對基質進行真空處理的設備的製作方法
2023-04-28 04:41:06
專利名稱：對基質進行真空處理的設備的製作方法
技術領域：
本發明涉及真空處理機的技術領域，例如真空鍍層(dépts sousvide)領域。
背景技術：
特別是，本發明提出解決的問題是保證以低廉的成本處理大批量的零件。
為了達到這個目的，技術人員設計了一些叫做「排列成行(enligne)」的機械，在這些機械中，鍍層工藝的相繼不同階段在一些專門(dédiées)的室內實現，這些室一個跟隨一個，並通過一些可以使它們互相隔絕的閥門互相連接，使要處理的零件相繼從一個隔離空間到另一個隔離空間。工藝中有多少不同的階段一般就有多少串聯的隔離空間。
這類機械很適用於該工藝的所有階段持續的時間在同一數量級時，但是如果其中一個階段的時間比其它階段長很多，一般情況就是這樣，則這個階段對整體的動力學起主導作用，因此決定機械的生產率。所以這些機械僅得到非常有限的普及。
本發明的目的是以簡單、可靠、有效、合理的方式克服這些缺點。
本發明提出解決的問題是保證連續處理不同基質的連續，特別是在一種金屬的真空鍍層的情況下，目標一方面是能夠在最短的時間而不是在最長的時間上調節處理的速度，顯然，這樣可以大大縮短整體的處理時間，這是很重要的，另一方面，正如從所使用的技術方法得到的，由於產生一個可以模塊化處理的整體，而不再是一個剛性的整體，運行時有很大的靈活性。
為了解決這個問題並達到這些目標，已經設計並建立了一種由幾個獨立的、排列成行並且互相連通的模塊組成的設備。每個模塊本身由一個處理室和一個轉移室組成。
處理室以非限定的方式位於轉移室之上，處理室通過一個真空密封門與轉移室連通，並且密封門能夠通過任何適當的裝置摺疊，以便可以把要處理的零件從一個室轉移到另一個室。
根據本發明的另一個特徵，不同模塊排列成行，使它們通過轉移室互相連通，二個相鄰轉移室可以或者通過一個門分開，或者不分開。
由於以本發明為基礎的特徵，要處理的零件可以相繼從任何一個處理室過渡到任何另一個處理室，而不穿過相鄰的處理室，這樣可以消除傳統成行機械的主要障礙。
根據本發明的一個推薦的但不是限定性的實施例，為了解決使基質很容易地從一個模塊轉移到另一個模塊並且把基質送到所考慮的真空處理室的問題，轉移裝置包括二個被正向帶動的循環帶或循環鏈，這些循環帶或循環鏈設有一些能夠與一個基質底座具有的互補形體配合的指杆，一個平臺安裝在所述傳送帶之間，該平臺服從一些能夠保證平臺向真空處理室的方向垂直移動的零件，以便同時保證把基質轉移到所述室中。
為了解決很容易地把基質從一個模塊轉移到另一個模塊的問題，當基質底座和基質從一個模塊向另一個模塊線性移動時，平臺位於循環帶或循環鏈的傳動銷形成的平面以下。
在相當於基質進入真空處理室的平臺高位，平臺作為真空處理室的密封門。在這個位置，位於它們的底座上的基質總是可以被在平臺下面移動的循環帶或循環鏈的指杆帶動，正如所指出的，平臺位於密封關閉所考慮的真空處理室的位置。
為了解決保證基質進入所考慮的真空處理室的問題，能夠保證平臺垂直移動的零件由一組服從至少一個千斤頂類型的控制機構的連杆和曲柄構成。
對於每個模塊的特殊設計，具有轉移裝置的層構成一個支撐結構，該結構的下部包括所述轉移裝置，而它的上部有一個用於密封固定真空處理室的支撐平面，所述支撐平面有一個用於嵌入基質的開口。
為了解決使許多需要的模塊組成的整體設備抽真空問題，模塊的接受轉移裝置的部分形成一個能夠抽真空的隔離空間，幾個模塊連接後，不同的隔離空間同時抽真空。
下面通過附圖詳細描述本發明，附圖如下[18]—圖1是一個表示符合本發明的處理設備運行原理的純示意圖。
—圖2是一個幾個模塊並列連接產生的設備的實施例透視圖。
—圖3、4、5、6是一個模塊實施例的透視圖，表示基質移動和轉移的原理。
具體實施例方式根據一個以本發明為基礎的特徵，該設備由幾個獨立的並且排列成行的模塊組成，這些模塊整體用M表示。每個模塊M基本相同，並且由二個重疊並且對準的層A和B組成。
