鍍膜蒸發載具及使用該鍍膜蒸發載具的真空鍍膜裝置的製作方法
2023-05-07 07:22:41
專利名稱：鍍膜蒸發載具及使用該鍍膜蒸發載具的真空鍍膜裝置的製作方法
技術領域：
本發明涉及一種鍍膜技術，特別涉及一種鍍膜蒸發載具及使用該鍍膜蒸發載具的真空鍍 膜裝置。
背景技術：
目前，真空鍍膜技術被廣泛應用於光學領域，如在光學鏡片的各個表面鍍上各種功能薄 膜等。 一般地，真空鍍膜裝置包括一個真空室，位於該真空室內的一個蒸發源及一個與該蒸 發源相對的夾具。該蒸發源包括一個用於放置薄膜材料的鍍膜蒸發載具如坩堝及一個用於將 鍍膜蒸發載具內的薄膜材料從固態變為氣態的電子發射源。該夾具用於夾持待鍍膜的光學鏡 片以使待鍍膜的光學鏡片表面鍍上所需薄膜。
目前的鍍膜蒸發載具之設計以裝載薄膜材料為考慮，單純要求其耐用度與裝載容量，因 此，鍍膜蒸發載具只放置一種薄膜材料。但，對於待鍍膜的光學鏡片的各個表面需要鍍不同 的功能薄膜或不同待鍍膜的光學鏡片需要鍍不同的功能薄膜時，則需要頻繁更換鍍膜蒸發載 具及鍍膜蒸發載具內的薄膜材料，導致生產效率低。另外，該鍍膜蒸發載具放置較多的薄膜 材料，在進行薄膜材料的預熔時，所需預熔的薄膜材料的深度較大，較難達到理想的預熔效 果，進而影響鍍膜效果。
發明內容
有鑑於此，有必要提供一種能提高生產效率且可改善預熔效果的鍍膜蒸發載具及使用該 鍍膜蒸發載具的真空鍍膜裝置。
一種鍍膜蒸發載具，其包括一個具有一個轉子的驅動部，至少一個轉動部及多個可放置 薄膜材料的收容部，該至少一個轉動部包括一個活動耦合至該轉子的柱狀轉動體及沿該柱狀 轉動體延伸且分別用於支撐該多個收容部的多個支撐體。
一種真空鍍膜裝置，其包括一個真空室，置於該真空室內的一個蒸發源及一個夾具，該 夾具與該蒸發源相對設置。該蒸發源包括一個鍍膜蒸發載具及一個電子發射源，該鍍膜蒸發 載具包括一個具有一個轉子的驅動部，至少一個轉動部及多個收容部，該至少一個轉動部包 括一個活動耦合至該轉子的柱狀轉動體及沿該柱狀轉動體延伸且分別用於支撐該多個收容部 的多個支撐體，該電子發射源用於發射電子至該多個收容部中的一個收容部。
所述的鍍膜蒸發載具及使用該鍍膜蒸發載具的真空鍍膜裝置，通過在多個收容部內分散放置不同或相同的薄膜材料及驅動部驅動轉動部將放置所需薄膜材料的收容部轉動至電子發 射源的電子發射路徑上，無需頻繁更換鍍膜蒸發載具及薄膜材料，提高了生產效率，且所需 預熔的薄膜材料的深度變小，從而改善了預熔效果。
圖l為本發明第一實施方式的真空鍍膜裝置的結構示意圖。
圖2為圖1中的真空鍍膜裝置的鍍膜蒸發載具的平面示意圖。
圖3為圖1中的真空鍍膜裝置的載具遮罩的結構示意圖。
圖4為本發明第二實施方式的真空鍍膜裝置的鍍膜蒸發載具的結構示意圖。
圖5為圖4中的鍍膜蒸發載具的第一柱狀轉動部與底座的結合示意圖。
圖6為圖5中的第一柱狀轉動部與底座間相配合的面的平面示意圖。
圖7為圖4中的鍍膜蒸發載具的轉子位於一個位置的示意圖。
圖8為圖4中的鍍膜蒸發載具的轉子位於另一個位置的示意圖。
圖9為圖4中的鍍膜蒸發載具的轉子位於再一個位置的示意圖。
具體實施例方式
下面將結合附圖對本發明實施方式作進一步的詳細說明。
請一併參閱圖1及圖2，本發明第一實施方式提供的一種真空鍍膜裝置100包括一個真空 室10，置於該真空室10內的一個蒸發源20及一個夾具30。該夾具30通過吊杆32固定在真空室 IO上，且與該蒸發源20相對設置，並用於夾持待鍍膜的光學鏡片(圖未示)。該蒸發源20包 括一個鍍膜蒸發載具200及一個電子發射源250。
