鍍膜支架的製作方法
2023-05-07 07:11:16 2
專利名稱：鍍膜支架的製作方法
技術領域：
本發明涉及一種鍍膜裝置，尤其涉及一種鍍膜支架。
背景技術：
通常，照相機、數位相機、照相手機鏡頭模組等光學產品的各種光學鏡片(Lens)、濾光 片等光學元件，因為要避免入射光在經過每個元件時，部分入射光反射而導致的光能損耗， 需要在每一個光學鏡片的兩面鍍抗反射膜，或是在濾光片的一面鍍上可濾掉某區段光的薄膜 (如紅外濾光片，紫外濾光片)，而在另一面鍍上抗反射膜，通過這些光學薄膜以增加光學元 件的抗反射性能，防止光能損耗。
所述光學薄膜的鍍膜方式多以熱蒸鍍或濺鍍方式進行。當光學元件兩面都需鍍上光學薄 膜時，其鍍膜過程中通常包括抽真空、加熱、 一面鍍膜、冷卻、破真空、手動翻轉光學元 件夾具、抽真空、加熱、另一面鍍膜、冷卻、破真空、取出光學元件等步驟(參見蘇成彬等 人發表於1980年第2期的《儀表技術與傳感器》上的《空心圓柱面鍍膜用旋轉支架》 一文， 介紹了一種用於圓柱形光學零件的鍍膜用支架及其使用方法)。該鍍膜過程中包括兩次抽真 空、加熱、鍍膜、冷卻以及破真空過程，佔去相當多的製程時間，所以如何避免所述過程的 重複進行，降低製程的時間，對於兩面鍍膜的元件量產來講是極為重要的課題。
發明內容
有鑑於此，提供一種用於鍍膜設備中，可實現對鍍膜基片夾具自動翻面的鍍膜支架實為 必要。
一種鍍膜支架，其包括 一個支架本體，所述支架本體具有一中心轉軸，所述支架本體 可繞所述中心轉軸旋轉，所述支架本體上設置有多個容置通孔；至少一基片夾具，所述每個 基片夾具對應設置於每個容置通孔中，所述基片夾具和所述支架本體之間通過轉軸連接，所 述每個基片夾具相連的轉軸處設有一翻面導向槽；及一個翻面控制裝置，所述翻面控制裝置 包括至少一翻面杆及一控制元件，所述控制元件用於控制所述翻面杆移動至與所述基片夾具 的翻面導向槽接近的位置，以使所述支架本體繞所述中心轉軸旋轉時，所述翻面杆在所述翻 面導向槽的導引下，帶動所述基片夾具翻面。
相較於現有技術，所述鍍膜支架可實現對鍍膜基片夾具自動翻面，可以省去兩次抽真空 、破真空的時間，從而大量節省製程時間的優點。
圖1是本發明實施例提供的鍍膜支架的立體示意圖。
圖2至圖5是圖1中的鍍膜支架的基片夾具在翻轉時位於不同角度的立體示意圖。
具體實施例方式
下面將結合附圖，對本發明作進一步的詳細說明。
如圖1所示，其為本發明實施例提供的鍍膜支架100。所述鍍膜支架100包括 一支架本 體110、多個基片夾具120及一個翻面控制裝置130，所述翻面控制裝置130用於控制所述基片 夾具120翻轉。
所述支架本體110用導熱性能良好的金屬製成，其形狀呈半圓球面狀，其材料可以為銅 、鋁或不鏽鋼等金屬中的一種或幾種。在本實施例中，所述支架本體110為不鏽鋼半圓球。 所述支架本體110具有一中心轉軸101，所述支架本體110可繞所述中心轉軸101旋轉。所述支 架本體110上設置有多個容置通孔112，所述多個容置通孔112的形狀為方形。當然，其形狀 也可以設置為扇形、圓形等形狀。所述多個容置通孔112呈行列排布於所述支架本體110上， 每一行上的多個容置通孔112位於同一條水平線上。
所述每個基片夾具120對應設置於每個容置通孔112中。所述基片夾具120採用導熱性能 良好的金屬製成，其材料可以為銅、鋁或不鏽鋼等金屬中的一種或幾種。當然，所述基片夾 具120的材料還可以為塑膠，例如PC (聚碳酸脂)力QABS (丙稀腈-丁二烯-苯乙烯共聚物) 的合成材料，或PC加玻璃纖維的合成材料等。所述基片夾具120的形狀可以為扇形、圓形或 方形等形狀，其原則是只要滿足可以裝置於支架本體110的容置通孔112內，且翻轉時不會與 支架本體110碰撞即可。在本實施例中，所述基片夾具120為方形。所述多個基片夾具120大 小相同且對稱分布於所述支架本體110上。
