一種半乾法煙氣處理器的製造方法

2023-04-28 03:39:10

專利名稱:一種半乾法煙氣處理器的製造方法
【專利摘要】本實用新型公開了一種半乾法煙氣處理器,所述處理器由回流帶除塵組合體、煙氣交替冷卻室、化學反應前過煙室、化學反應室、化學反應後過煙室、活性炭吸附室、引風機、煙氣融水交換池、過煙過水池依次連接而成。本實用新型可以通過構件空間蒸發失水乾燥煙氣，降低煙氣的相對溼度，提高煙氣的乾燥能力，為半乾法化學反應提供相應的物理化學反應處理條件。可以將煙氣進一步浴洗處理後，浮升流動，潔淨排放。
【專利說明】
一種半乾法煙氣處理器
技術領域
[0001]本實用新型涉及一種半乾法煙氣處理器，屬於垃圾處理領域。【背景技術】
[0002]生態環境保護形勢發展日益嚴峻，生活垃圾焚燒煙氣處理的質量標準已成為一項重要的事項，目前垃圾焚燒煙氣處理方法日益增多，工藝功能越來越全，但鄉鎮及農村，環境整治之生活垃圾無害化處理，焚燒煙氣處理還是以溼法處理居多。
[0003]現有鄉鎮垃圾焚燒煙氣處理方案主要由流量流速控制件，紊流煙氣道與高壓噴淋除塵池連體件，活性炭吸附室、傳導媒介，(引風機)、煙氣乾燥室等單元構件組成煙氣處理系流，處理後進入排放系統排放。除去活性炭吸附室和煙氣乾燥室，其它構件均從頂部向內插入多組高壓噴淋管進行高壓噴淋，噴淋後的煙氣由高壓噴淋一側進入活性炭吸附室，通過吸附後由傳導媒介引射進入煙氣乾燥室和排放系流排放。
[0004]上述方案存在以下幾方面缺點:(1)高溫煙氣溼法處理的高壓噴淋只能作為初步與降溫除塵，高溫煙氣與高壓噴淋水接觸，體積不斷膨脹，如不作冷凝處理後進入後部處理單元，其顯現的速度流場和溫度場與處理工藝不相適應而影響其處理結果。(2)含溼煙氣沒作任何失水，乾燥處理直接進入活性炭吸附室進行氣相吸附是沒有任何作用的。(3)煙氣冷凝、含溼煙氣蒸發失水乾燥沒有設置一定的流動空間，很難將高溫煙氣瞬間降至二噁因合成溫度以下，和重金屬顆粒物的反應沉降。【實用新型內容】
[0005]為克服上述不足，本實用新型目的在於提供一種半乾法煙氣處理器，除煙氣高溫階級採用部份溼法高壓噴淋輔助降溫除塵之外，在整個煙氣處理工藝流程的大部份採用半乾法煙氣處理，不但減少水資源以及其它能源消耗，更重要的是可提高排放煙氣的質量標準。
[0006]本實用新型的方案如下:一種半乾法煙氣處理器，所述處理器由回流帶除塵組合體、煙氣交替冷卻室、化學反應前過煙室、化學反應室、化學反應後過煙室、活性炭吸附室、 引風機、煙氣融水交換池、過煙過水池依次連接而成。
[0007]進一步，所述的回流帶除塵組合體上部設置套蓋，左側設置煙氣進口管接;所述的回流帶除塵組合體內設置徑向懸空擋板，底部為設置有灰塵出口連接管接的聚塵鬥。
[0008]所述的煙氣交替冷卻室中傾斜設置左、右室導煙管;左、右室導煙管之間設置過煙室；
[0009]所述的煙氣交替冷卻室頂部設置有排熱風扇組裝板，所述的排熱風扇組裝板上安裝排熱風扇;排氣孔設置在煙氣交替冷卻室錐形殼體之上。
[0010]所述的化學反應前過煙室下部設置有冷凝水聚鬥，所述的冷凝水聚鬥底部設置有冷凝水出口管接。
[0011]進一步，所述的化學反應室下部設置有聚塵鬥I，所述的聚塵鬥I底部設置有冷凝水出口管接;所述的化學反應室頂部連接進料鬥，所述的進料鬥內分隔有消石灰放置鬥和反應助劑放置鬥，所述的消石灰放置鬥和反應助劑放置鬥頂分別設置消石灰進料口套蓋和反應助劑進料口套蓋；
[0012]所述的化學反應室內設置球面勻布有氣孔的不鏽鋼球。
[0013] 進一步，所述的化學反應後過煙室下部與活性炭吸附室連通處設置均分布類煙孔的過煙室隔板;頂部固定鼓風機，所述的鼓風機與不鏽鋼球連通。
[0014]進一步，所述的活性炭吸附室內設置有活性炭吸附下組合件和活性炭上吸附組合件，活性炭吸附下組合件和活性炭上吸附組合件之間放置吸附材料放置框;頂部連接出煙口管接;所述的出煙口管接另一端與引風機一端連接。