該鍍膜蒸發載具200包括一個驅動部202， 一個轉動部210及四個收容部220。該四個收容 部200用於放置不同或相同的薄膜材料。該轉動部210包括一個柱狀轉動體212及沿該柱狀轉 動體212延伸且分別用於支撐該四個收容部220的四個支撐體214，如圖2所示。
每個收容部220開設有一個容置槽222，該容置槽222是面向夾持待鍍膜的光學鏡片的夾 具30，以使從該容置槽222內蒸發的薄膜材料可以直接上升至該夾具30。該四個收容部220所 放置的材料可視需求決定，如若待鍍膜的光學鏡片的各個表面需要鍍不同的功能薄膜或不同 待鍍膜的光學鏡片需要鍍不同的功能薄膜時，對應地將不同的薄膜材料放置於容置槽222內
該驅動部202具有一個定子204及一個由定子204驅動的轉子206，該柱狀轉動體212與定 子204相對的一個端面開設有一個與該轉子206相配合的凹槽216。本實施方式中，該轉子 206的頂端208呈六角形，相應地，該凹槽216的截面也呈六角形。如此，該定子204驅動該轉子206轉動時，該柱狀轉動體212也同時被轉子206帶動而轉動，因此，每個收容部220可依需 要被轉動至電子發射源250的電子252發射路徑上。進行鍍膜時，通過驅動部202驅動轉動部 210轉動，而將放置所需薄膜材料的收容部220轉動至電子發射源250的電子252發射路徑上即 可。可以理解，轉子206的頂端208及該凹槽216的截面的形狀不限於上述形狀，也可設計為 三角形，"1"字形或"十"字形等其他形狀。
請結合圖3，進一步地，為了使被蒸發的薄膜材料均勻地上升至該夾具30，該鍍膜蒸發 載具200還包括一個載具遮罩40，該載具遮罩40罩設轉動部210及四個收容部220。載具遮罩 40大致呈圓柱狀，其包括一個頂面402及一個與頂面402大致垂直連接的側面404。頂面402開 設有呈矩陣狀排列的多個孔洞406，側面404開設一個供電子252進入的開口408。當將放置有 當前所需的薄膜材料的收容部220轉動至電子發射源250的電子252發射路徑上時，該多個孔 洞406與該收容部220的容置槽相對，被蒸發的薄膜材料上升遇到多個孔洞406間的部分頂面 402的阻擋而分散到各個孔洞406均勻地逸出。
該真空鍍膜裝置100通過在多個收容部220內分散放置不同或相同的薄膜材料及驅動部 202驅動轉動部210將放置所需薄膜材料的收容部220轉動至電子發射源發射電子252的路徑上 ，無需頻繁更換鍍膜蒸發載具及薄膜材料，提高了生產效率，且所需預熔的薄膜材料的深度 變小，從而改善了預熔效果。
此外，該真空鍍膜裝置100還可減少預熔的次數，因當其中一個放置於容置槽222內的薄 膜材料被預熔後，當再次被轉動至電子發射源250的電子252發射路徑上時，就無需再預熔了
請參閱圖4，本發明第二實施例提供的鍍膜蒸發載具200'與第一實施方式提供的鍍膜蒸 發載具200的區別在於本實施方式的鍍膜蒸發載具200'包括三個轉動部210a、 210b、 210c，十二個收容部220、 一個定位支架50及一個底座60。
該底座60用於承載定位支架50及三個轉動部210a、 210b、 210c。該三個轉動部210a、 210b、 210c形成在底座上，且自遠離底座60的方向依次疊合在一起(為方便說明，圖4中， 該三個轉動部210a、 210b、 210c自遠離底座60的方向分別為第一轉動部210a、第二轉動部 210b及第三轉動部210c)。第一轉動部210a包括一個中空的第一柱狀轉動體212a及沿該第一 柱狀轉動體212a延伸且分別可用於支撐四個收容部220的四個第一支撐體214a。第二轉動部 210b包括一個中空的第二柱狀轉動體212b及沿該第二柱狀轉動體212b延伸且分別可用於支撐 四個收容部220的四個第二支撐體214b。第三轉動部210c包括一個中空的第三柱狀轉動體 212c及沿該第三柱狀轉動體212c延伸且分別可用於支撐四個收容部220的四個第三支撐體
