導電薄膜的製作方法

2023-04-27 02:14:51 2

專利名稱：導電薄膜的製作方法
技術領域：
本發明有關於一種導電薄膜，特別有關於一種可消除受蝕刻與未受蝕刻的區域之間的顯色差異的導電薄膜。
背景技術：
隨著製作技術的進步與其在 各種應用面的不斷擴展，電子產品也逐漸提供越來越多樣化的功能以及更高整合性的使用性，以方便使用者的操作。例如，為了提供可以使使用者更方便、更直接的控制的電子用品，目前電子信息產品已越來越廣泛的裝設有觸控式的顯示面板，以取代傳統的按鍵形式的控制按鈕。目前，觸控面板大致上可分為電阻式、電容式、紅外線式及超音波式等等形式的觸控面板，其中以電阻式觸控面板與電容式觸控面板為最常見的產品。以目前的應用而言，電容式觸控面板可應用在具有多點觸控的特性的觸控面板，以提供更為人性化的操作模式，從而使得電容式觸控面板逐漸受到市場與使用者的青睞。不過，電容式觸控面板的缺點在於其必須以導體材質，例如手指觸碰觸控面板以進行電子產品的操作。而對於電阻式觸控面板而言，無論使用者以何種材質觸碰觸控面板，都可以進行電子產品的操作與控制，因而提高了觸控面板的使用便利性。另外，電阻式觸控面板所需成本較低，且電阻式觸控面板的技術發展較為成熟，因而目前的主流產品大多使用電阻式觸控面板。傳統的觸控面板直接在玻璃基板表面上積層有一導電薄膜，通過觸碰所述導電薄膜，以達成輸入信號或感測觸控位置等的功能。然而，所述導電薄膜必須經過黃光顯影、蝕刻的製作過程，從而在其上得到線路圖案，從而成型相關的驅動電路，但在實際的製作過程中，蝕刻製作過程會在面板上留下蝕刻的痕跡，例如在透明導電層上形成具有高度差的結構；而在光學的分析中，因蝕刻部分所裸露的玻璃基板與未被蝕刻的透明導電層之間具有很大的反射率差異，會在光譜上出現顯著的落差，因此在使用者的視覺上會造成不明的影像或區塊，或是出現明顯的界線等等，因此造成電子產品質量的下降。有鑑於此，本發明人針對上述的問題，提出一種設計合理且可以有效改善上述缺點的本發明。

發明內容
本發明實施例在於提供一種導電薄膜，利用調整改變其中的反射率調整結構的折射率與厚度，使得受蝕刻與未受蝕刻的導電薄膜具有相近的反射率，進而使肉眼無法察覺到製作過程中所殘留下的痕跡，提高光學上的顯示效果。本發明實施例提供一種導電薄膜，導電薄膜包括基板、反射率調整結構以及透明導電層。所述反射率調整結構設置於基板之上，所述透明導電層設置於反射率調整結構之上，使得反射率調整結構位於透明導電層與基板之間，且透明導電層覆蓋部分的反射率調整結構。當透明導電層受一光線以一入射角射入時，透明導電層以一第一反射率反射所述光線，當反射率調整結構受所述光線以所述入射角射入時，反射率調整結構以一第二反射率反射所述光線，第一反射率與第二反射率的差值小於一第一閥值。在本發明一示範實施例中，所述導電薄膜的反射率調整結構包括硬塗層、第一折射層以及第二折射層。硬塗層設置於基板之上，第一折射層設置於硬塗層之上，第二折射層設置於第一折射層之上並接觸透明導電層。在此，第一折射層的厚度在100至300埃的範圍內，且第一折射層的折射率在I. 6至2. O的範圍內，而第二折射層的厚度在500至700埃的範圍內，且第二折射層的折射率在I. 42至1.46的範圍內。另外，基板為由選自玻璃以及PET的群組中的材料所組成，且基板的折射率為I. 52。換句話說，本發明為一種導電薄膜，其中，包括—基板；一反射率調整結構，設置於所述基板之上；以及一透明導電層，設置於所述反射率調整結構之上，使得所述反射率調整結構位於該透明導電層與該基板之間，且該透明導電層覆蓋部分的該反射率調整結構；其中當所述透明導電層受一光線以一入射角射入時，所述透明導電層以一第一反射率反射所述光線，當所述折射層調整結構受所述光線以所述入射角射入時，所述折射層調整結構以一第二反射率反射所述光線，所述第一反射率與所述第二反射率的差值小於一第一閥值。