一種用於TFT‑LCD玻璃基板的高效拋光液的製作方法
2023-05-08 00:54:56
本發明涉及tft-lcd技術領域，具體涉及一種用於tft-lcd玻璃基板的高效拋光液。
背景技術：
平板液晶顯示技術是21世紀發展最迅猛的高新技術領域之一。玻璃基板只佔tft-lcd原材料成本比重的6％左右，但卻是最重要的元件，對顯示器的性能影響十分巨大，顯示器的解析度、透光率、重量及視角等關鍵指標都與玻璃基板密切相關。在使用tft-lcd平面顯示技術的消費性it產品中，輕、薄是兩大主要核心競爭要素。為了達到輕薄訴求，普遍採用縮減玻璃基板厚度，以同時達到減少厚度與重量的目的。
目前tft-lcd玻璃基板的減薄工藝主要有兩種：一種是化學蝕刻，另一種是物理研磨。化學蝕刻需使用強酸，成本較高，若不進行有效合理的處理回收，則對環境的危害很大，而且薄化後基板表面質量較難控制，仍需後續拋光處理。由於tft-lcd玻璃基板表面質量和加工精度要求高，熱穩定性高，耐化學腐蝕性好，表面和內部缺陷少，適宜的熱膨脹係數，輕質高強度等，給表面的超精密加工提出了嚴峻的挑戰，傳統的硬脆晶元體基片超精密加工工藝無法滿足tft-lcd玻璃基板表面的規模化生產要求。
技術實現要素：
本發明旨在提供了一種用於tft-lcd玻璃基板的高效拋光液。
本發明提供如下技術方案：
一種用於tft-lcd玻璃基板的高效拋光液，其是由如下重量份數的原料組成：氧化鈰9-12份、溶膠14-22份、胺鹼18-20份、六次甲基四胺10-15份、ph調節劑7-10份、表面活性劑11-14份、螯合劑6-9份、穩定劑8-14份、消泡劑3-5份、去離子水52-60份。
所述表面活性劑為聚乙烯吡咯烷酮。
所述ph調節劑為濃度為99wt％的三乙醇胺、乙二胺、羥乙基乙二胺、乙醇胺中的至少一種。
所述胺鹼為羥乙基乙二胺、三乙醇胺、四甲氫氧化銨中的任一種。
所述溶膠是粒徑15～100nm、分散度＜0.001、莫氏硬度7的二氧化矽溶膠。
所述穩定劑為一水軟鋁石。
所述消泡劑為聚醚矽氧烷共聚物。
一種用於tft-lcd玻璃基板的高效拋光液的製備方法，包括以下步驟：
(1)將密閉反應器系統用去離子水負壓渦流下清洗三遍；密閉反應器原材料選用無汙染的聚丙烯、聚乙烯或聚甲基丙烯酸甲脂；
(2)在負壓渦流狀態下逐漸加入氧化鈰、胺鹼和六次甲基四胺混合，再用用18mω以上去離子水稀釋後在負壓渦流狀態下逐漸吸入；
(3)在負壓渦流狀態下逐漸加入ph調節劑、表面活性劑，持續時間20-30min；
(4)在負壓渦流狀態下逐漸加入螯合劑、穩定劑、消泡劑，將納米溶膠用負壓吸入反應器內並呈渦流狀態，負壓渦流狀態下充分攪拌，攪拌時間為5-20min，均勻後進行灌裝，得到的拋光液。
與現有技術相比，本發明的有益效果是：本發明拋光液利用率高，降低了生產成本，同時減小了拋光液廢液對環境的汙染；本發明拋光液拋光玻璃基板的材料去除率高，拋光後玻璃表面無明顯劃痕，表面粗糙度比拋光前有所降低，同時反應器使用透明的非金屬材料，能夠避免有機物、金屬離子、大顆粒等有害物質進入到拋光液中，從而降低金屬離子的濃度，避免矽溶膠凝聚現象的出現。
具體實施方式
下面將結合本發明實施例，對本發明實施例中的技術方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例僅僅是本發明一部分實施例，而不是全部的實施例。基於本發明中的實施例，本領域普通技術人員在沒有做出創造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例，都屬於本發明保護的範圍。
實施例1一種用於tft-lcd玻璃基板的高效拋光液，其是由如下重量份數的原料組成：氧化鈰9份、溶膠14份、胺鹼18份、六次甲基四胺10份、ph調節劑7份、表面活性劑11份、螯合劑6份、穩定劑8份、消泡劑3份、去離子水52份。
所述表面活性劑為聚乙烯吡咯烷酮。
所述ph調節劑為濃度為99wt％的三乙醇胺、乙二胺、羥乙基乙二胺、乙醇胺中的至少一種。
所述胺鹼為羥乙基乙二胺、三乙醇胺、四甲氫氧化銨中的任一種。
所述溶膠是粒徑15～100nm、分散度＜0.001、莫氏硬度7的二氧化矽溶膠。
