用於發光元件的反射膜用組合物、發光元件及其製造方法

2023-04-28 07:29:36

專利名稱：用於發光元件的反射膜用組合物、發光元件及其製造方法
技術領域：
本發明涉及用於發光元件的反射膜用組合物、通過該用於發光元件的反射膜用組合物製造的發光元件以及發光元件的製造方法。更具體地說，涉及依次具備發光層、透光性基板和反射由發光層發出的光的反射膜的、具備有效地反射由發光層發出的光的反射層的發光元件以及發光元件的製造方法。
背景技術：
近年來，發光元件、尤其其中的LED光源伴隨高亮度化等，利用於各種領域中。特別是由於能夠實現白色LED光源，因此被用於照明器具、液晶顯示器的背光等用途中。為了進一步提高LED光源的亮度等，對更有效地利用來自LED元件的發光進行了 研究，公開了一種LED光源，該LED光源具有基板、搭載在支撐基板上的LED元件和含螢光劑的密封劑，在基板與LED元件之間具備反射LED元件的發光的鍍Ag電極膜，在鍍Ag電極膜上具有鈦薄膜(專利文獻I)。該LED光源中，通過在基板與LED元件之間設置反射膜層，有效地反射來自發光體的光而增加發光強度。其中，Ag薄膜和鈦薄膜通過電鍍法和真空成膜法形成。通常，說到電鍍法能預想到煩雜的工序、廢液的產生，說到真空成膜法，為了維持和運轉大型的真空成膜裝置，需要很大的成本。在上述LED光源中，由於僅有鍍Ag電極膜，會產生熱劣化、光劣化，因此需要鈦薄膜，並需要並用電鍍法和真空成膜法。此外，該發明以依次具備發光層、透光性基板和反射由發光層發出的光的反射膜的發光元件為對象，在發光層與透光性基板之間不存在反射膜。這種構成中，由於通常僅有鍍Ag電極膜，會產生熱劣化、光劣化，因此需要並用電鍍法和真空成膜法。專利文獻I :日本特開2009-231568號公報

發明內容
本發明以解決上述問題為課題。本發明的目的在於，提供通過反射由發光元件發出的光、且改善具有電極作用的反射膜的薄膜形成法，可以抑制由於反射膜的熱和環境帶來的劣化、且使製造工序簡便、大幅改善運行成本的發光元件及發光元件的製造方法。本發明涉及通過以下所示的技術方案解決上述課題的用於發光元件的反射膜用組合物、用於發光元件的加強膜用組合物及發光元件。本發明的第I方案為用於發光元件的反射膜用組合物，用於依次具備發光層、透光性基板和反射由發光層發出的光的反射膜的發光元件，反射膜用組合物含有金屬納米粒子。本發明的第2方案為上述第I方案涉及的用於發光元件的反射膜用組合物，進而含有添加物。本發明的第3方案為上述第I或第2方案涉及的用於發光元件的反射膜用組合物，進而含有分散介質。
本發明的第4方案為用於發光元件的加強膜用組合物，用於依次具備發光層、透光性基板、反射由發光層發出的光的反射膜和加強膜的發光元件，加強膜用組合物含有粘合劑。本發明的第5方案為上述第4方案涉及的用於發光元件的加強膜用組合物，其中，進而含有選自二氧化矽類粒子、矽酸鹽粒子、金屬粒子或金屬氧化物粒子中的一種或兩種以上的微粒或扁平粒子。本發明的第6方案為發光兀件,依次具備發光層、透光性基板和反射由發光層發出的光的反射膜，反射膜含有金屬納米粒子。本發明的第7方案為上述第6方案涉及的發光元件，所述反射膜進而含有添加物。本發明的第8方案為上述第6或第7方案涉及的發光元件，進而具備加強膜，依次具備所述發光層、所述透光性基板、所述反射膜和所述加強膜，所述加強膜含有粘合劑。本發明的第9方案為上述第8方案涉及的發光元件，其中，所述加強膜進而含有選自二氧化矽類粒子、矽酸鹽粒子、金屬粒子或金屬氧化物粒子中的一種或兩種以上的微粒或扁平粒子。本發明的第10方案為上述第6 第9中任一方案涉及的發光元件，所述反射膜能通過溼式塗布法製造。本發明的第11方案為上述第8或第9方案涉及的發光元件，所述加強膜通過溼式塗布法製造。本發明的第12方案為上述第6 第11中任一方案涉及的發光元件，所述反射膜的厚度為0. 05 ~ I. Oum0本發明的第13方案為發光元件的製造方法，其中，在透光性基板上利用溼式塗布法塗布含有金屬納米粒子和添加物的反射膜用組合物後，通過燒成或固化形成反射膜，在透光性基板的反射膜的相反面形成發光層。上述發光元件的製造方法中，可以使用本發明的用於發光元件的反射膜形成用組合物。本發明的第14方案為上述第13方案涉及的發光元件的製造方法，在形成上述反射膜之後、形成發光層之前，進而在反射膜上利用溼式塗布法塗布含有粘合劑的加強膜用組合物後，通過燒成或固化形成加強膜。上述發光元件的製造方法中，可以使用本發明的用於發光元件的加強膜形成用組合物。根據本發明的用於發光元件的反射膜形成用組合物，通過金屬納米粒子，即使為高輸出功率的發光元件，也可以提高耐熱性、耐腐蝕性，可以提供能抑制由發光層產生的熱或環境帶來的反射膜的劣化的高壽命發光元件。該反射膜能用於各種光源，特別適用於LED光源。此外，該反射膜能夠通過溼式塗布法製造，因此製造工序簡便，可以以低成本製造。此外，根據本發明，可以提供耐熱性、耐腐蝕性更高的發光元件。
根據本發明的發光元件，可以提高透光性基板與發光層的密合性，提高發光元件的可靠性。此外，具備加強膜的本發明的發光元件，耐熱性、耐腐蝕性高，抑制由發光層產生的熱或環境帶來的反射膜的劣化，壽命高。
根據本發明的發光元件的製造方法，能簡便地以低成本得到耐熱性、耐腐蝕性高的發光元件。


圖I為表不本發明的發光兀件的一例的截面圖。圖2為表不本發明的發光兀件的優選一例的截面圖。
具體實施例方式以下基於實施方式對本發明進行具體的說明。而且，除非％特別表示，否則除了數值固有的情況之外為質量％。[用於發光元件的反射膜用組合物]