例如上層A有一個真空處理室C，而下層B作為轉移室並且具有基質S的轉移裝置，轉移裝置把基質S轉移到其中一個室C中，或者從一個室轉移到下遊或上遊的直接在至少一個模塊旁邊或與該模塊分開的另一個室中。
每個模塊M的設計，特別是它們轉移裝置的設計使得一個基質在一個室中進行一種特殊處理期間，另一個基質可以轉移到另一個室中，以便進行另一個處理。
正如下面的描述中指出的，不同模塊M並列並排列成行，以便互相連通。確定二個相鄰模塊的轉移裝置也是為了綜合保證基質S從一個模塊轉移到另一個模塊。模塊並列後，不同模塊M特別是它們的下層B可以通過任何已知的適當方式互相連接，特別是通過簡單的螺釘進行連接。
對於每個模塊，轉移裝置包括二個平行的正向帶動的循環帶或循環鏈1、2。例如循環帶1和2與一些傳動輪3、4配合，傳動輪3、4通過一個共同的連接軸5、6兩兩連接。連接軸5自由安裝在一些軸承上，而連接軸6與一個動力機構7連接。顯然，描述和圖示的用於帶動循環帶1和2的例子僅僅作為示例給出，而不是限定性的。
每個循環帶1、2設有一些指杆8，這些指杆8相對，並且指向所述循環帶1、2形成的空間內。這些指杆8用於與基質底座9具有的互補形體9a配合。例如基質底座9由一個簡單的水平板構成。互補形體9a由一些溝槽形成。附圖中，基質或許多要處理的基質用一個平行六面體的體積表示。
人們發現，這些設置可以保證位於底座9上的基質S的移動，底座9的溝槽9a與指杆8配合。幾個模塊連接和並列後，基質S可以很容易地在一個確定的移動方向從一個模塊移動到另一個模塊，例如可以通過使馬達7的轉動反向而向後返回。
一個服從幾個零件的平臺10安裝在循環帶1和2之間，這些零件能夠保證平臺10的垂直移動，特別是向真空處理室C的方向上升，以便同時保證底座9上的基質在所述室C中的轉移。例如一個框架11支撐平臺10，框架11在所述平臺10的二側形成二個平行形成的空間11a和11b，以便可以容納循環帶1、2並使循環帶1、2通過。例如，框架11服從一組連杆12和曲柄13。所述曲柄鉸鏈連接在框架11的長邊的每一端和每個模塊底盤的一個固定部分上，而連杆12鉸鏈連接在槓桿13上，並與滾輪18結合，例如滾輪18與框架11配合。
例如連杆12和曲柄13的整體服從一個千斤頂14，千斤頂14鉸鏈連接在每個模塊底盤的一個固定部分上，以便可以在它的杆14a的移動作用下引導框架11和平臺10的整體在高度上從下向上和從上向下地移動。
平臺10在低位位於循環帶或循環鏈1和2的指杆形成的上平面以下。在這個低位，底座和基質S的整體可以有規律地轉移，而不受平臺10的妨礙。平臺10的高位作為所考慮的真空處理室的密封門。
例如基質S的底座9的不同移動和轉移裝置安裝在下層。每個模塊M由一個與滾動機構15結合的結構16構成。例如結構16構成一個整體為平行六面體的箱子。如果需要，結構的上部可以有一個用於密封固定真空處理室C的支撐平面16b。支撐平面有一個用於嵌入基質S和底座9整體的開口16a。處理基質S時，下層B與上層A之間的連通開口16a被平臺10密封堵塞，平臺10作為基質S和板子9整體的底座。
與每個模塊的下層B有關並接受移動和轉移裝置的結構16構成一個可以形成一個箱子或一個可以抽真空的隔離空間。幾個模塊連接後，通過各種技術人員已知的和適當的方法使不同的隔離空間16同時抽真空。
現在回到圖3、4、5、6，對每個模塊，這些圖表示基質從一個模塊向另一個模塊線形移動以及轉移到所考慮的真空處理室的原理。
圖3表示一個平臺10在底部位置的模塊，平臺10在二個循環帶或循環鏈1、2之間，在所述循環帶1、2的傳動銷形成的上平面以下。底座9上的基質S在所考慮的處理模塊的入口處。
在圖4中，板子9和基質S的整體通過溝槽9a與傳動銷8配合，基質的整體通過循環帶1、2線性移動，平臺10始終位於底部，以便不妨礙基質整體的線性移動。當基質整體與所考慮的真空處理室的開口16b相對並對準這個開口時，控制千斤頂14作用在連杆12和曲柄13的整體上，以便同時使平臺10產生一個高度方向的移動以及支撐板9和基質S在高度方向的移動(圖5、6)。
