺基酸15重量％)18g放入100ml的反應容器，加入TMOS(1.838g)、水(0.652g),在60。C下反應1小時。接著，加入含有氨基的烷氧基矽烷即APTMOS(0.1505g),在60。C下反應5小時，得到二氧化矽分散聚醯胺基酸組合物的溶液。TMOS、APTMOS、水是用NMP稀釋至50重量％後再添加。由得到的溶液，與實施例16同樣操作來製作膜厚16pm的聚醯亞胺/二氧化矽複合膜。對得到的膜進行TEM觀察，確認該膜的空氣界面附近的結構與實施例16的膜相同。測定該膜的波長550nm處的反射率的結果為，反射率是10.58%,由反射率求出的折射率是1.61。另外，由合成例1的聚醯胺基酸/NMP溶液(聚醯胺基酸12.5重量％),與實施例16同樣操作來製作聚醯亞胺膜。製作的膜的反射率為11.17，由反射率求出的折射率為1.63。即可以知道，通過將折射率1.46的二氧化矽加入聚醯亞胺，可以看到折射率降低，在實施例16的二氧化矽粒子的納米分散側，可調製折射率。(實施例23)將氟改性聚醯胺基酸/DMAc溶液(日立化成工業抹式會社製造的光學用聚醯亞胺"OPI"、聚醯胺基酸25重量％)6g,放入20ml的反應容器，加入TMOS(0.911g)、水(0.432g)，在室溫下反應5小時。水是用DMAc稀釋至50重量°/。後再添加。採用貝克塗布機將得到的聚醯胺基酸溶液塗布在玻璃基板上，使得乾燥膜厚大致為5(Hrni。接著，對於該玻璃基板，採用惰性烘箱，在氮氛圍下以3。C/分鐘的升溫速度從50。C升溫至330。C來乾燥的同時進行醯亞胺化反應，製作聚醯亞胺/二氧化矽複合膜。該膜可以從玻璃基板上容易地剝離。對得到的膜進行TEM觀察，確認出含有粒徑在膜截面方向梯度性地變化的粒子。另外，由圖像分析得到的二氧化矽的粒徑示於表5中。該膜的波長550nm處的霧度為96%。用聚烯烴系粘著板(TPXR/三井化學抹式會社製造)，將得到的膜貼附於有機電致發光面發光體(IMES公司製造)的透明基板的形成陽極的相反側的表面上作為光擴散部。接著，將該面發光體連接於電源(PA36/建伍抹式會社製造)，施加0.27A/32V時，測定3000cd/mS的正面輝度以及偏45度輝度。測定採用輝度計(BP6/拓普康株式會社製造)。該裝置的輝度，可以確認出與未設有光擴散部時相比，正面輝度提高1.2倍，偏45度輝度提高1.3倍。表3tableseeoriginaldocumentpage43tableseeoriginaldocumentpage44表5tableseeoriginaldocumentpage45產業上的可應用性本發明的光學膜，由於光擴散性優異、是薄膜、且表面平滑性優異，因此適用於光擴散膜等的領域。本申請基於2006年3月20日申請的申請號JP2006-076767以及2006年12月12日申請的申請號JP2006-334374主張優先權。該申請說明書中記載的內容全部被本申請說明書引用。權利要求1.一種光學膜的製造方法，其特徵在於，包括(A)將通過溶膠-凝膠反應生成金屬氧化物的金屬化合物，在溶劑中進行溶膠-凝膠反應的工序；(B)準備以透明樹脂為溶質的溶液的工序；(C)將在所述(A)工序中得到的混合物與在(B)工序中得到的溶液進行混合的工序；以及(D)將在所述(C)工序中得到的混合物在基板或容器上塗布或者展開後，進行加熱使溶劑蒸發來形成膜的工序，該光學膜的全光線透過率為70％以上，且霧度值為20％以上。2.根據權利要求1所述的光學膜的製造方法，其特徵在於，在所述(D)工序之前，進一步包含使在(C)工序中得到的混合物中存在的所述金屬氧化物進行溶膠-凝膠反應的工序。3.—種光學膜的製造方法，其特徵在於，包括(E)準備以透明樹脂為溶質的溶液的工序；(F)向在所述(E)工序中得到的溶液中混合通過溶膠-凝膠反應生成金屬氧化物的金屬化合物，並進行溶膠-凝膠反應的工序；以及(G)將在所述(F)工序中得到的混合物在基板或容器上塗布或者展開後，進行加熱使溶劑蒸發來形成膜的工序，該光學膜的全光線透過率為70%以上，且霧度值為20%以上。4.