本發明的用於發光元件的反射膜用組合物(以下稱為反射膜用組合物)的特徵在於，其為用於依次具備發光層、透光性基板和反射由發光層發出的光的反射膜的發光元件的反射膜用組合物，反射膜用組合物含有金屬納米粒子。金屬納米粒子對燒成或固化後的反射膜用組合物、即對反射膜賦予由發光層發出的光的反射性。作為金屬納米粒子，可以舉出選自銀、金、鉬、鈀、釕、鎳、銅、錫、銦、鋅、鐵、鉻和錳中的一種或兩種以上的混合組成或合金組成，從反射性、導電性的觀點考慮優選為銀、金。金屬納米粒子的平均粒徑優選為10 50nm。其中，平均粒徑通過比表面積測定使用BET法進行測定。例如,在比表面積測定中，可以使用Quantachrome Instruments的QUANTACHROME AUT0S0RB-1。金屬納米粒子的形狀從分散性、反射性的觀點考慮優選為球狀、板狀。反射膜用組合物從反射膜的密合性、反射性的觀點考慮，優選含有添加物。作為添加物，從反射性、密合性的觀點考慮，更優選含有選自有機高分子、金屬氧化物、金屬氫氧化物、有機金屬化合物和矽油中的至少一種。作為用作添加物的有機高分子，從反射性的觀點考慮，優選為選自聚乙烯吡咯烷酮、聚乙烯吡咯烷酮的共聚物和水溶性纖維素中的至少一種。作為聚乙烯吡咯烷酮的共聚物，可以舉出PVP-甲基丙烯酸酯共聚物、PVP-苯乙烯共聚物、PVP-乙酸乙烯酯共聚物等。此外，作為水溶性纖維素，可以舉出羥丙甲基纖維素、甲基纖維素、羥乙基甲基纖維素等纖維素醚。作為用作添加物的金屬氧化物，優選為含有選自鋁、矽、鈦、鋯、鉻、錳、鐵、鈷、鎳、銀、銅、鋅、鑰、錫、銦和銻中的至少一種的氧化物或複合氧化物。複合氧化物，具體地說可以舉出含有上述金屬的IT0(Indium Tin Oxide、錫摻雜氧化銦)、ATO(Antimony-dopedTin Oxide、鋪慘雜氧化錫)、IZO(Indium-doped Zinc Oxide、銦慘雜氧化鋒)、AZO(Aluminum-doped Zinc Oxide、招慘雜氧化鋒)等。作為用作添加物的金屬氫氧化物，優選為含有選自鋁、矽、鈦、鋯、鉻、錳、鐵、鈷、鎳、銀、銅、鋅、鑰、錫、銦和銻中的至少一種的氫氧化物。作為用作添加物的有機金屬化合物，優選為含有選自矽、鈦、鋯、鉻、錳、鐵、鈷、鎳、
銀、銅、鋅、鑰和錫中的至少一種的金屬皂、金屬配合物、金屬醇鹽或金屬醇鹽的水解物。例如，作為金屬皂，可以舉出乙酸鉻、甲酸錳、檸檬酸鐵、甲酸鈷、乙酸鎳、檸檬酸銀、乙酸銅、檸檬酸銅、乙酸錫、乙酸鋅、草酸鋅、乙酸鑰等。此外，作為金屬配合物，可以舉出乙醯丙酮鋅配合物、乙醯丙酮鉻配合物、乙醯丙酮鎳配合物等。此外，作為金屬醇鹽，可以舉出異丙醇鈦、矽酸甲酯、異氰酸丙基三甲氧基矽烷、氨基丙基三甲氧基矽烷等。作為用作添加物的娃油，可以使用純娃油(Straight silicone oil)和改性娃油這兩者。作為改性矽油，可以進而使用在聚矽氧烷的側鏈的一部分導入有機基團的矽油(側鏈型)、在聚矽氧烷的兩末端導入有機基團的矽油(兩末端型)、在聚矽氧烷的兩末端中的任意一方導入有機基團的娃油(單末端型)以及在聚娃氧燒的側鏈的一部分和兩末端導入有機基團的娃油(側鏈兩末端型)。改性娃油中有反應性娃油和非反應性娃油，可以同時 使用該兩種作為本發明的添加物。而且，反應性矽油表示氨基改性矽油、環氧基改性矽油、羧基改性矽油、甲醇改性矽油、巰基改性矽油和異種官能團改性(環氧基、氨基、聚醚基)矽油，非反應性矽油表示聚醚改性矽油、甲基苯乙烯基改性矽油、烷基改性矽油、高級脂肪酸酯改性矽油、氟改性矽油和親水特殊改性矽油。此外，從塗布性的觀點考慮，反射膜用組合物優選含有分散介質。分散介質相對於全部分散介質100質量％，含有I質量％以上、優選2質量％以上的水和2質量％以上、優選3質量％以上的與水相容的溶劑、例如醇類是適宜的。例如，分散介質僅包含水和醇類時，含有2質量％的水時含有98質量％的醇類，含有2質量％的醇類時含有98質量％的水。進一步地，分散介質、即對金屬納米粒子表面進行化學修飾的保護分子含有羥基(-0H)或羰基(-C = 0)中的任意一方或雙方。相對於全部分散介質100質量水的含量優選為I質量％以上。這是因為水的含量小於2質量％時，難以在低溫下燒結通過溼式塗布法塗布反射膜用組合物得到的膜。而且是因為會造成燒成後的反射膜的反射率降低。另外，羥基(-0H)若含有在對銀納米粒子等金屬納米粒子進行化學修飾的保護劑中，則反射膜用組合物的分散穩定性優異，對塗膜的低溫燒結也具有有效的作用。此外，羰基(-C = 0)若含有在對銀納米粒子等金屬納米粒子進行化學修飾的保護劑中，則與上述相同地，反射膜用組合物的分散穩定性優異，對塗膜的低溫燒結也具有有效的作用。作為分散介質中使用的與水相容的溶劑，優選為醇類。其中，作為上述醇類，更優選使用選自甲醇、乙醇、丙醇、丁醇、乙二醇、丙二醇、二甘醇、甘油、異冰片基己醇和赤蘚醇中的一種或兩種以上。相對於除去分散介質的反射膜用組合物100質量份，金屬納米粒子若為75質量份以上則從反射性的觀點考慮優選，若為80質量份以上則更優選。此外，若為95質量份以下，則從反射膜的密合性的觀點考慮優選，若為80質量份以上則更優選。而且，若想對反射膜賦予導電性時，相對於反射膜100質量份，金屬納米粒子優選為75質量份以上，更優選為80質量份以上。相對於反射膜用組合物100質量份,從塗布性的觀點考慮優選分散介質為50 99
質量份。此外，反射膜用組合物根據使用的成分，優選加入低電阻化劑(低抵抗化剤)、水溶性纖維素衍生物。作為低電阻化劑，更優選為選自鈷、鐵、銦、鎳、鉛、錫、鈦和鋅的無機酸鹽及有機酸鹽中的一種或兩種以上。可以舉出例如乙酸鎳與氯化鐵的混合物、萘酸鋅、辛酸錫與氯化銻的混合物、硝酸銦與乙酸鉛的混合物、乙醯基乙酸鈦與辛酸鈷的混合物等。相對於反射膜用組合物，優選低電阻化劑為0. 2 15質量份。水溶性纖維素衍生物為非離子化表面活性劑，與其它的表面活性劑相比，即使少量添加，分散金屬納米粒子的能力也極高，此外，通過水溶性纖維素衍生物的添加，也能提高形成的反射膜的反射性。作為水溶性纖維素衍生物，可以舉出羥丙基纖維素、羥丙甲基纖維素等。相對於反射膜用組合物100質量份，優選水溶性纖維素衍生物為0. 2 5質量份。在不損害本發明目的的範圍內，進而根據需要，反射膜用組合物可以配合抗氧化劑、流平劑、觸變劑、填充物、應力釋放劑、其它添加劑等。[加強膜用組合物]用於發光元件的加強膜用組合物(以下稱為加強膜用組合物)為用於依次具備發光層、透光性基板、反射由發光層發出的光的反射膜和加強膜的發光兀件的加強膜用組合物，加強膜用組合物含有粘合劑。加強膜用組合物可以形成加強膜，此外在反射膜具有空孔時，滲透到反射膜，在反射膜的空孔和/或反射膜與增反射透明膜的界面含有粘合劑，可以提高反射膜本身的強度或反射膜與增反射透明膜的密合強度。
