觸摸感應器的製造方法及顯示設備的製作方法

2023-05-10 04:29:51 2

專利名稱：觸摸感應器的製造方法及顯示設備的製作方法
技術領域：
本發明屬於觸控螢幕技術領域，具體涉及一種觸摸感應器的製造方法及顯示設備。
背景技術：
隨著電子技術的不斷發展，觸控螢幕已經成為手機、掌上電腦等顯示設備的常見配置。具體結構是，在屏幕內設置觸摸感應器。如圖I、圖2所示，觸摸感應器主要由電極以及X、Y方向連線構成，電極也根據X、Y方向分為兩組，電極通常是在基板I上同時形成的；此外，兩組電極應當單獨驅動，所以兩組電極必須各自導通並且相互絕緣。通常的做法是，在兩組電極交叉處，Y方向電極直接在電極層通過Y方向連線導通，然後在Y方向連線上覆蓋絕緣層2，再在絕緣層2上形成導電橋3結構，用於導通X方向電極。當然，也可以是X方向電極在電極層導通，Y方向電極通過導電橋導通，這是非常簡單的置換手段。這樣兩組電極就分別通過Y方向連線和導電橋 3各自導通，並且利用絕緣層2相互絕緣，實現單獨驅動的效果。本發明人在實現本發明的過程中發現，現有技術至少存在以下問題現有的觸摸感應器製造方法，電極層和絕緣層是單獨形成的，之後再形成導電橋，則至少需要三次掩膜版(3mask)工藝，製造過程複雜，導致觸摸感應器的生產效率低的技術問題。

發明內容
本發明實施例提供了一種觸摸感應器的製造方法以及顯示設備，解決了現有的觸摸感應器製造方法製造過程複雜，導致觸摸感應器的生產效率低的技術問題。為達到上述目的，本發明的實施例採用如下技術方案一種觸摸感應器的製造方法，包括在基板上形成電極層；在所述電極層上形成絕緣層；在所述絕緣層上塗覆光刻膠；利用灰階掩膜工藝對所述光刻膠曝光和顯影，所述光刻膠形成為完全去除區域、完全保留區域和部分保留區域；對與光刻膠的完全去除區域對應的所述絕緣層進行刻蝕，露出電極層；對所述電極層進行過刻蝕，使電極層圖案的邊緣相比於絕緣層邊緣向內縮進，形成電極和Y方向連線部分的圖案；對光刻膠進行灰化處理去除部分保留區域的光刻膠；對露出的所述絕緣層進行刻蝕；去除所述完全保留區域的光刻膠；在所述絕緣層上形成導電橋。一種顯示設備，包括觸摸感應器，所述觸摸感應器按照上述製造方法製成。與現有技術相比，本發明所提供的上述技術方案具有如下優點利用一次灰階掩膜版工藝使光刻膠形成不同厚度的完全去除區域、完全保留區域和部分保留區域，再經過刻蝕絕緣層、過刻蝕電極層、灰化光刻膠、再次刻蝕絕緣層、再次灰化光刻膠，即可製造出觸摸感應器的電極層和絕緣層。之後可利用一次掩膜版工藝形成導電橋。所以總共只需要兩次掩膜版(2mask)工藝,就能夠完成觸摸感應器的製造,簡化了觸摸感應器的製造過程,從而解決了現有的觸摸感應器的生產效率低的技術問題。


為了更清楚地說明本發明實施例或現有技術中的技術方案，下面將對實施例或現有技術描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹。顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本發明的一些實施例，對於本領域普通技術人員來講，在不付出創造性勞動的前提下，還可以根據這些附圖獲得其他的附圖。圖I為現有的觸摸感應器的結構不意圖；圖2為圖I沿A-A線的局部剖視圖； 圖3a_圖3e為本發明的實施例所提供的觸摸感應器的製造方法中電極層和絕緣層的製造過程示意圖；圖4為本發明的實施例所提供的觸摸感應器的製造方法製成的觸摸感應器的示意圖。