所述每個基片夾具120設置有至少一個通孔122，用以收容待鍍膜工件並暴露所述待鍍膜 工件的兩相對的待鍍表面。所述待鍍膜工件為玻璃鏡片或塑膠鏡片等。
請一併參閱圖2，所述每個基片夾具120和所述支架本體110之間通過轉軸124連接。本實 施例中，轉軸124設在基片夾具120的軸線位置。所述每個容置通孔112相對設置有兩個凹槽
(圖未示)，所述每個基片夾具120的轉軸124可卡置於對應的凹槽中從而固定於所述容置通 孔112內。所述每個基片夾具120對應的轉軸124上設有一翻面導向槽126。所述翻面導向槽 126設置於每一基片夾具120的轉軸124末端的外側。
所述翻面導向槽126為半月形，其由一第一擋塊1261及一第二擋塊1262共同配合形成。 所述第一擋塊1261為半月形，所述第二擋塊1262—端為圓弧形一端為方形，所述第二擋塊1262設置於所述第一擋塊1261的半月形內部，且圓弧形的一端靠裡，以使所述第一擋塊 1261與所述第二擋塊1262配合形成所述翻面導向槽126。當然，所述翻面導向槽126也可為圓 弧形、U形、馬蹄形等形狀，只要可以實現導引基片夾具120翻轉的結構即可。
所述翻面控制裝置130包括至少一翻面杆132及一控制元件134，所述控制元件134用於控 制所述翻面杆132下移並相對移至所述基片夾具的翻面導向槽126中，從而當所述支架本體 IIO轉動時，所述基片夾具120會隨之翻轉。所述控制元件134為電動馬達、電磁泵或磁流電 動機。
所述控制元件l 34可控制所述翻面杆132下移或上升，從而使所述翻面控制裝置l 30處於 工作狀態或者非工作狀態。由於所述鍍膜支架100在鍍膜時，所述支架本體110會不停地旋轉 ，例如以逆時針方向旋轉。而支架本體110逆時針旋轉就會使得固定於其上的每個基片夾 具120從左向右地在水平方向上移動。而此翻面控制裝置130正是利用這一現象來實現基片夾 具120的翻轉。
請一併參閱圖2至圖5，其為本發明實施例所提供的鍍膜支架100的其中一個基片夾具 120在翻轉時的一系列立體示意圖。每一個圖裡的基片夾具120及翻面杆132分別處於不同的 狀態。
請參閱圖2，其為所述基片夾具120在未開始翻轉時的狀態。由於所述支架本體110逆時 針旋轉會使得所述基片夾具120相對地從左向右移動。因此，所述翻面杆132會相對地移動到 翻面導向槽126內，如圖3所示。
所述翻面導向槽126的第一擋塊1261為半月形，其內側為圓弧狀。當所述基片夾具120相 對地移動時，由於翻面杆132的牴觸，會使圓弧處存在一定擠壓力，而這種擠壓力會使得基 片夾具120開始翻轉，如圖4所示。
所述基片夾具120翻轉到近似90度的位置時，所述翻面杆132也相對地移動到了翻面導向 槽126的最裡面。基片夾具120在支架本體110的旋轉的帶動下繼續移動，使得翻面杆132不會 停留在反面導向槽126裡面，而是帶動基片夾具120翻轉，如圖5所示。
所述基片夾具120已經翻轉了180度，而翻面杆132也相對於基片夾具120的位置正要離開 翻面導向槽126。從而所述基片夾具120實現了自動翻面功能，而同一水平方向上的下一個經 過此翻面杆132的基片夾具將會移動到翻面杆132的位置，從而實現對另一個基片夾具進行翻 面。