粘合劑優選含有通過紫外線照射、加熱或者在紫外線照射後加熱而固化的聚合物型粘合劑的有機系或無機系基底材料，或者非聚合物型粘合劑的無機系基底材料中的任意一方或雙方。聚合物型粘合劑的有機系基底材料優選含有選自丙烯酸類、環氧類、聚氨酯類、丙烯酸聚氨酯類、環氧丙烯酸類、纖維素類和矽氧烷類的聚合物中的一種或兩種以上。作為丙烯酸類粘合劑，能使用向丙烯酸類單體中添加光聚合引發劑，對該混合物照射紫外線(UV)，進行光聚合而得到的丙烯酸類聚合物。作為丙烯酸類單體，可以舉出選自1,6-己二醇二丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三丙烯酸酯、新戊二醇二丙烯酸酯、四羥甲基甲烷四丙烯酸酯、二(三羥甲基丙烷)四丙烯酸酯、1，9_壬二醇二丙烯酸酯、二縮三丙二醇二丙烯酸酯、環氧化三聚異氰酸三丙烯酸酯和四羥甲基甲烷四丙烯酸酯中的一種或兩種以上的單一單體或混合單體。這些單體中，優選添加MIBK (甲基異丁基酮)、PGME(1-甲氧基-2-丙醇)、PGMEA(丙二醇單甲醚乙酸酯)等溶劑。其中，若為可以溶解上述單體的一般有機溶劑，則可以使用乙醇、甲醇、苯、甲苯、二甲苯、NMP(N-甲基吡咯烷酮)、丙烯腈、乙腈、THF(四氫呋喃)、乙酸乙酯、MEK(甲乙酮)、二甘醇一丁醚、二甘醇一丁醚乙酸酯、丁基溶纖劑、丁基溶纖劑乙酸酯、二甘醇一乙醚、二甘醇一乙醚乙酸酯、IPA(異丙醇)、丙酮、DMF(二甲基甲醯胺)、DMS0(二甲基亞碸)、哌唆、苯酚等。此外，作為光聚合引發劑，可以舉出I-羥基-環己基-苯基-酮、2-羥基-2-甲基-I-苯基-I丙烷-I-酮、2-羥基-l-[4-[4- (2-羥基-2-甲基-丙醯基)_苄基]-苯基]-2-甲基-丙烷-I-酮、1-[4-(2_羥基乙氧基)-苯基]-2-羥基-2-甲基-I-丙烷-I-酮等。丙烯酸類單體，可以用上述任意的溶劑稀釋、調整為易塗布的粘度來使用。相對於丙烯酸類單體100質量份，添加0. I 30質量份的光聚合引發劑。這是由於，相對於丙烯酸類單體100質量份，光聚合引發劑的添加量小於0. I質量份時固化變得不充分，若超過30質量份則固化膜(加強膜)變色或殘留應力而引起密合不良。如此，向丙烯酸類單體中添加溶劑和光聚合引發劑，進行攪拌，得到的混合物作為加強膜用組合物的基底液。而且，向丙烯酸類單體中添加溶劑和光聚合引發劑，進行攪拌，得到的混合液不均勻的情況下，還可以加溫至40°C左右。作為環氧類粘合劑，能使用向環氧類樹脂中添加溶劑進行攪拌，向該混合液中添加熱固化劑，進行攪拌得到混合液，對所得到的混合液進行加熱而得到的環氧類聚合物。作為環氧類樹脂，可以舉出聯苯型環氧樹脂、甲酚酚醛環氧樹脂、雙酚A型環氧樹脂、雙酚F型環氧樹脂、萘型環氧樹脂等。此外，作為溶劑，可以舉出BCA (二甘醇一丁醚乙酸酯)、ECA (二甘醇一乙醚乙酸酯)、BC(二甘醇一丁醚)等。其中，若為可以溶解上述環氧類樹脂的一般有機溶劑，則可以使用乙醇、甲醇、苯、甲苯、二甲苯、PGME(1-甲氧基-2-丙醇)、PGMEA(丙二醇單甲醚乙酸酯)、NMP (N-甲基吡咯烷酮)、MIBK (甲基異丁基酮)、丙烯腈、乙腈、THF (四氫呋喃)、乙酸乙酯、MEK(甲乙酮)、二甘醇一丁醚、二甘醇一丁醚乙酸酯、丁基溶纖劑、丁基溶纖劑乙酸酯、二甘醇一乙醚、二甘醇一乙醚乙酸酯、IPA(異丙醇)、丙酮、DMF(二甲基甲醯胺)、DMSO(二甲基亞碸)、哌啶、苯酚等。進一步地，作為熱固化劑，可以舉出2-乙基-4-甲基咪唑、氟化硼 單乙醇胺、DICY(雙氰胺)、二乙基氨基丙基胺、異佛爾酮二胺、二氨基二苯基甲烷、哌啶、2，4，6_三-(二甲基氨基甲基)苯酚、2-甲基咪唑、六氫鄰苯二甲酸酐、7，11-十八碳二烯-1，18-二碳醯肼等。環氧類樹脂，可以用上述任意的溶劑稀釋、調整為易塗布的粘度來使用。相對於環氧類樹脂100質量份，添加熱固化劑0.5 20質量份。這是由於，相對於環氧類樹脂100質量份，熱固化劑的添加量小於0. 5質量份時，固化變得不充分，若超過20質量份，則對固化物(加強膜)產生大的內部應力，引起密合性不良。如此，向環氧類樹脂中添加溶劑和熱固化劑，進行攪拌，得到的混合物作為加強膜用組合物的基底液。而且，向環氧類樹脂中添加溶劑，進行攪拌，得到的混合液不均勻的情況下，還可以加溫至40°C左右。纖維素類粘合劑能通過向纖維素類聚合物中添加溶劑，進行攪拌，向該混合液中添加明膠，進行攪拌得到混合液，對所得到的混合液進行加熱而得到。作為纖維素類聚合物，可以舉出作為水溶性纖維素衍生物的羥丙基纖維素、羥丙甲基纖維素、甲基纖維素、羥乙基甲基纖維素等。此外，作為溶劑，可以舉出IPA (異丙醇)、乙醇、甲醇、PGME (丙二醇單甲醚)、PGMEA(丙二醇單甲醚乙酸酯)、MIBK(甲基異丁基酮)、丙酮等。纖維素類聚合物，可以用上述任意的溶劑稀釋、調整為易塗布的粘度來使用。相對於纖維素類聚合物100質量份，添加明膠0. I 20質量份。這是由於，相對於纖維素類聚合物100質量份，若明膠的添加量小於0. I質量份或超過20質量份，則得不到適合塗布的粘度。如此，向纖維素類樹脂中添加溶劑和明膠，進行攪拌，得到的混合物作為加強膜用組合物的基底液。而且，向纖維素類聚合物中添加溶劑和明膠，加溫至30°C左右並進行攪拌，從而混合液變得均勻。使用有熱固化性聚氨酯樹脂的聚氨酯類粘合劑如下製備。