本發明所述的導電薄膜，其中，所述反射率調整結構包括一硬塗層，設置於所述基板之上；一第一折射層，設置於所述硬塗層之上；以及一第二折射層，設置於所述第一折射層之上，並接觸所述透明導電層。本發明所述的導電薄膜，其中，所述第一折射層的厚度在100至300埃的範圍內，且所述第一折射層的折射率在I. 6至2. O的範圍內。本發明所述的導電薄膜，其中，所述第二折射層的厚度在500至700埃的範圍內，且所述第二折射層的折射率在I. 42至I. 46的範圍內。本發明所述的導電薄膜，其中，所述第一閥值為O. 5。本發明所述的導電薄膜，其中，當所述透明導電層受所述光線以所述入射角射入時，所述透明導電層中的所述光線具有一第一穿透率，當所述反射率調整結構受所述光線以所述入射角射入時，所述反射率調整結構中的所述光線具有一第二穿透率，所述第一穿透率與所述第二穿透率的差值小於一第二閥值。本發明所述的導電薄膜，其中，所述第二閥值為O. 5。本發明所述的導電薄膜，其中，所述基板為由選自玻璃以及PET的群組中的材料所組成，且所述基板的折射率為I. 52。綜上所述，本發明實施例所提供的導電薄膜，利用調整改變其中的反射率調整結構與透明導電層的折射率與厚度，使得受蝕刻與未受蝕刻的導電薄膜具有相近的反射率。在此，當導電薄膜經過蝕刻製作過程而最上層的透明導電層的部分區域受蝕刻時，光線透過透明導電層與反射率調整結構射入導電薄膜的反射率，相近於光線僅透過反射率調整結構射入導電薄膜的反射率。由此，本發明的導電薄膜可消除受蝕刻與未受蝕刻的區域之間的顯色差異，使肉眼無法察覺到製作過程中所殘留下的痕跡，進而提高光學上的顯示效果。、
為使能更進一步了解本發明的特徵及技術內容，請參照以下有關本發明的詳細說明及附圖，然而所附圖式僅是為了提供參考與說明之用，並非用來對本發明加以限制。


圖I示出了根據本發明一示範實施例的導電薄膜的示意圖。圖2示出了根據本發明一示範實施例的導電薄膜的立體圖。附圖標記的說明I:導電薄膜10 :基板12:反射率調整結構14:透明導電層16 :粘結劑層122 :硬塗層
124 :第一折射層126 :第二折射層R1、R2:反射率T1、T2:折射率
具體實施例方式〔導電薄膜實施例〕請一併參照圖I與圖2，圖I示出了根據本發明一示範實施例的導電薄膜的示意圖。圖2示出了根據本發明一示範實施例的導電薄膜的立體圖。如圖所示，本發明的導電薄膜I具有基板10、反射率調整結構12以及透明導電層14，基板10之上依序設置有反射率調整結構12以及透明導電層14，使得反射率調整結構12位於基板10以及透明導電層14之間。以下分別描述本發明的導電薄膜I的各部分組件。基板10由玻璃或PET(聚對苯二甲酸乙二酯)的材料製成薄膜形狀，但本發明並不僅限於上述材料。例如，可以使用二乙醯纖維素薄膜、三乙醯纖維素薄膜、乙醯纖維素丁酸酯薄膜等的乙醯纖維素系薄膜；聚碳酸酯系薄膜；環狀聚烯烴系薄膜；丙烯酸樹脂系薄膜；聚對苯二甲酸乙二酯薄膜、聚對苯二甲酸丁二酯薄膜、聚萘二甲酸乙二酯薄膜等的聚酯系薄膜；聚碸系薄膜；聚醚碸系薄膜；聚醚醚酮系薄膜；聚醯亞胺系薄膜；聚醚醯亞胺系薄膜等的透明塑料薄膜。上述的基板材料中，從光線透射率等的光學特性、加工性、機械物性、吸水率、耐熱性、耐候性等的方面考慮，優選為乙醯纖維素系薄膜、聚碳酸酯系薄膜、環狀聚烯烴系薄膜、丙烯酸樹脂系薄膜及聚酯系薄膜，其中更優選為三乙醯纖維素薄膜、聚碳酸酯系薄膜、環狀聚烯烴系薄膜、丙烯酸樹脂系薄膜及聚對苯二甲酸乙二酯薄膜。在實際應用中，當基板10選用由玻璃或PET的材料製成時，基板10所具有的折射率約為I. 52。