6214c。較佳地，相鄰的兩個柱狀轉動體之間塗布有潤滑材料，以減少相鄰的兩個柱狀轉動體 之間的轉動摩擦力。十二個收容部220分別被十二個支撐體214a、 214b、 214c所支撐。本實 施方式中，三個柱狀轉動體212a、 212b、 212c內分別形成一個第一六角形通孔216a、第二六 角形通孔216b及第三六角形通孔216c (參圖7，圖8及圖9)，且三個六角形通孔216a、 216b 、216c相互對準且尺寸相同。
請結合圖5及圖6 (圖5及圖6分別只表示第一柱狀轉動體212a及底座60)，該底座60上開 設有一個供轉子206 (參圖l)穿過的圓通孔602，該圓通孔602與第一六角形通孔216a對準， 底座60的面向第一柱狀轉動體212a的表面604形成第一圓環容置槽606，圓環容置槽606是圍 繞圓通孔602在該表面604上的開口設置。第一柱狀轉動體212a與底座60相對的端面218a形成 與第一圓環容置槽606對應的第二圓環容置槽219a，該第二圓環容置槽219a是圍繞第一六角 形通孔216a在該端面218a的開口設置，多個滾珠70置於第一圓環容置槽606與第二圓環容置 槽219a間，並分別與第一圓環容置槽606與第二圓環容置槽219a牴觸。因此，通過多個滾珠 70滾動，第一柱狀轉動體212a可轉動地設置在底座60上。
轉子206的頂端208呈六角形(參圖l，圖7，圖8及圖9)。該轉子206自遠離驅動部202 ( 參圖l)的方向穿過圓通孔602並可分別插入至第一六角形通孔216a，第二六角形通孔216b及 第三六角形通孔216c而活動耦合至三個轉動部210a、 210b、 210c以對應驅動第一柱狀轉動體 212a，第二柱狀轉動體212b或第三柱狀轉動體212c轉動。本實施方式中，三個柱狀轉動體 212a、 212b、 212c由鐵磁材料製成。可以理解的是，可以將驅動部202置於一個升降裝置( 圖未示)上，以使驅動部202相對於三個轉動部210a、 210b、 210c作升降運動將轉子206移動 至對應的六角形通孔中。
轉子206的頂端208及該通孔216a、 216b、 216c的形狀不限於上述形狀，也可設計為三角 形，"1"字形或"十"字形等其他形狀。
該定位支架50放置於載具遮罩40 (參圖3)內且與三個轉動部210a、 210b、 210c相對， 定位支架50包括一個主體502及固定在主體502上且沿主體502軸向間隔設置的三個電磁體 504a、 504b、 504c，該三個電磁體504a、 504b、 504c分別與三個柱狀轉動體212a、 212b、 212c相對。通電時，每個電磁體504a、 504b或504c產生磁場以吸引與每個電磁體504a、 504b或504c對應的柱狀轉動體212a、 212b或212c以使對應的柱狀轉動體212a、 212b或212c固 定。可以理解，每個電磁體504a、 504b或504c通電時對於每個柱狀轉動體212a、 212b或212c 的吸引力的大小應該使當其中一個轉動部如第一轉動部210a轉動時，第二轉動部210b及第三 轉動部210c可相對於第一轉動部210a保持不動。本實施方式的鍍膜蒸發載具200'除了具有與第一本實施方式的鍍膜蒸發載具200相同的 有益效果外，還具有因進一步設置三個依次疊合在一起的轉動部212a、 212b、 212c及更多的 收容部220，增加了放置不同薄膜材料的種類。