首先，使以三羥甲基丙烷或新戊二醇等多元醇化合物為代表的多元醇成分與以甲苯二異氰酸酯(TDI)、二苯甲烷異氰酸酯(MDI)等為代表的過量的聚異氰酸酯化合物反應，從而得到末端含活性異氰酸酯基的聚氨酯預聚物。接著，使該末端含活性異氰酸酯基的聚氨酯預聚物與以甲基苯酚為代表的酚類、以￠-丁內醯胺為代表的內醯胺類、或者以甲乙酮肟為代表的肟類等嵌段化劑反應。作為溶劑，能使用酮類、烷基苯類、溶纖劑類、酯類、醇類等。作為酮類的具體例，可以舉出丙酮、甲乙酮等，作為烷基苯類的具體例，可以舉出苯、甲苯等。此外，作為溶纖劑的具體例，可以舉出甲基溶纖劑、丁基溶纖劑等，作為酯類的具體例，可以舉出丁基溶纖劑乙酸酯、乙酸丁酯等，作為醇類的具體例，可以舉出異丙醇、丁醇等。另一方面，作為熱固化劑 (反應劑)，能使用多兀胺。作為多兀胺的具體例，可以舉出N-辛基-N-氨基丙基-N』 -氨基丙基丙二胺、N-月桂基-N-氨基丙基-N』 -氨基丙基丙二胺、N-肉豆蘧基-N-氨基丙基-N』-氨基丙基丙二胺、N-辛基-N-氨基丙基_N』，N』- 二(氨基丙基)丙二胺等。對使上述多元醇成分與異氰酸酯化合物反應得到的末端含活性異氰酸酯基的聚氨酯預聚物實施利用嵌段劑進行的嵌段化，從而製作嵌段聚異氰酸酯。多元胺具有的氨基相對於該嵌段聚異氰酸酯具有的異氰酸酯基的當量比優選為I左右(0. 7 I. I的範圍)。這是由於，若多元胺具有的氨基相對於嵌段聚異氰酸酯具有的異氰酸酯基的當量比小於0. 7或超過I. 1，則嵌段聚異氰酸酯和多元胺中的一方增多，反應變得不充分，因此變得固化不充分。聚氨酯聚合物，可以用上述任意的溶劑稀釋、調整為易塗布的粘度來使用。作為丙烯酸聚氨酯類粘合劑，含有聚氨酯丙烯酸酯類低聚物，可以舉出通過紫外線(UV)的照射固化的、紫光UV-3310B或紫光UV-6100B(日本合成社制)、EBECRYL4820或EBECRYL284 (夕W七> 寸〗f ^社制)、U_4HA或UA-32P (新中村化學工業社制)等丙烯酸聚氨酯類聚合物。而且，根據需要添加丙烯酸酯類中使用的光聚合引發劑(例如I-羥基-環己基-苯基-酮、2-羥基-2-甲基 -I-苯基-丙烷-I-酮等)，從而可以提高固化性。此外，作為溶劑，能使用酮類、烷基苯類、溶纖劑類、酯類、醇類等。作為酮類的具體例，可以舉出丙酮、甲乙酮等，作為烷基苯類的具體例，可以舉出苯、甲苯等。作為溶纖劑類的具體例，可以舉出甲基溶纖劑、丁基溶纖劑等，作為酯類的具體例，可以舉出丁基溶纖劑乙酸酯、乙酸丁酯等，作為醇類的具體例，可以舉出異丙醇、丁醇等。相對於丙烯酸聚氨酯類聚合物100質量份，根據需要在0. I 30質量份的範圍內添加光聚合引發劑。這是由於，光聚合引發劑的添加量小於0. I質量份時，固化變得不充分，若超過30質量份，則背面電極加強膜的內部應力增大，變得密合性不良。此外，丙烯酸聚氨酯類單體，可以用上述任意的溶劑稀釋，調整為易塗布的粘度來使用。作為環氧丙烯酸類粘合劑，能使用環氧丙烯酸類聚合物。作為環氧丙烯酸類聚合物，可以舉出雙酚A型環氧丙烯酸酯(例如新中村化學工業社制的NK ^ ') 3' EA-1020)U,6-己二醇二縮水甘油基醚二丙烯酸酯(例如新中村化學工業社制的NK ^ 'J 3'' EA-5521)等。此外，還可以使用日本二匕。力社制的才、才*。一> 8318、才、才*。一> 8355等。作為溶劑，能使用酮類、烷基苯類、溶纖劑類、酯類、醇類等。作為酮類的具體例，可以舉出丙酮、甲乙酮等，作為烷基苯類的具體例，可以舉出苯、甲苯等。作為溶纖劑類的具體例，可以舉出甲基溶纖劑、丁基溶纖劑等，作為酯類的具體例，可以舉出丁基溶纖劑乙酸酯、乙酸丁酯等，作為醇類的具體例，可以舉出異丙醇、丁醇等。根據需要，能向環氧丙烯酸酯類聚合物中添加熱固化劑、光聚合引發劑。於是，通過熱固化劑、光聚合引發劑，進行加熱固化或UV固化，或者在UV固化後進行加熱固化。此外，環氧丙烯酸酯類聚合物，可以用上述任意的溶劑稀釋、調整為易塗布的粘度來使用。作為矽氧烷類粘合劑，能使用矽氧烷類聚合物。作為矽氧烷類聚合物，可以舉出聚二甲基矽氧烷、聚甲基氫化矽氧烷、聚甲基苯基矽氧烷等。此外，作為這裡所示的矽氧烷類聚合物，可以使用純娃油(Straight silicone oil)和改性娃油這兩者。作為改性娃油，可以進而使用在聚矽氧烷的側鏈的一部分導入有機基團的矽油(側鏈型)、在聚矽氧烷的兩末端導入有機基團的矽油(兩末端型)、在聚矽氧烷的兩末端中的任意一方導入有機基團的娃油(單末端型)以及在聚娃氧燒的側鏈的一部分和兩末端導入有機基團的娃油(側鏈兩末端型)等。改性矽油中有反應性矽油和非反應性矽油，可以使用該雙方。而且，反應性矽油表示氨基改性矽油、環氧基改性矽油、羧基改性矽油、甲醇改性矽油、巰基改性矽油或異種官能團改性(環氧基、氨基、聚醚基)矽油，非反應性矽油表示聚醚改性矽油、甲基苯乙烯基改性矽油、烷基改性矽油、高級脂肪酸酯改性矽油、氟改性矽油或親水特殊改性矽油。此外，作為溶劑，能使用酮類、烷基苯類、溶纖劑類、酯類、醇類等。作為酮類的具體例，可以舉出丙酮、甲乙酮等。作為烷基苯類的具體例，可以舉出苯、甲苯等。此外，作為溶纖劑類的具體例，可以舉出甲基溶纖劑、丁基溶纖劑等。作為酯類的具體例，可以舉出丁基溶纖劑乙酸酯、乙酸丁酯等。作為醇類的具體例，可以舉出異丙醇、丁醇等。根據需要，能向矽氧烷類聚合物中添加熱固化劑、光聚合引發劑，然而即使不加入熱固化劑膜也固化的情況下，無需熱固化劑。此外，矽氧烷類聚合物，可以用上述任意的溶劑稀釋、調整為易塗布的粘度來使用。聚合物型粘合劑的無機系基底材料優選含有選自金屬阜、金屬配合物、金屬醇鹽和金屬醇鹽的水解物中的一種或兩種以上。這些聚合物型粘合劑的無機系基底材料為通過加熱從有機系變化為無機系基底材料的材料。即，可以通過燒成形成具有無機系基底材料性質的膜。而且，上述金屬皂、金屬配合物、金屬醇鹽或金屬醇鹽的水解物中含有的金屬優選為選自鋁、矽、鈦、鋯和錫中的一種或兩種以上。