每一排基片夾具120都可以相應設置一個翻面杆132，從而由一個翻面杆132來帶動此一 排的基片夾具120翻面。在本實施例中，所述支架本體110上設置有兩排基片夾具120，而所述翻面杆132也相應地設置有兩個，從而實現對兩排的基片夾具120進行翻面。
當所有的基片夾具120都翻面結束後，則可以設定讓支架本體110暫停轉動，並使用所述
控制元件134將所述翻面杆132向上提起，從而遠離所述基片夾具120。然後，再啟動鍍膜裝
置，對待鍍膜工件進行另一面的鍍膜。
相較於現有技術，所述鍍膜支架可實現對鍍膜基片夾具自動翻面，可以省去兩次抽真空
、破真空的時間，從而大量節省製程時間的優點。
可以理解的是，對於本領域的普通技術人員來說，可以根據本發明的技術構思做出其它
各種相應的改變與變形，而所有這些改變與變形都應屬於本發明權利要求的保護範圍。
權利要求
1.一種鍍膜支架，其包括一個支架本體，所述支架本體具有一中心轉軸，所述支架本體可繞所述中心轉軸旋轉，所述支架本體上設置有多個容置通孔；至少一基片夾具，所述每個基片夾具對應設置於每個容置通孔中，所述基片夾具和所述支架本體之間通過轉軸連接，所述每個基片夾具相連的轉軸處設有一翻面導向槽；及一個翻面控制裝置，所述翻面控制裝置包括至少一翻面杆及一控制元件，所述控制元件用於控制所述翻面杆移動至與所述基片夾具的翻面導向槽接近的位置，以使所述支架本體繞所述中心轉軸旋轉時，所述翻面杆在所述翻面導向槽的導引下，帶動所述基片夾具翻面。
2.如權利要求l所述的鍍膜支架，其特徵在於，所述翻面導向槽設 置於每一基片夾具的轉軸末端的外側。
3.如權利要求l所述的鍍膜支架，其特徵在於，所述翻面導向槽為 圓弧形，由一第一擋塊及一第二擋塊共同配合形成。
4.如權利要求3所述的鍍膜支架，其特徵在於，所述第一擋塊為半 月形，所述第二擋塊一端為圓弧形一端為方形，所述第二擋塊設置於所述第一擋塊的半月形 內部，且圓弧形的一端靠裡，以使所述第一擋塊與所述第二擋塊配合形成所述翻面導向槽。
5.如權利要求l所述的鍍膜支架，其特徵在於，所述支架本體為半 圓球面狀，所述多個容置通孔呈行列排布於所述支架本體上，每一行上的多個容置通孔位於 同一條水平線上。
6.如權利要求l所述的鍍膜支架，其特徵在於，所述多個基片夾具 大小相同且對稱分布於所述支架本體上。
7.如權利要求l所述的鍍膜支架，其特徵在於，所述控制元件為電 動馬達、電磁泵或磁流電動機。
8.如權利要求l所述的鍍膜支架，其特徵在於，所述基片夾具具有 多個通孔，用於容置待鍍膜工件。
9 如權利要求l所述的鍍膜支架，其特徵在於，所述基片夾具材料 選自銅、鋁、不鏽鋼或塑膠中的一種或幾種。
10 如權利要求l所述的鍍膜支架，其特徵在於，所述支架本體材料 選自銅、鋁及不鏽鋼中的一種或幾種。
全文摘要
一種鍍膜支架，其包括一個支架本體，所述支架本體具有一中心轉軸，所述支架本體可繞所述中心轉軸旋轉，所述支架本體上設置有多個容置通孔；至少一基片夾具，所述每個基片夾具對應設置於每個容置通孔中，所述基片夾具和所述支架本體之間通過轉軸連接，所述每個基片夾具相連的轉軸處設有一翻面導向槽；及一個翻面控制裝置，所述翻面控制裝置包括至少一翻面杆及一控制元件，所述控制元件用於控制所述翻面杆移動至與所述基片夾具的翻面導向槽接近的位置，以使所述支架本體繞所述中心轉軸旋轉時，所述翻面杆在所述翻面導向槽的導引下，帶動所述基片夾具翻面。
文檔編號C23C14/50GK101575699SQ20081030144
公開日2009年11月11日 申請日期2008年5月6日 優先權日2008年5月6日
發明者簡士哲 申請人:鴻富錦精密工業(深圳)有限公司;鴻海精密工業股份有限公司