[0015]進一步，所述的煙氣融水交換池下部設置有融水交換池池底板，所述的融水交換池池底板底部設置有融水交換池出水管；
[0016]所述的煙氣融水交換池頂端中部設置煙氣融水管，所述的煙氣融水管通過連接管與引風機另一端連接;所述的煙氣融水管下端設置有朝一個方向偏轉的介質流動狹口；
[0017]所述的煙氣融水交換池上端還設置進水口。
[0018]進一步，所述的過煙過水池頂部設置過煙過水池煙氣出口管接，錐頂板位置設置有紊亂鉤;所述的過煙過水池下端設置連體支撐腳，下端一側設置排水管。
[0019]本實用新型的有益效果:
[0020] 1、能將高溫煙氣瞬間降至二噁因合成溫度以下。
[0021] 2、可以通過構件空間蒸發失水乾燥煙氣，降低煙氣的相對溼度，提高煙氣的乾燥能力，為半乾法化學反應提供相應的物理化學反應處理條件。[0022 ] 3、可以將煙氣進一步浴洗處理後，浮升流動，潔淨排放。【附圖說明】
[〇〇23]圖1為本實用新型的俯視圖。[〇〇24]圖2為本實用新型的剖視圖。【具體實施方式】
[0025]下面結合附圖對本實用新型做進一步說明。[〇〇26] 一種半乾法煙氣處理器，處理器由回流帶除塵組合體1、煙氣交替冷卻室2、化學反應前過煙室3、化學反應室4、化學反應後過煙室5、活性炭吸附室6、煙氣融水交換池7、引風機9、過煙過水池8依次連接而成。[〇〇27]回流帶除塵組合體1上部設置套蓋12,左側設置煙氣進口管接10;回流帶除塵組合體內設置徑向懸空擋板11，底部為設置有灰塵出口 31連接管接的聚塵鬥30,灰塵出口可裝配卸灰閥或密封袋扎口為便於撿修清理，在室頂板開口進入或抽出，徑向懸空擋板放置後密封套蓋以免遺漏煙氣。回流帶除塵組合體底部設置左支撐腳29。
[0028]煙氣交替冷卻室2中設置左、右室導煙管14、15;左、右室導煙管之間設置過煙室 32;煙氣交替冷卻室頂部設置有排熱風扇組裝板47，排熱風扇組裝板47上安裝排熱風扇17; 排氣孔16設置在煙氣交替冷卻室錐形殼體之上。排熱風扇組裝板47下的煙氣交替冷卻室柱形殼體上設置有加固筋板48;過煙室配有清灰門33,清灰門外配密封門，包括門肖門鉤。左、右室導煙管改變了多數以平置為主的布置方式，為了防止管內積塵，左、右室導煙管設置有一定的傾斜度、交叉排例、完全置於冷卻水之中。
[0029]化學反應前過煙室3下部設置有冷凝水聚鬥34，冷凝水聚鬥底部設置有冷凝水出口管接35。化學反應室4下部設置有聚塵鬥136，聚塵鬥I底部設置有冷凝水出口管接37，可連接卸灰閥或密封袋扎口；化學反應室頂部連接進料鬥，進料鬥中間用隔板隔開分成消石灰放置鬥18和反應助劑放置鬥19，消石灰放置鬥和反應助劑放置鬥頂分別設置反應材料進口，為了方便開啟均採用密封套蓋方式，反應材料進口上設置了消石灰進料口套蓋20和反應助劑進料口套蓋21 ；為使煙氣進入反應室後，能充分與化學反應材料融合反應，化學反應室內設置球面勻布有氣孔的不鏽鋼球23。
[0030]化學反應後過煙室5下部與活性炭吸附室連通處設置均分布類煙孔的過煙室隔板38;頂部固定鼓風機22，所述的鼓風機22與不鏽鋼球23連通。
[0031]活性炭吸附室6內設置有活性炭吸附下組合件39和活性炭上吸附組合件40，活性炭吸附下組合件和活性炭上吸附組合件之間放置吸附材料放置框49，每框呈倒三角形，每組分三層交叉排例，每框之間設置有一定的間隔。為了定期更換活性炭吸附材料。組合件設置成抽屜式。吸附室錐頂蓋41連接室內出煙口管接56。出煙口管接另一端與引風機一端連接。在引風機傳動葉輪垂直相對方向均設置有密封形清灰門，底部設置有含塵水出口、可以定期清理風機內空間及傳動葉輪積塵。保證風機傳動正常和煙氣處理流程的順暢。