作為上述金屬皂，可以舉出乙酸鉻、甲酸錳、檸檬酸鐵、甲酸鈷、乙酸鎳、檸檬酸銀、乙酸銅、檸檬酸銅、乙酸錫、乙酸鋅、草酸鋅、乙酸鑰等。作為金屬配合物，可以舉出乙醯丙酮鋅配合物、乙醯丙酮鉻配合物、乙醯丙酮鎳配合物等。作為金屬醇鹽，可以舉出異丙醇鈦、矽酸甲酯、異氰酸丙基三甲氧基矽烷、氨基丙基三乙氧基矽烷等。 另一方面，作為非聚合物型粘合劑的無機系基底材料，可以舉出SiO2結合劑。該SiO2結合劑能像如下所示的一例那樣製作。首先，攪拌的同時將HCl溶解在純水中，製備HCl水溶液。接著，將四乙氧基矽烷與乙醇混合，向該混合液中加入上述HCl水溶液後，力口熱進行反應。由此，製作SiO2結合劑。此外，非聚合物型粘合劑優選含有選自金屬皂、金屬配合物、金屬醇鹽、金屬醇鹽的水解物、滷代矽烷類、2-烷氧基乙醇、3 - 二酮和烷基乙酸酯中的一種或兩種以上。該金屬醇鹽的水解物中含有溶膠凝膠。而且，上述金屬皂、金屬配合物、金屬醇鹽或金屬醇鹽的水解物中含有的金屬優選為選自鋁、矽、鈦、鋯和錫中的一種或兩種以上。作為金屬皂，可以舉出乙酸鉻、甲酸錳、檸檬酸鐵、甲酸鈷、乙酸鎳、檸檬酸銀、乙酸銅、檸檬酸銅、乙酸錫、乙酸鋅、草酸鋅、乙酸鑰等，作為金屬配合物，可以舉出乙醯丙酮鋅配合物、乙醯丙酮鉻配合物、乙醯丙酮鎳配合物等，作為金屬醇鹽，可以舉出異丙醇鈦、矽酸甲酯、異氰酸丙基三甲氧基矽烷、氨基丙基三乙氧基矽烷等。作為滷代矽烷類，可以舉出氯矽烷、溴矽烷、氟矽烷等。作為2-烷氧基乙醇，可以舉出2-甲氧基乙醇、2-乙氧基乙醇、2-丁氧基乙醇等。作為￠-二酮，可以舉出2，4_戊二酮、1，3_ 二苯基-1，3-丙二酮等。作為烷基乙酸酯，可以舉出乙二醇單甲醚乙酸酯、丙二醇單甲醚乙酸酯等。此外，加強膜用組合物可含有選自矽烷偶聯劑、鋁偶聯劑和鈦偶聯劑中的一種或兩種以上。加強膜用組合物通過含有矽烷偶聯劑、鋁偶聯劑等，可以進一步提高加強膜對反射膜的密合性。因此，在I塊透光性基板上形成多個發光層後，通過切割從反射膜側在透光性基板上形成分割槽，使用分割為各發光元件的工序時，可以抑制加強膜從反射膜剝離。此外，加強膜用組合物可以含有選自二氧化矽粒子、矽酸鹽粒子、金屬粒子或金屬氧化物粒子中的一種或兩種以上的微粒或扁平粒子。例如，加強膜用組合物可以含有選自膠體二氧化矽、氣相二氧化矽粒子、二氧化矽粒子、雲母粒子和蒙脫石粒子中的一種或兩種以上的微粒或扁平粒子。膠體二氧化矽為SiO2或其水合物的膠體，平均粒徑為I lOOnm，優選為5 50nm,不具有一定的結構。氣相二氧化娃粒子將娃氯化物氣化、在高溫的火焰中於氣相狀態下被氧化而生成，平均粒徑為I 50nm，優選為5 30nm。二氧化矽粒子是平均粒徑為I lOOnm、優選5 50nm的粒子。雲母粒子是通過合成法製備的平均粒徑為10 50000nm的粒子，優選平均直徑為I 20 y m、且平均厚度為10 IOOnm的扁平粒子。蒙脫石粒子是具有通過離子鍵等構成的面以相互弱的鍵合力平行地重疊的結晶結構的離子交換性層狀矽酸鹽化合物的一種,是平均粒徑為10 IOOOOOnm的粒子，優選平均直徑為I 20 ii m、且平均厚度為10 IOOnm的扁平粒子。加強膜用組合物通過含有膠體二氧化矽、氣相二氧化矽粒子等，可以進一步增大加強膜的硬度。因此，通過切割形成分離槽後，即使用氣刀等除去殘留在該分離槽上的飛邊('J )或沉澱物，由於加強膜的耐磨損性和耐衝擊性良好，不會缺少加強膜的分離槽中的邊緣部。相對於加強膜用組合物100質量份，它們的添加量優選為0. I 30質量份,更優選為0. 2 20質量份。小於0. I質量份時不易得到效果，另一方面，若超過30質量份，則密合性易降低。而且，在本發明中，各粒子和各微粒的平均粒徑如下測定。用雷射衍射/散射式粒度分布測定裝置(堀場製作所制、型號LA-950)測定，粒徑基準以個數形式計算得到的50%平均粒徑(D5tl)。利用該雷射衍射/散射式粒度分布測定裝置得到的個數基準平均粒徑的值，與在通過掃描型電子顯微鏡(日立 /、4 f ^ 7 a 7—文制、型號S-4300SE和S-900)觀察的圖像中對任意的50個粒子實測粒徑時的平均粒徑大致一致。此外，上述扁平粒子的平均直徑和平均厚度、後述各扁平微粒的平均直徑和平均厚度也與上述同樣地進行測定。而且，將膠體二氧化矽的平均粒徑限定為I IOOnm的範圍是由於，小於Inm時膠體不穩定而易凝聚，若超過IOOnm則粒徑大、不會形成分散液。此外，將氣相二氧化矽粒子、二氧化矽粒子、雲母粒子、蒙脫石粒子的尺寸限定為上述範圍是由於，這些尺寸是能夠得到的粒子尺寸，或者為了使它們不會大於下層的膜(反射膜)的厚度的尺寸範圍。進一步地，加強膜用組合物可以含有微粒或扁平微粒，該微粒或扁平微粒含有選自金、鉬、鈀、釕、鎳、銅、錫、銦、鋅、鐵、鉻、錳和鋁中的一種或兩種以上的金屬、或者這些金屬的氧化物。這些微粒的平均粒徑設定為I 50000nm、優選100 5000nm的範圍。扁平微粒的平均直徑優選為I 50000nm，扁平微粒的平均厚度優選為100 20000nm。加強膜用組合物通過含有金、鉬等的微粒或扁平微粒，可以對加強膜進一步賦予柔軟性。因此，切割時，即使對加強膜產生應力，利用加強膜具有的延性和展性可以釋放應力。其中，將金屬的微粒的尺寸限定為上述範圍是由於所得到的微粒的尺寸已被限定，將金屬的扁平微粒的尺寸限定為上述範圍是由於形成不會超過反射膜厚度的尺寸範圍。這些微粒或扁平微粒的添加量優選為0. I 30質量份,更優選為0. 2 20質量份。這是由於,小於0. I質量份時不易得到效果，另一方面，若超過30質量份，則易降低密合性。此外，金屬或金屬氧化物的微粒或扁平微粒中的含量限定為70質量％以上、優選80 100質量％的範圍。這是由於，小於70質量％時，加強膜的加工性降低。在不損害本發明目的的範圍內，進而根據需要，加強膜用組合物可以配合抗氧化劑、流平劑、觸變劑、應力釋放劑、其它添加劑等。