根據權利要求3所述的光學膜的製造方法，其特徵在於，在所述(G)工序之前，進一步包含向在(F)工序中得到的混合物中，混合通過溶膠-凝膠反應生成金屬氧化物的金屬化合物、溶劑、水或催化劑，並進行溶膠-凝膠反應的工序。5.根據權利要求1或3所述的光學膜的製造方法，其特徵在於，所述(D)或(G)的制膜工序包含使由所述溶膠-凝膠反應生成的金屬氧化物的粒子成長的工序。6.根據權利要求5所述的光學膜的製造方法，其特徵在於，所述使金屬氧化物的粒子成長的工序是使所述粒徑相對於所述光學膜的厚度方向梯度性地變化來成長的工序。7.根據權利要求1或3所述的光學膜的製造方法，其特徵在於，所述透明樹脂是聚醯亞胺、聚碳酸酯、聚丙烯酸酯、聚曱基丙烯酸酯、聚醚酮、聚醚醚酮、聚苯乙烯、聚酯、環氧樹脂、聚醯胺、聚碸、聚芳醯胺、聚氨酯、聚醋酸乙烯酯、聚乙烯醇或聚丙烯酸。8.根據權利要求1或3所述的光學膜的製造方法，其特徵在於，所述通過溶膠-凝膠反應生成金屬氧化物的金屬化合物包含矽、鈦、鋯或鋁元素。9.根據權利要求1或3所述的光學膜的製造方法，其特徵在於，所述通過溶膠-凝膠反應生成金屬氧化物的金屬化合物是金屬醇鹽、金屬乙醯丙酮化合物、金屬羧酸鹽或者它們的縮聚物。10.根據權利要1或3所述的光學膜的製造方法，其特徵在於，在所述溶膠-凝膠反應中，作為催化劑，使用無機酸、有機酸、無機鹼或有機鹼。11.根據權利要求1或3所述的光學膜的製造方法，其特徵在於，所述(D)工序或(G)工序是在40180。C下加熱150小時來蒸發溶劑的工序。12.根據權利要求1或4所述的光學膜的製造方法，其特徵在於，在所述(A)工序中使用的溶劑、或混合到在所述(F)工序中得到的混合物中的溶劑是水、N,N-二曱基乙醯胺、N，N-二曱基曱醯胺、N-曱基-2-吡咯烷酮、DMSO、環戊酮、環己酮、曱基乙基酮、丙酮、THF、二噁烷、曱醇、乙醇、丙醇、丁醇、環己醇、曱基溶纖劑或乙基溶纖劑。13.根據權利要求1或3所述的光學膜的製造方法，其特徵在於，所述通過溶膠-凝膠反應生成金屬氧化物的金屬化合物包含在分子內具有烷基以及烷氧基的烷基金屬醇鹽，並且，所述以透明樹脂為溶質的溶液的溶劑包含水。14.根據權利要求1或3所述的光學膜的製造方法，其特徵在於，所述光學膜是光擴散膜。15.—種通過權利要求1或3所述的方法製造出的光學膜，其特徵在於，厚度為30pm以下，並且霧度值為70%以上。16.根據權利要求15所述的光學膜，其特徵在於，單面或雙面的平均面粗糙度(Ra)為100nm以下。17.—種光學膜，其為金屬氧化物分散於透明樹脂中的光學膜，其特徵在於，在該光學膜的厚度方向上，所述金屬氧化物的粒徑梯度性地變化，並且該金屬氧化物的體積分數實質上沒有變化。18.根據權利要求17所述的光學膜，其特徵在於，當所述光學膜的存在於從一個面至厚度40%的範圍的所述金屬氧化物的每單位面積的平均粒徑為X，從另一個面至厚度40%的範圍的所述金屬氧化物的每單位面積的平均粒徑為Y，且X比Y大時，用X/Y定義的粒徑梯度為1.2以上。19.根據權利要求17所述的光學膜，其特徵在於，當所述光學膜的存在於從一個面至厚度40%的範圍的所述金屬氧化物的體積分數為W，從另一個面至厚度40%以內的範圍的所述金屬氧化物的體積分數為V，且W為V以上時，用W/V定義的體積分數梯度為2以下。20.根據權利要求17所述的光學膜，其特徵在於，所述光學膜為光擴散膜。全文摘要本發明提供一種光學膜的製造方法以及光學膜，該光學膜為薄膜，並且具有高的光線透過率與光擴散性，該光學膜包含透明樹脂與金屬氧化物。具體來講，本發明涉及的光學膜的製造方法包括(A)將通過溶膠-凝膠反應生成金屬氧化物的金屬化合物，在溶劑中進行溶膠-凝膠反應的工序；(B)準備以透明樹脂為溶質的溶液的工序；(C)將在所述(A)工序中得到的混合物與在(B)工序中得到的溶液進行混合的工序；以及(D)將在所述(C)工序中得到的混合物在基板或容器上塗布或者展開後，進行加熱使溶劑蒸發來形成膜的工序，該光學膜的全光線透過率為70％以上，且霧度值為20％以上。文檔編號B29C41/12GK101400492SQ20078000898公開日2009年4月1日申請日期2007年3月19日優先權日2006年3月20日發明者宮下武博,福田和幸,西浦克典,西野文晃,高木鬥志彥申請人:三井化學株式會社