具體實施例方式下面將結合本發明實施例中的附圖，對本發明實施例中的技術方案進行清楚、完整地描述。顯然，所描述的實施例僅僅是本發明一部分實施例，而不是全部的實施例。基於本發明中的實施例，本領域普通技術人員在沒有付出創造性勞動的前提下所獲得的所有其他實施例，都屬於本發明保護的範圍。實施例I :本發明實施例提供了一種觸摸感應器的製造方法，包括SI :在基板上形成電極層。具體的，利用蒸鍍工藝，在基板上形成電極層。作為一個優選方案，電極層由銦錫氧化物(ITO)構成。S2 :在電極層上形成絕緣層。 具體的，利用蒸鍍工藝，在電極層上形成絕緣層。S3 :在絕緣層上塗覆光刻膠。具體的，在絕緣層上形成一層厚度均勻的光刻膠。S4 :利用灰階掩膜(mask)工藝對光刻膠曝光和顯影，使光刻膠形成為完全去除區域、完全保留區域和部分保留區域。如圖3a所示，完全保留區域對應Y方向連線的圖案，部分保留區域對應電極層的圖案。作為一個優選方案，部分保留區域光刻膠厚度，是完全保留區域光刻膠厚度的30-70%。S5 :對與光刻膠的完全去除區域對應的絕緣層進行刻蝕，露出電極層。S6:對電極層進行過刻蝕，使電極層圖案的邊緣相比於絕緣層邊緣向內縮進，形成電極和Y方向連線部分的圖案。作為一個優選方案，電極層圖案的邊緣相比於絕緣層邊緣向內縮進尺寸大於等於2 μ m。對電極層進行過刻蝕，使電極層形成如圖3b所示的圖案。本實施例中，因為採用了過刻蝕工藝，電極層圖案的邊緣相比於絕緣層邊緣，會向內縮進2. 5-3. 5 μ m。S7 :對光刻膠進行灰化處理去除部分保留區域的光刻膠。去除一定厚度的光刻膠，使Y方向連線部分的光刻膠厚度減小，並且完全去除電極部分的光刻膠。如圖3c所示，由於完全保留區域的光刻膠厚4度大於部分保留區域的光刻膠，所以利用灰化工藝，將部分保留區域的光刻膠去除之後，完全保留區域的光刻膠4仍然存在，只是厚度減小了。S8 :對露出的絕緣層進行刻蝕。如圖3d所示，由於除完全保留區域之外的光刻膠都被去除了，所以在這一次刻蝕之後，只有完全保留區域，也就是Y方向連線部分還保留有絕緣層2，其他部分的絕緣層都 被刻蝕掉了。S9 :去除完全保留區域的光刻膠。如圖3e所示，再次利用灰化工藝，去除完全保留區域的光刻膠，露出絕緣層。經過上述步驟，完成了觸摸感應器的電極層和絕緣層的製造，之後還包括SlO :利用掩膜版工藝在絕緣層上形成導電橋。如圖4所示，利用常規的導電橋3的製造方法即可，使X方向電極通過導電橋3導通，完成觸摸感應器的製造。電極層的厚度在400 1200之間，厚度非常小，由於電極層的邊緣比絕緣層邊緣向內縮進2. 5 3. 5 μ m，所以金屬橋不會與絕緣層下面的電極層相接觸。此外，電極層中Y方向連線部分在Y方向上的長度大於導電橋在Y方向上的寬度。當然，也可以是X方向電極在電極層導通，Y方向電極通過導電橋導通，這是非常簡單的置換手段。利用一次灰階掩膜版工藝使光刻膠形成不同厚度的完全去除區域、完全保留區域和部分保留區域，再經過刻蝕絕緣層、過刻蝕電極層、灰化光刻膠、再次刻蝕絕緣層、再次灰化光刻膠，即可製造出觸摸感應器的電極層和絕緣層。之後再利用一次掩膜版工藝形成導電橋。所以總共只需要2mask工藝，就能夠完成觸摸感應器的製造，簡化了觸摸感應器的製造過程，從而解決了現有的觸摸感應器的生產效率低的技術問題。實施例2 本發明實施例提供了一種顯示設備，包括觸摸感應器，所述觸摸感應器按照上述實施例I所提供的製造方法製成。