[發光兀件]本發明的發光兀件依次具備發光層、透光性基板和反射由發光層發出的光的反射膜，其特徵在於，反射膜含有金屬納米粒子。圖I表不發光兀件的一例的截面圖。發光兀件I依次具備反射膜10、透光性基板20、發光層30。通常，反射膜10利用粘接層50與支撐基板60接合，在發光層30形成期望的布線後，被密封材40密封。圖2表不發光兀件的優選一例的截面圖。發光兀件2若依次具備加強膜12、反射膜11、基板21、發光層31，則通過加強膜12，可以提高反射膜11的耐熱性、耐腐蝕性，進而可以提高透光性基板與反射膜的密合性、抑制切割工序中反射膜11從基板21的剝離，因此優選。而且，加強膜12若含有粘合劑則可以通過溼式塗布法製造，因此更優選，然而即使通過真空成膜法等製造也能夠提高反射膜11的耐熱性、耐腐蝕性。在圖2所示的構成中，力口強膜12通過粘接層51與支撐基板61接合，在發光層31形成期望的布線後，用密封材41密封。反射膜反射通過基體的發光層的光。反射膜含有金屬納米粒子，進而優選含有添加物。金屬納米粒子、添加物如上所述。
相對於透明導電膜100質量份,添加物的含有比例優選為0. I 25質量份,更優選為0. 2 10質量份。若為0. I質量份以上，則與透明導電膜的粘接力良好，若為25質量份以下則不易產生成膜時的膜不均。從反射性、導電性的觀點考慮，反射膜的厚度優選為0.05 1.0 Pm，更優選為0. I 0. 5 u m0若存在於反射膜的透光性基板側的面的氣孔的平均直徑為IOOnm以下、平均深度為IOOnm以下、數密度為30個/ y m2，則在波長380 780nm的範圍內，可以達到理論反射率的80%以上的高漫反射率，所以優選。通常反射譜在長波長側顯示反射率高的項目、在短波長側顯示反射率低的項目。若氣孔的平均直徑超過lOOnm，則由於反射率開始降低的拐點移至較長波長側，不能得到良好的反射率，因此優選平均直徑為IOOnm以下。此外，若氣孔的平均深度超過lOOnm，則由於反射譜的斜率(梯度)增大，得不到良好的反射率，因此氣孔的平均深度優選為IOOnm以下。若氣孔的數密度超過30個/ym2，則由於長波長側的反射率降低，得不到良好的反射率，因此氣孔的數密度優選為30個/y m2以下。加強膜提高反射膜的耐熱性和耐腐蝕性，抑制在發光元件的製造工序中使用切割時的反射膜的剝離。加強膜含有粘合劑，粘合劑如上所述。例如，含有聚合物類的粘合劑時，還可以含有選自丙烯酸類聚合物、環氧類聚合物、聚氨酯類聚合物、丙烯酸聚氨酯類聚合物、環氧丙烯酸類聚合物、纖維素類聚合物和矽氧烷類聚合物中的一種或兩種以上。此外，還可以含有聚合物類粘合劑的無機系基底材料或者非聚合物類粘合劑的無機系基底材料。此外，如對加強膜用組合物說明所示，還可以含有選自二氧化矽類粒子、矽酸鹽粒子、金屬粒子或金屬氧化物粒子中的一種或兩種以上的微粒或扁平粒子。從耐熱性、耐腐蝕性的觀點考慮，加強膜的厚度優選為0. 01 0. 5 y m，更優選為0. 01 0. 2 u m。[發光元件的製造方法]本發明的發光元件的製造方法的特徵在於，在透光性基板上通過溼式塗布法塗布含有金屬納米粒子和添加物的反射膜用組合物後，利用燒成或固化形成反射膜，在透光性基板的反射膜的相反面形成發光層。
首先，在透光性基板上，通過溼式塗布法塗布含有金屬納米粒子、優選含有添加物的反射膜用組合物。此處的塗布，優選以燒成後的厚度為0. 05 I. Oil m，更優選為0. I 0. 5um的方式進行。接著，將該塗膜在溫度120 350°C、優選150 250°C下，乾燥5 60分鐘、優選15 40分鐘。如此形成反射膜。透光性基板若可以形成發光層則不特別限定，但是從透光性、放熱性的觀點考慮，優選為藍寶石基板。反射膜用組合物可以通過塗料攪拌器、球磨機、砂磨機、離心式研磨機、三輥磨(三本口一 > )等根據常用方法混合期望的成分，並分散透光性粘合劑、根據情況分散透明導電性粒子等來製造。當然，也可以通 過通常的攪拌操作來製造。而且，若混合除了金屬納米粒子之外的成分後，與含有另外預先分散的金屬納米粒子的分散介質混合，則從易得到均質的反射膜用組合物的觀點考慮優選。溼式塗布法優選為噴塗法、點膠機塗布法(於」^ ^ >寸一 - 一 f ^ >夕''法)、旋塗法、刮塗法、狹縫塗布法、噴墨塗布法、網版印刷法、膠版印刷法或鑄模塗布法中的任意一種，但不限定於此，可利用所有的方法。噴塗法是通過壓縮空氣使反射膜用組合物成霧狀並塗布於透光性基板上或者對分散體本身進行加壓而成霧狀並塗布於透光性基板上的方法，點膠機塗布法是例如通過將反射膜用組合物注入至注射器中並按壓該注射器的活塞來從注射器前端的微細噴嘴吐出分散體，塗布於透光性基板上的方法。旋塗法是向旋轉的透光性基板上滴下反射膜用組合物，通過其離心力向透光性基板周邊擴展該滴下的反射膜用組合物的方法，刮塗法是在水平方向上可移動地設置與刮刀的前端隔開預定間隙的透光性基板，向比該刮刀更靠近上遊側的透光性基板上供給反射膜用組合物，使透光性基板朝向下遊側水平移動的方法。狹縫塗布法是使反射膜用組合物從狹窄的狹縫流出並塗布於透光性基板上的方法，噴墨塗布法是將反射膜用組合物填充於市售的噴墨印表機的墨盒中，在透光性基板上進行噴墨印刷的方法。網版印刷法是利用紗作為圖案指示材料，通過在其上作成的版圖像將反射膜用組合物轉移至透光性基板的方法。膠版印刷法是不使附於版上的反射膜用組合物直接附著於透光性基板，而是進行一次從版至膠片的轉印，並從膠片重新轉移到透光性基板上的利用反射膜用組合物的防水性的印刷方法。鑄模塗布法是通過歧管分配供給至模具內的反射膜用組合物，通過狹縫擠出至薄膜上，對行進的透光性基板的表面進行塗布的方法。鑄模塗布法有狹槽式塗布方式或滑動式塗布方式、簾式塗布方式。最後，將具有反射塗膜的透光性基板在大氣中或者氮氣或氬氣等惰性氣體氣氛中，優選在130 250°C、更優選在180 220°C的溫度下保持5 60分鐘、優選保持15 40分鐘來燒成。而且，粘合劑通過水解等反應時，可以在更低溫下固化。使具有塗膜的透光性基板的燒成溫度為130 250°C的範圍是由於，低於130°C時，在反射膜中產生固化不充分的不良問題。此外，若超過250°C，則不會產生所謂低溫工藝的生產上的優點、即導致製造成本增大，生產率下降。並且，是由於發光層比較怕熱，因燒成工序而發光效率下降。使具有塗膜的透光性基板的燒成時間為5 60分鐘的範圍是由於，燒成時間低於下限值時，在反射膜中產生粘合劑燒成不充分的不良問題。若燒成時間超過上限值，則製造成本增大到必要以上且生產率下降，並且，發生發光層的發光效率下降的不良問題。