所述穩定劑為一水軟鋁石。
所述消泡劑為聚醚矽氧烷共聚物。
一種用於tft-lcd玻璃基板的高效拋光液的製備方法，包括以下步驟：
(1)將密閉反應器系統用去離子水負壓渦流下清洗三遍；密閉反應器原材料選用無汙染的聚丙烯、聚乙烯或聚甲基丙烯酸甲脂；
(2)在負壓渦流狀態下逐漸加入氧化鈰、胺鹼和六次甲基四胺混合，再用用18mω以上去離子水稀釋後在負壓渦流狀態下逐漸吸入；
(3)在負壓渦流狀態下逐漸加入ph調節劑、表面活性劑，持續時間20-30min；
(4)在負壓渦流狀態下逐漸加入螯合劑、穩定劑、消泡劑，將納米溶膠用負壓吸入反應器內並呈渦流狀態，負壓渦流狀態下充分攪拌，攪拌時間為5-20min，均勻後進行灌裝，得到的拋光液。
實施例2一種用於tft-lcd玻璃基板的高效拋光液，其是由如下重量份數的原料組成：氧化鈰12份、溶膠22份、胺鹼20份、六次甲基四胺15份、ph調節劑10份、表面活性劑14份、螯合劑9份、穩定劑14份、消泡劑3-5份、去離子水60份。
所述表面活性劑為聚乙烯吡咯烷酮。
所述ph調節劑為濃度為99wt％的三乙醇胺、乙二胺、羥乙基乙二胺、乙醇胺中的至少一種。
所述胺鹼為羥乙基乙二胺、三乙醇胺、四甲氫氧化銨中的任一種。
所述溶膠是粒徑15～100nm、分散度＜0.001、莫氏硬度7的二氧化矽溶膠。
所述穩定劑為一水軟鋁石。
所述消泡劑為聚醚矽氧烷共聚物。
一種用於tft-lcd玻璃基板的高效拋光液的製備方法，包括以下步驟：
(1)將密閉反應器系統用去離子水負壓渦流下清洗三遍；密閉反應器原材料選用無汙染的聚丙烯、聚乙烯或聚甲基丙烯酸甲脂；
(2)在負壓渦流狀態下逐漸加入氧化鈰、胺鹼和六次甲基四胺混合，再用用18mω以上去離子水稀釋後在負壓渦流狀態下逐漸吸入；
(3)在負壓渦流狀態下逐漸加入ph調節劑、表面活性劑，持續時間20-30min；
(4)在負壓渦流狀態下逐漸加入螯合劑、穩定劑、消泡劑，將納米溶膠用負壓吸入反應器內並呈渦流狀態，負壓渦流狀態下充分攪拌，攪拌時間為5-20min，均勻後進行灌裝，得到的拋光液。
實施例3一種用於tft-lcd玻璃基板的高效拋光液，其是由如下重量份數的原料組成：氧化鈰9-12份、溶膠14-22份、胺鹼18-20份、六次甲基四胺10-15份、ph調節劑7-10份、表面活性劑11-14份、螯合劑6-9份、穩定劑8-14份、消泡劑3-5份、去離子水52-60份。
所述表面活性劑為聚乙烯吡咯烷酮。
所述ph調節劑為濃度為99wt％的三乙醇胺、乙二胺、羥乙基乙二胺、乙醇胺中的至少一種。
所述胺鹼為羥乙基乙二胺、三乙醇胺、四甲氫氧化銨中的任一種。
所述溶膠是粒徑15～100nm、分散度＜0.001、莫氏硬度7的二氧化矽溶膠。
所述穩定劑為一水軟鋁石。
所述消泡劑為聚醚矽氧烷共聚物。
一種用於tft-lcd玻璃基板的高效拋光液的製備方法，包括以下步驟：
(1)將密閉反應器系統用去離子水負壓渦流下清洗三遍；密閉反應器原材料選用無汙染的聚丙烯、聚乙烯或聚甲基丙烯酸甲脂；
(2)在負壓渦流狀態下逐漸加入氧化鈰、胺鹼和六次甲基四胺混合，再用用18mω以上去離子水稀釋後在負壓渦流狀態下逐漸吸入；
(3)在負壓渦流狀態下逐漸加入ph調節劑、表面活性劑，持續時間20-30min；
(4)在負壓渦流狀態下逐漸加入螯合劑、穩定劑、消泡劑，將納米溶膠用負壓吸入反應器內並呈渦流狀態，負壓渦流狀態下充分攪拌，攪拌時間為5-20min，均勻後進行灌裝，得到的拋光液。
對於本領域技術人員而言，顯然本發明不限於所述示範性實施例的細節，而且在不背離本發明的精神或基本特徵的情況下，能夠以其他的具體形式實現本發明。因此，無論從哪一點來看，均應將實施例看作是示範性的，而且是非限制性的，本發明的範圍由所附權利要求而不是所述說明限定，因此旨在將落在權利要求的等同要件的含義和範圍內的所有變化囊括在本發明內。此外，應當理解，雖然本說明書按照實施方式加以描述，但並非每個實施方式僅包含一個獨立的技術方案，說明書的這種敘述方式僅僅是為清楚起見，本領域技術人員應當將說明書作為一個整體，各實施例中的技術方案也可以經適當組合，形成本領域技術人員可以理解的其他實施方式。