可以理解，本發明還包括其他的實施方式的鍍膜蒸發載具，如疊合在一起的轉動部可以 是二個，四個或更多，及每個柱狀轉動體上所設的支撐體可以是二個，三個或更多等。
應該指出，上述實施方式僅為本發明的較佳實施方式，本領域技術人員還可在本發明精 神內做其它變化。當然，這些依據本發明精神所做的變化，都應包含在本發明所要求保護的 範圍的內。
權利要求
1.一種鍍膜蒸發載具，其特徵在於其包括一個具有一個轉子的驅動部，至少一個轉動部及多個可放置薄膜材料的收容部，該至少一個轉動部包括一個活動耦合至該轉子的柱狀轉動體及沿該柱狀轉動體延伸且分別用於支撐該多個收容部的多個支撐體。
2 如權利要求l所述的鍍膜蒸發載具，其特徵在於，所述柱狀轉動體 的一個端面開設有一個與該轉子相配合的凹槽。
3 如權利要求2所述的鍍膜蒸發載具，其特徵在於，所述轉子的頂端 呈六角形及該凹槽的截面呈六角形。
4 如權利要求l所述的鍍膜蒸發載具，其特徵在於，所述鍍膜蒸發載 具還包括一個載具遮罩，該載具遮罩罩設該至少一個轉動部及該多個收容部，該載具遮罩大 致呈圓柱狀，其包括一個頂面及一個與頂面大致垂直連接的側面，該頂面開設有呈矩陣狀排 列的多個孔洞，該側面開設一個用於供電子進入的開口。
5 如權利要求l所述的鍍膜蒸發載具，其特徵在於，所述鍍膜蒸發載 具包括三個依次疊合的轉動部， 一個定位支架及一個底座，該底座支撐該定位支架及最靠近 該底座的一個轉動部，且與最靠近該底座的一個轉動部活動連接，該底座開設有一個供該轉 子穿過的圓通孔，每個轉動部的柱狀轉動體是中空的，該轉子穿過該圓通孔且可分別活動耦 合至每個柱狀轉動體，該定位支架包括一個主體及固定在主體上且沿主體軸向間隔設置的三 個電磁體，三個電磁體分別與三個柱狀轉動體相對。
6 如權利要求5所述的鍍膜蒸發載具，其特徵在於，所述每個轉動部 的柱狀轉動體內形成一個六角形通孔，該每個六角形通孔相互對準且尺寸相同。
7 如權利要求6所述的鍍膜蒸發載具，其特徵在於，所述轉子的頂端呈六角形。
8 如權利要求5所述的鍍膜蒸發載具，其特徵在於，所述鍍膜蒸發載 具還包括一個載具遮罩，該載具遮罩罩設三個轉動部及多個收容部，該載具遮罩大致呈圓柱狀，其包括一個頂面及一個與頂面大致垂直連接的側面，該頂面開設有呈矩陣狀排列的多個 孔洞，該側面開設一個用於供電子進入的開口。
9. 一種真空鍍膜裝置，其包括一個真空室，置於該真空室內的一個 蒸發源及一個夾具，該夾具與該蒸發源相對設置。該蒸發源包括一個如權利要求1至8項中任 一項所述的鍍膜蒸發載具及一個電子發射源，該電子發射源用於發射電子至該多個收容部中 的一個收容部。
全文摘要
本發明涉及一種鍍膜蒸發載具，其包括一個具有一個轉子的驅動部，至少一個轉動部及多個可放置薄膜材料的收容部，該至少一個轉動部包括一個活動耦合至該轉子的柱狀轉動體及沿該柱狀轉動體延伸且分別用於支撐該多個收容部的多個支撐體。所述的鍍膜蒸發載具通過在多個收容部內分散放置不同或相同的薄膜材料及驅動部驅動轉動部將放置所需薄膜材料的收容部轉動至電子發射源發射電子的路徑上，無需頻繁更換鍍膜蒸發載具及薄膜材料，提高了生產效率，且所需預熔的薄膜材料的深度變小，從而改善了預熔效果。本發明還涉及一種使用上述鍍膜蒸發載具的真空鍍膜裝置。
文檔編號C23C14/50GK101619446SQ20081030248
公開日2010年1月6日 申請日期2008年6月30日 優先權日2008年6月30日
發明者王仲培 申請人:鴻富錦精密工業(深圳)有限公司;鴻海精密工業股份有限公司