[0032]煙氣融水交換池7下部設置有融水交換池池底板43，融水交換池池底板底部設置有融水交換池出水管44;煙氣融水交換池頂端中部設置煙氣融水管26，煙氣融水管通過連接管24與引風機另一端連接;煙氣融水管的下部、在插入水平面以下的部份，設置有朝一個方向偏轉的煙氣流動狹口 42。煙氣融水交換池上端還設置進水口 25，進水管由此插入供水。
[0033]過煙過水池8頂部設置過煙過水池煙氣出口管接27，錐頂板位置設置有紊亂鉤28;過煙過水池下端設置連體支撐腳46，下端一側設置排水管45，用管道連接處理池。
[0034]為高溫煙氣迅速降溫，杜絕二噁因合成，處理器前部份除去活性炭吸附室，所有單元構件外部全部設置有冷水壁13連通冷卻室儲水池。引風機後部所設置的煙氣融水交換池，將前處理構件處理後的煙氣，利用偏轉狹口進行正應力改變，所產生漩渦將煙氣旋入水中進行再次浴洗處理後從水平面浮升流動，進一步潔淨的煙氣通過排放系流排放。完成整個半乾法煙氣處理。
[0035]儘管上文對本實用新型的【具體實施方式】給予了詳細描述和說明，但是應該指明的是，我們可以依據本實用新型的構想對上述實施方式進行各種等效改變和修改，其所產生的功能作用仍未超出說明書所涵蓋的精神時，均應在本實用新型的保護範圍之內。
【主權項】
1.一種半乾法煙氣處理器，其特徵在於，所述處理器由回流帶除塵組合體、煙氣交替冷卻室、化學反應前過煙室、化學反應室、化學反應後過煙室、活性炭吸附室、引風機、煙氣融水交換池、過煙過水池依次連接而成。2.根據權利要求1所述的一種半乾法煙氣處理器，其特徵在於，所述的回流帶除塵組合體上部設置套蓋，左側設置煙氣進口管接;所述的回流帶除塵組合體內設置徑向懸空擋板，底部為設置有灰塵出口連接管接的聚塵鬥。3.根據權利要求1所述的一種半乾法煙氣處理器，其特徵在於，所述的煙氣交替冷卻室中傾斜設置左、右室導煙管;左、右室導煙管之間設置過煙室； 所述的煙氣交替冷卻室頂部設置有排熱風扇組裝板，所述的排熱風扇組裝板上安裝排熱風扇;排氣孔設置在煙氣交替冷卻室錐形殼體之上。4.根據權利要求1所述的一種半乾法煙氣處理器，其特徵在於，所述的化學反應前過煙室下部設置有冷凝水聚鬥，所述的冷凝水聚鬥底部設置有冷凝水出口管接。5.根據權利要求1所述的一種半乾法煙氣處理器，其特徵在於，所述的化學反應室下部設置有聚塵鬥I，所述的聚塵鬥I底部設置有冷凝水出口管接;所述的化學反應室頂部連接進料鬥，所述的進料鬥內分隔有消石灰放置鬥和反應助劑放置鬥，所述的消石灰放置鬥和反應助劑放置鬥頂分別設置消石灰進料口套蓋和反應助劑進料口套蓋； 所述的化學反應室內設置球面勻布有氣孔的不鏽鋼球。6.根據權利要求5所述的一種半乾法煙氣處理器，其特徵在於，所述的化學反應後過煙室下部與活性炭吸附室連通處設置均分布類煙孔的過煙室隔板;頂部固定鼓風機，所述的鼓風機與不鏽鋼球連通。7.根據權利要求1所述的一種半乾法煙氣處理器，其特徵在於，所述的活性炭吸附室內設置有活性炭吸附下組合件和活性炭上吸附組合件，活性炭吸附下組合件和活性炭上吸附組合件之間放置吸附材料放置框;頂部連接出煙口管接;所述的出煙口管接另一端與引風機一端連接。8.根據權利要求7所述的一種半乾法煙氣處理器，其特徵在於，所述的煙氣融水交換池下部設置有融水交換池池底板，所述的融水交換池池底板底部設置有融水交換池出水管； 所述的煙氣融水交換池頂端中部設置煙氣融水管，所述的煙氣融水管通過連接管與引風機另一端連接;所述的煙氣融水管下端設置有朝一個方向偏轉的介質流動狹口； 所述的煙氣融水交換池上端還設置進水口。9.根據權利要求1所述的一種半乾法煙氣處理器，其特徵在於，所述的過煙過水池頂部設置過煙過水池煙氣出口管接，錐頂板位置設置有紊亂鉤;所述的過煙過水池下端設置連體支撐腳，下端一側設置排水管。
【文檔編號】B01D47/06GK205699911SQ201620309348
【公開日】2016年11月23日
【申請日】2016年4月14日
【發明人】張繼寧, 潘慧敏
【申請人】歙縣綠源環保設備有限公司