當然，除了上述材料之外，本技術領域具有通常知識人員也可將基板10選用由折射率近似於I. 52的其它化合物的材料製成。在此，本發明並不限制基板10的厚度，一般來說，基板10的厚度約在300 μ m以下。另外，除了基板10的一表面可設置反射率調整結構12之外，在基板10的相反側的表面上，更可形成用來粘貼其它裝置的粘結劑層16。所述粘結劑層16應選用具有良好光學特性的材料，例如丙烯酸系粘結劑、胺甲酸酯系粘結齊U、娃系粘結劑等。反射率調整結構12更包括了依序疊置的硬塗層122、第一折射層124以及第二折射層126，其中硬塗層122設置於基板10之上，第一折射層124位於硬塗層122以及第二折射層126之間，而第二折射層126接觸透明導電層14。舉例來說，第一折射層124可為一種金屬氧化物層，其材料可選用由氧化鈦、ITO、氧化鉭或氧化錫製成的材料，當然也可組合上述材料中的兩種或兩種以上製成。第二折射層126可為一種矽氧烷聚合物層，其材料可選用無機二氧化矽系化合物或者聚有機矽氧烷系化合物，當然也可組合上述材料製成。在實際應用中，本發明選定的反射率調整結構12中各層的厚度與折射率，可由此使得導電薄膜I消除經蝕刻製作過程後的顯色差異，並使肉眼無法察覺到製作過程中在導電薄膜I所殘留下的痕跡。在一例子中，本發明的第一折射層124的厚度在100至300埃的範圍內且折射率在I. 6至2. O的範圍內。第二折射層126的厚度在500至700埃的範圍內且折射率在I. 42至1.46的範圍內。至於硬塗層的厚度與折射率，本發明在此不加以限制。
透明導電層14形成在反射率調整結構12之上並位於導電薄膜I的最外層。經過蝕刻的製作過程後，透明導電層14會因為僅有部分區域受到蝕刻而形成特定圖案，受到蝕刻的區域就不存在透明導電層14，而未受到蝕刻的透明導電層14繼續覆蓋部分的反射率調整結構12。舉例來說，透明導電層14可以為由Sn02、Zn02、In203或ITO等材料所製成，且透明導電層14的厚度在150至250埃的範圍內。一般來說，當透明導電層14的材質為ITO時，透明導電層14的厚度可以是180埃。另一方面，透明導電層14的折射率在I. 9至2. I的範圍內。由於上述的透明導電層14具有導電性，在應用時可以簡化接地過程並且提高製作過程的合格率，且由於透明導電層14為導電層，電極可以很容易地形成於透明導電層14上，因此本發明尤其有利於觸控式顯示單元的應用，但不僅限於此。在實際應用中，在選擇透明導電層14的厚度與折射率時，應配合反射率調整結構12—並進行調整，使得使用者不論是從透明導電層14或是反射率調整結構12注視導電薄膜1，都不會察覺到製作過程中在導電薄膜I所殘留下的痕跡。從光線反射的角度來說，當一光線以一入射角透過透明導電層14與反射率調整結構12射入導電薄膜I時，所述光線具有一第一反射率R1，當所述光線以同樣的入射角僅透過反射率調整結構12射入導電薄膜I時，所述光線具有一第二反射率R2，第一反射率Rl與第二反射率R2的差值小於一第一閥值。在實際應用中，以本發明所述的規格製造的導電薄膜I來看，如果所述第一閥值小於O. 5，也就是說如果第一反射率Rl與第二反射率R2差異很小就能達到肉眼無法察覺的效果。另一方面，從光線穿透的角度來說，當一光線以一入射角透過透明導電層14與反射率調整結構12射入基板10時，所述光線具有一第一穿透率Tl，當所述光線以同樣的入射角僅透過反射率調整結構12射入基板10時，所述光線具有一第二穿透率T2，第一穿透率Tl與第二穿透率T2的差值小於一第二閥值。在實際應用中，以本發明所述的規格製造的導電薄膜I來看，如果所述第二閥值同樣小於O. 5，也就是第一穿透率Tl與第二穿透率T2差異很小，同理可知，由於光線是直線前進的，當光線是從基板10射入時，使用者在透明導電層14外側觀察時，肉眼仍不會觀察到製作過程中所殘留下的痕跡。