平臺10在高位(圖6)保證真空處理室的開口16a密封關閉。
重要的是，在平臺的這個高位中，正在處理另一個基質時(圖1的基質S1)，其它基質可以從一個模塊向另一個模塊線性移動。
顯然，使基質在上面指出的條件下移動和轉移的各種控制裝置根據所考慮的處理周期服從可編程的中央控制。對於處理隔離空間，除了某些對所考慮的處理的特殊附件外，所有模塊都是相同的。
與現有的技術方法相反，由於這些設置，一個模塊的比較長的處理時間不會減少，但是整個處理周期縮短。例如，如果考慮一個需要幾個10分鐘的處理和一個30分鐘的處理的基質，根據本發明，為了管理相當於30分鐘的處理時間，對於這個30分鐘的處理時間，將給設備設置三個完全相同的模塊，以便重新回到每次裝料10分鐘的處理時間。因此把整體處理的速度調節到最短的處理時間，而不是調節到最長的處理時間。
從描述中可以很好地看出本發明的優點。
權利要求
1.特別用於基質(S)的真空處理的設備，其特徵在於，該設備由多個獨立的並且排列成行的模塊(M)組成，每個模塊包括一真空處理室(C)和一帶有基質轉移裝置的轉移室(B)，所述轉移裝置把基質轉移到其中一個室中，或者從一個室轉移到下遊或上遊的直接在至少一個模塊旁邊或與該模塊分開的另一個室中，使得一個基質在一個室內進行一種特殊處理期間，另一個基質可以轉移到另一個室內，以便進行另一個處理。
2.如權利要求1所述的設備，其特徵在於，每個模塊(M)由兩個重疊並對準的層組成，其中一層(A)具有所述真空處理室，而另一層(B)具有所述轉移裝置。
3.如權利要求2所述的設備，其特徵在於，不同模塊(M)並排成行，以便互相連通，所述兩個相鄰模塊的轉移裝置組合保證把基質從一個模塊轉移到另一個模塊。
4.如權利要求1所述的設備，其特徵在於，所述轉移裝置包括兩個正向帶動的循環帶或循環鏈(1)和(2)，所述循環帶或循環鏈(1)和(2)配設有一些指杆(8)，所述指杆(8)能夠與一基質底座(9)具有的互補形體(9a)配合使用，一個服從一些零件的平臺(10)安裝在所述循環帶(1)和(2)之間，這些零件能夠保證所述平臺(10)的移動並向所述真空處理室方向上升，以便同時保證基質轉移到所述室內。
5.如權利要求4所述的設備，其特徵在於，當所述基質底座(9)和基質(S)從一個模塊向另一個模塊線性移動時，所述平臺(10)位於所述循環傳動帶或傳動鏈(1)和(2)的指杆形成的平面以下。
6.如權利要求4所述的設備，其特徵在於，所述平臺(10)用作為所述真空處理室的密封門。
7.如權利要求4所述的設備，其特徵在於，能夠保證所述平臺垂直移動的零件由一組連杆(12)和曲柄(13)構成，所述連杆和曲柄組服從至少一個千斤頂類型的控制機構(14)。
8.如權利要求1所述的設備，其特徵在於，所述具有轉移裝置的層(B)構成一個支撐結構，在它的下部包括所述轉移裝置，而在它的上部有一個用於密封固定所述真空處理室的支撐平面，所述支撐平面有一用於嵌入基質的開口。
9.如權利要求1所述的設備，其特徵在於，模塊的接受所述轉移裝置的部分(B)構成一個能夠抽真空的隔離空間，多個模塊(M)連接後，不同的隔離空間同時抽真空。
全文摘要
該設備的特徵在於由幾個獨立的並且排列成行的模塊(M)組成，每個模塊包括一個真空處理室(C)和一個帶有基質轉移裝置的轉移室(B)，轉移裝置把基質轉移到其中一個室中，或者從一個室轉移到下遊或上遊的直接在至少一個模塊旁邊或與該模塊分開的另一個室中，使得一個基質在一個室內進行一種特殊處理期間，另一個基質可以轉移到另一個室內，以便進行另一個處理。
文檔編號H01L21/00GK1681962SQ03821982
公開日2005年10月12日 申請日期2003年7月23日 優先權日2002年8月1日
發明者吉勒·富爾宗, 讓-馬克·普瓦爾松 申請人:泰克瑪西納股份有限公司