對在透光性基板的反射膜的相反面形成發光層的方法不特別限定，可以為公知的有機金屬化學氣相沉積法(MOCVD)、氫化物氣相外延生長法(HVPE)、分子束外延生長法(MBE)等方法。由此，本發明的製造方法通過使用溼式塗布法，由於可以儘可能地排除真空蒸鍍法、濺射法等真空工藝，因此可以更廉價地製造反射膜，可以簡便地以低成本製造本發明的耐熱性、耐腐蝕性高的發光元件。而且，發光元件與其它的部件接合時，若直接通過高溫焊料Au-Sn焊料接合反射膜，則反射膜有可能被Au-Sn焊料侵蝕，所以不優選。
此外，若在形成反射膜後、形成發光層前，進而在反射膜上通過溼式塗布法塗布含有粘合劑的加強膜用組合物後，利用燒成或固化形成加強膜，則由於可以進一步提高發光元件的耐熱性、耐腐蝕性，進而抑制在發光元件的製造工序中使用切割時的反射膜的剝離，所以優選。加強膜的粘合劑如上所述，加強膜用組合物的製造方法、溼式塗布法與反射膜用組合物相同，只是在加強膜用組合物的情況下，以燒成後的厚度優選為0. 01 0. 5 ym，更優選為0.01 0.2 的方式進行。而且，還可以根據加強膜用組合物的粘合劑的種類適當選擇用於固化的加熱方法或紫外線照射方法。而且，作為向加強膜用組合物的基底液中添加上述必要的粒子、微粒、扁平微粒等的添加劑，從而使這些添加劑分散在基底液中的方法，可以舉出分散攪拌等利用翼攪拌進行的分散、行星攪拌或三輥磨等的剪切分散、包括珠磨機或塗料攪拌器的利用珠的分散等。此外，還可以採用將利用上述方法預先在基底液中的溶劑成分中分散添加劑而成的分散液進行混合的方法。進一步地，添加劑本身已成為通過適當的溶劑分散的分散液的情況下，除了上述方法之外，可以使用利用超聲波均化器或超聲波振動進行的液體混合方法。如上所述，通過使用溼式塗布法，可以更廉價地製造透明導電膜，可以簡便地以低成本製造耐熱性、耐腐蝕性更高的發光元件。[實施例]以下通過實施例對本發明進行具體說明，但是本發明不被它們所限定。[實施例I]首先製作反射膜用組合物。以下表示製作順序。〈反射膜用組合物的製作〉將硝酸銀溶解在去離子水中，製備金屬鹽水溶液。此外，將檸檬酸鈉溶解在去離子水中，製備濃度為26質量％的檸檬酸鈉水溶液。在保持為35°C的氮氣氣流中，向該檸檬酸鈉水溶液中直接加入粒狀的硫酸亞鐵並使其溶解，製備以3 2的摩爾比含有檸檬酸離子與亞鐵離子的還原劑水溶液。接著，將上述氮氣氣流保持在35°C的同時，向還原劑水溶液中加入磁力攪拌器的攪拌子，以攪拌子的轉速IOOrpm攪拌的同時，向該還原劑水溶液中滴下上述金屬鹽水溶液，進行混合。在此，對各溶液的濃度進行調整以使金屬鹽水溶液向還原劑水溶液的添加量為還原劑水溶液的量的1/10以下，由此，即使滴下室溫的金屬鹽水溶液，也能將反應溫度保持在40°C。此外,對還原劑水溶液與金屬鹽水溶液的混合比進行調整以使還原劑水溶液的檸檬酸離子與亞鐵離子的摩爾比相對於金屬鹽水溶液中的金屬離子的總原子價數都為3倍摩爾。金屬鹽水溶液向還原劑水溶液的滴下結束後，進而繼續攪拌混合液15分鐘，由此，在混合液內部產生銀納米粒子，由此得到分散有銀納米粒子的銀納米粒子分散液。銀納米粒子分散液的PH為5. 5，分散液中的銀納米粒子的化學計量生成量為5g/升。得到的銀納米粒子分散液在室溫下放置，由此使分散液中的銀納米粒子沉降，通過傾析對沉降了的銀納米粒子的凝聚物進行分離。向已分離的銀納米粒子凝聚物中加入去離子水形成分散體，通過超濾進行脫鹽處理後，銀納米粒子凝聚物進而用甲醇進行置換洗滌，使金屬(銀)的含量為50質量％。然後，使用離心分離機，調整該離心分離機的離心力，對粒徑超過IOOnm的比較大的銀粒子進行分離，由此,將一次粒徑10 50nm範圍內的銀納米粒子的含量調整為按照數平均計為71%。即，將按照數平均計一次粒徑10 50nm範圍內的銀納米粒子相對於全部銀納米粒子100%所佔的比率調整為71%，得到銀納米粒子分散液。得到的銀納米粒子被檸檬酸鈉的保護劑進行化學修飾。接著，通過將得到的金屬納米粒子10質量份添加混合到含有水、乙醇和甲醇的混合溶液90質量份中使該金屬納米粒子分散，製作反射膜用組合物。而且，構成反射膜用組合物的金屬納米粒子含有75質量％以上的金屬納米粒子。
對於反射膜用組合物，通過旋塗法在玻璃基板上形成反射塗膜，在氮氣氣氛中200°C下燒成20分鐘，由此得到厚度200nm的反射膜。在此，膜厚的測定通過利用日立〃 ^f夕7 口 '7'—文制掃描型電子顯微鏡(SEM、裝置名S-4300、SU-8000)進行的截面觀察來測定。在其它的實施例、比較例中，同樣地測定膜厚。[實施例2]與實施例I同樣地製作銀納米粒子分散液後，通過將得到的金屬納米粒子10質量份添加混合到含有水、乙醇和甲醇的混合溶液90質量份中使該金屬納米粒子分散，向該分散液中以形成金屬納米粒子96質量份、PVP 4質量份的比率加入聚乙烯吡咯烷酮(PVP、分子量360000)、乙酸錫，從而製作反射膜用組合物。而且，構成反射膜用組合物的金屬納米粒子含有75質量％以上的金屬納米粒子。接著，與實施例I同樣地進行，得到厚度IOOnm的反射膜。[實施例3]與實施例I同樣地製作銀納米粒子分散液後，通過將得到的金屬納米粒子10質量份添加混合到含有水、乙醇和甲醇的混合溶液90質量份中使該金屬納米粒子分散，向該分散液中以形成金屬納米粒子95質量份、乙酸鋅5質量份的比率加入乙酸鋅，從而製作反射膜用組合物。