舉例來說，導電薄膜I通過粘結劑層16粘貼在可發光的顯示設備的表面，例如LCD、CRT及觸控面板等顯示器或其它相關顯示設備的表面，或是具有上述顯示設備的電子產品的表面，使得使用者通過導電薄膜I觀看顯示設備顯示的畫面時，不會受到製作過程中所殘留的痕跡的幹擾。綜上所述，本發明實施例所提供的導電薄膜，通過選擇一特定範圍內的折射率與厚度的反射率調整結構與透明導電層，使得受蝕刻與未受蝕刻的導電薄膜具有相近的反射率以及穿透率。特別是，不論光線是從透明導電層射入導電薄膜，或是從基板射入導電薄膜，本發明所述的規格製造的導電薄膜都可以達到肉眼無法察覺到製作過程中所殘留下的痕跡的效果。由此，本發明的導電薄膜可消除受蝕刻與未受蝕刻區域之間的顯色差異，使肉眼無法察覺到製作過程中所殘留下的痕跡，進而提高光學上的顯示效果。
雖然本發明公開的實施例如上所述，這些實施例僅為例示說明之用，而不應被解釋為對本發明實施的限制。在不脫離本發明的實質範圍內，其他的改動或者變化，均屬本發明的保護範圍。
權利要求
1.一種導電薄膜，其特徵在於，包括 一基板； 一反射率調整結構，設置於所述基板之上；以及 一透明導電層，設置於所述反射率調整結構之上，使得所述反射率調整結構位於所述透明導電層與所述基板之間，且所述透明導電層覆蓋部分的所述反射率調整結構； 其中當所述透明導電層受一光線以一入射角射入時，所述透明導電層以一第一反射率反射所述光線，當所述反射率調整結構受所述光線以所述入射角射入時，所述反射率調整結構以一第二反射率反射所述光線，所述第一反射率與所述第二反射率的差值小於一第一閥值。
2.根據權利要求I所述的導電薄膜，其特徵在於，所述反射率調整結構包括 一硬塗層，設置於所述基板之上； 一第一折射層，設置於所述硬塗層之上；以及 一第二折射層，設置於所述第一折射層之上，並接觸所述透明導電層。
3.根據權利要求2所述的導電薄膜，其特徵在於，所述第一折射層的厚度在100至300埃的範圍內，且所述第一折射層的折射率在I. 6至2. O的範圍內。
4.根據權利要求2所述的導電薄膜，其特徵在於，所述第二折射層的厚度在500至700埃的範圍內，且所述第二折射層的折射率在I. 42至I. 46的範圍內。
5.根據權利要求I所述的導電薄膜，其特徵在於，所述第一閥值為O.5。
6.根據權利要求I所述的導電薄膜，其特徵在於，當所述透明導電層受所述光線以所述入射角射入時，所述透明導電層中的所述光線具有一第一穿透率，當所述反射率調整結構受所述光線以所述入射角射入時，所述反射率調整結構中的所述光線具有一第二穿透率，所述第一穿透率與所述第二穿透率的差值小於一第二閥值。
7.根據權利要求6所述的導電薄膜，其特徵在於，所述第二閥值為O.5。
8.根據權利要求I所述的導電薄膜，其特徵在於，所述基板為由選自玻璃以及PET的群組中的材料所組成，且所述基板的折射率為I. 52。
全文摘要
本發明為一種導電薄膜，導電薄膜包括基板、反射率調整結構以及透明導電層。所述反射率調整結構設置於基板之上，所述透明導電層設置於反射率調整結構之上，使得反射率調整結構位於透明導電層與基板之間，且透明導電層覆蓋部分的反射率調整結構。當透明導電層受一光線以一入射角射入時，透明導電層以一第一反射率反射所述光線，當反射率調整結構受所述光線以所述入射角射入時，反射率調整結構以一第二反射率反射所述光線，第一反射率與第二反射率的差值小於一第一閥值。由此，本發明的導電薄膜可消除受蝕刻與未受蝕刻區域之間的顯色差異。
文檔編號B32B5/00GK102785410SQ2011101339
公開日2012年11月21日 申請日期2011年5月19日 優先權日2011年5月19日
發明者朱兆傑 申請人:智盛全球股份有限公司