由於本實用新型實施例與上述本實用新型實施例所提供的搬運裝置具有相同的技術特徵，所以也能產生相同的技術效果，解決相同的技術問題。本實施例中，在觸摸感應器中，電極層圖案的邊緣相比於絕緣層邊緣向內縮進尺寸大於等於2 μ m。作為一個優選方案，電極層圖案的邊緣相比於絕緣層邊緣向內縮進尺寸為 2. 5 3. 5 μ m。在觸摸感應器中，電極層的厚度在400 1200之間，厚度非常小，由於電極層的邊緣比絕緣層邊緣向內縮進2. 5 3. 5 μ m，所以金屬橋不會與絕緣層下面的電極層相接觸以上所述，僅為本發明的具體實施方式
，但本發明的保護範圍並不局限於此，任何熟悉本技術領域的技術人員在本發明揭露的技術範圍內，可輕易想到的變化或替換，都應涵蓋在本發明的保護範圍之內。因此，本發明的保護範圍應以 權利要求的保護範圍為準。
權利要求
1.一種觸摸感應器的製造方法，其特徵在於，包括 在基板上形成電極層； 在所述電極層上形成絕緣層； 在所述絕緣層上塗覆光刻膠； 利用灰階掩膜工藝對所述光刻膠曝光和顯影，所述光刻膠形成為完全去除區域、完全保留區域和部分保留區域； 對與光刻膠的完全去除區域對應的所述絕緣層進行刻蝕，露出電極層； 對所述電極層進行過刻蝕，使電極層圖案的邊緣相比於絕緣層邊緣向內縮進，形成電極和Y方向連線部分的圖案； 對光刻膠進行灰化處理去除部分保留區域的光刻膠； 對露出的所述絕緣層進行刻蝕； 去除所述完全保留區域的光刻膠； 在所述絕緣層上形成導電橋。
2.根據權利要求I所述的製造方法，其特徵在於 所述電極層圖案的邊緣相比於絕緣層邊緣向內縮進尺寸大於等於2 ym。
3.根據權利要求2所述的製造方法，其特徵在於所述電極層圖案的邊緣相比於絕緣層邊緣向內縮進尺寸為2. 5 3. 5 ii m。
4.根據權利要求I所述的製造方法，其特徵在於在基板上形成電極層，具體為 利用蒸鍍工藝，在基板上形成電極層。
5.根據權利要求I所述的製造方法，其特徵在於在所述電極層上形成絕緣層，具體為 利用蒸鍍工藝，在所述電極層上形成絕緣層。
6.根據權利要求I所述的製造方法，其特徵在於所述電極層由銦錫氧化物構成。
7.—種顯示設備，其特徵在於該顯示設備包括觸摸感應器，所述觸摸感應器按照權利要求I所提供的製造方法製成。
8.根據權利要求7所述的顯示設備，其特徵在於在所述觸摸感應器中，電極層圖案的邊緣相比於絕緣層邊緣向內縮進尺寸大於等於2iim。
9.根據權利要求8所述的顯示設備，其特徵在於所述電極層圖案的邊緣相比於絕緣層邊緣向內縮進尺寸為2. 5 3. 5 ii m。
全文摘要
本發明實施例公開了一種觸摸感應器的製造方法及顯示設備，屬於觸控螢幕技術領域。解決了現有的觸摸感應器的製造過程複雜，生產效率低的技術問題。該製造方法，包括利用灰階掩膜工藝對光刻膠曝光和顯影，光刻膠形成為完全去除區域、完全保留區域和部分保留區域；對與光刻膠的完全去除區域對應的絕緣層進行刻蝕，露出電極層；對電極層進行過刻蝕，使電極層圖案的邊緣相比於絕緣層邊緣向內縮進，形成電極和Y方向連線部分的圖案；對光刻膠進行灰化處理去除部分保留區域的光刻膠；對露出的絕緣層進行刻蝕；去除完全保留區域的光刻膠；在絕緣層上形成導電橋。該顯示設備包括按照上述製造方法製成的觸摸感應器。本發明應用於改進觸摸感應器的製造方法。
文檔編號G06F3/041GK102681714SQ20111030495
公開日2012年9月19日 申請日期2011年10月10日 優先權日2011年10月10日
發明者林允植 申請人:京東方科技集團股份有限公司