接著，與實施例I同樣地進行，得到厚度200nm的反射膜。接著，製作加強膜用組合物。以下表示製作順序。以新戊二醇二丙烯酸酯作為原料單體，在PGME IOOcm3中溶解10g，添加I-羥基-環己基-苯基-酮0. 5g，保持在50°C，劇烈攪拌的同時保持I小時，合成丙烯酸樹脂。用乙醇稀釋該丙烯酸樹脂以形成固體成分濃度為I質量％，從而製作加強膜用組合物。在反射膜上用旋塗機使加強膜用組合物成膜。進一步地，在150°C下燒成10分鐘，得到加強膜。[實施例4]與實施例I同樣地製作銀納米粒子分散液後，通過將得到的金屬納米粒子10質量份添加混合到含有水、乙醇和甲醇的混合溶液90質量份中使該金屬納米粒子分散，向該分散液中以形成金屬納米粒子95質量份、乙酸銅5質量份的比率加入乙酸銅，從而製作反射膜用組合物。接著，與實施例I同樣地進行，得到厚度150nm的反射膜。接著，用作加強膜用組合物的SiO2結合劑如下製備。使用500cm3的玻璃制四頸燒瓶，加入140g的四乙氧基矽烷與140g的乙醇，攪拌的同時將I. Ig的60%硝酸溶解在120g的純水中並一次性加入，然後，50°C下反應3小時，由此製備用作加強膜用組合物的SiO2結合劑。在反射膜上用旋塗法使透明導電膜用組合物成膜，在160°C下燒成30分鐘，從而得到厚度IOOnm的透明導電膜。[實施例5 6、17]除了形成表I記載的組成、膜厚之外，與實施例4同樣地進行，製作實施例5 6、17。而且，實施例5中使用的SiO2結合劑使用實施例4中使用的SiO2結合劑。[實施例7 16、18 20]除了形成表I記載的組成、膜厚之外，與實施例3同樣地進行，製作實施例7 16、18 20。在此，加強膜用組合物中使用的丙烯酸類中使用新戊二醇二丙烯酸酯，環氧類中使用雙酚A型環氧樹脂，纖維素類中使用甲基纖維素，聚氨酯類中使用二苯基甲烷異氰酸酯和甲基苯酚。[實施例21]除了形成表I記載的組成、膜厚之外，與實施例2同樣地進行，製作實施例21。而且，本實施例中使用的SiO2結合劑使用實施例4中使用的SiO2結合劑。[比較例I]通過真空成膜法的濺射法在玻璃基板上形成厚度IOOnm的銀薄膜。[比較例2]通過濺射法在玻璃基板上形成厚度IOOnm的銀薄膜，進而通過濺射法形成厚度30nm的鈦薄膜。[反射率的測定]對於實施例I 21、比較例I 2的反射率的評價，通過紫外可見分光光度計與積分球的組合，測定波長450nm下的反射膜的漫反射率。此外，200°C、1000小時的條件進行熱處理試驗，在硫化氫lOppm、溫度25°C、相對溼度75% RH,504小時的條件下進行作為耐腐蝕性試驗的硫化試驗，測定各試驗後的反射率。表I表示它們的結果。[密合性評價]對於密合性評價，通過根據膠帶試驗(JIS K-5600)的方法，對測定反射率後的實施例2、實施例5，將膠帶密合到膜並進行剝離時，根據形成的膜剝離或捲縮狀態的程度，以優、及格、不及格三水平進行評價。將在膠帶側未粘貼膜形成物、僅有粘接膠帶被剝離的情況作為優，將混雜有粘接膠帶的剝離和形成基材的光電轉換層露出的狀態的情況作為及 格，將由於粘接膠帶的剝離使形成基材的光電轉換層表面的整個表面露出的情況作為不及格。實施例2為及格，實施例5為優。[表 I]
權利要求
1.ー種用於發光元件的反射膜用組合物，其特徵在於，用於依次具備發光層、透光性基板和反射由發光層發出的光的反射膜的發光元件，反射膜用組合物含有金屬納米粒子。
2.根據權利要求I所述的用於發光元件的反射膜用組合物，進而含有添加物。
3.根據權利要求I或2所述的用於發光元件的反射膜用組合物，進而含有分散介質。
4.ー種用於發光元件的加強膜用組合物，用於依次具備發光層、透光性基板、反射由發光層發出的光的反射膜和加強膜的發光元件，加強膜用組合物含有粘合剤。
5.根據權利要求4所述的用於發光元件的加強膜用組合物，其特徵在幹，含有選自ニ氧化矽類粒子、矽酸鹽粒子、金屬粒子或金屬氧化物粒子中的ー種或兩種以上的微粒或扁平粒子。
6.ー種發光兀件，其特徵在於，依次具備發光層、透光性基板和反射由發光層發出的光的反射膜，反射膜含有金屬納米粒子。
7.根據權利要求6所述的發光元件，反射膜進而含有添加物。
8.根據權利要求6或7所述的發光元件，進而具有加強膜，依次具備所述發光層、所述透光性基板、所述反射膜和所述加強膜，所述加強膜含有粘合剤。
9.根據權利要求8所述的發光元件，其特徵在於，所述加強膜進而含有選自ニ氧化矽類粒子、矽酸鹽粒子、金屬粒子或金屬氧化物粒子中的ー種或兩種以上的微粒或扁平粒子。
10.根據權利要求6或7所述的發光元件，所述反射膜通過溼式塗布法製造。
11.根據權利要求8所述的發光元件，所述反射膜和/或加強膜通過溼式塗布法製造。
12.根據權利要求6或7所述的發光元件，反射膜的厚度為O.05 I. O μ m。
13.根據權利要求8所述的發光元件，反射膜的厚度為O.05 I. O μ m。
14.ー種發光元件的製造方法，其特徵在於，在透光性基板上利用溼式塗布法塗布含有金屬納米粒子和添加物的反射膜用組合物後，通過燒成或固化形成反射膜，在透光性基板的反射膜的相反面形成發光層。
15.根據權利要求14所述的發光元件的製造方法，在形成反射膜之後、形成發光層之前，進而在反射膜上利用溼式塗布法塗布含有粘合劑的加強膜用組合物後，通過燒成或固化形成加強膜。
全文摘要
本發明的發光元件，依次具備發光層、透光性基板和反射由發光層發出的光的反射膜，所述反射膜含有金屬納米粒子。所述發光元件可以進而具備含有粘合劑的加強膜。
文檔編號H01L33/00GK102651441SQ20121004106
公開日2012年8月29日 申請日期2012年2月21日 優先權日2011年2月23日
發明者山崎和彥, 泉禮子, 近藤洋二, 馬渡芙弓 申請人:三菱綜合材料株式會社