場發射顯示裝置的製作方法
2023-04-25 15:32:01 2
專利名稱：場發射顯示裝置的製作方法
技術領域：
本發明關於一種場發射顯示裝置。
背景技術：
場發射顯示裝置是繼陰極射線管顯示裝置(CRT)及液晶顯示裝置(LCD)之後，最具發展潛力的新興平面顯示裝置。相對於傳統的各種顯示裝置，場發射顯示裝置具有顯示效果好、視角大、功耗小以及體積小等優點，尤其是基於納米碳管的場發射顯示裝置，即納米碳管場發射顯示裝置(CNT-FED)，近年來越來越受到重視。
納米碳管首先是由日本研究人員發現，並發表在《自然》雜誌(Nature，Vol.354，Nov.7，1991，P56-58)。納米碳管是一種新型碳材料，其具有極優異的導電性能，以及幾乎接近理論極限的尖端表面積，由於尖端表面積愈小，其局部電場愈集中，場增強因數愈大，因此，納米碳管為已知最好的場發射材料之一，其具有極低的開啟電場(大約2伏/微米)，可傳輸極大的電流密度，並且發射電流極穩定，因而非常適合做場發射顯示裝置的電子發射體。隨著納米碳管生長技術的日益成熟，納米碳管場發射顯示裝置的研究已經取得一系列重要進展。
場發射顯示裝置中一般都會用到阻隔壁以支撐、絕緣及隔離陰極、柵極及陽極，請參閱圖1，其為現有技術的一種場發射顯示裝置10，該場發射顯示裝置10包括相對設置的前板11及後板12、位於前板11與後板12之間的柵板13。該後板12面向前板11的一面上設置有陰極120，該陰極120上具有多個電子發射體121，該前板11面向後板12的一面上形成有陽極111及位於陽極111表面的發光層112，柵板13的一表面或兩表面上設置有柵極130。其中，前板11、柵板13及後板12之間分別通過長方體狀的阻隔壁14、15支撐並隔開一定距離。但是，該結構的阻隔壁14、15在抽取真空時在壓力作用下容易發生彎曲，容易造成阻隔壁14、15的損壞從而使顯示效果受到影響，並且在組裝時需要花費較長時間以實現場發射顯示裝置10內部的真空環境。
有鑑於此，有必要提供一種可較好承受真空壓力的場發射顯示裝置。
發明內容以下，將以實施例說明一種可較好承受真空壓力的場發射顯示裝置。
為實現上述內容，提供一種場發射顯示裝置，該場發射顯示裝置包括相對設置之陽極模組及陰極模組，其通過多個阻隔壁支撐並隔開一定距離，其中，該陽極模組包括一陽極基板，該陽極基板面向陰極模組的一面上具有陽極及位於陽極表面的發光層，該陰極模組包括一陰極基板、設於該陰極基板上的陰極以及多個位於陰極上的場發射元件，該阻隔壁包括相交之第一壁及第二壁。
與現有技術相比，本實施例場發射顯示裝置的阻隔壁有相交的第一壁及第二壁組成，該相交的第一壁、第二壁的兩相對平面分別與陽極模組及陰極模組相接觸，從而支撐面積較大且可均勻分擔陽極模組與陰極模組上的壓力，因此，該阻隔壁可以承受場發射顯示裝置抽真空時氣體產生的壓力。
圖1是一種現有技術的場發射顯示裝置的立體分解圖。
圖2是本發明第一實施例場發射顯示裝置的立體分解示意圖。
圖3是本發明第一實施例的阻隔壁的立體示意圖。
圖4是圖3中沿IV-IV方向的剖示圖。
圖5是本發明第二實施例場發射顯示裝置的立體分解示意圖。
圖6是本發明第三實施例場發射顯示裝置的立體分解示意圖。
具體實施方式
如圖2所示，其為本發明第一實施例所提供的場發射顯示裝置20，該場發射顯示裝置20包括相對設置的陽極模組21及陰極模組22，其通過多個阻隔壁24支撐並隔開一定距離，且該阻隔壁24呈矩陣方式排列。
該陽極模組21包括一陽極基板210，其可由玻璃製成，該陽極基板210面向陰極模組22的一面上設有陽極211、發光層212，該發光層212位於陽極211表面，該陽極211可為銦錫氧化物(ITO)薄膜。
該陰極模組22包括一陰極基板220，其也可由玻璃製成，該陰極基板220面向陽極模組21的一面上設有陰極221，該陰極221也可為ITO薄膜，多個場發射元件222設於陰極221上，該場發射元件222為矩陣式排列，其可為金屬尖端、金鋼石、矽納米線、納米碳管等，優選為納米碳管。
如圖3及圖4所示，該阻隔壁24包括一第一壁242及一第二壁244，該第一壁242與第二壁244垂直相交且呈十字形結構，從而使該阻隔壁24具有相對的第一面248及第二面249，該第一面248、第二面249分別與陽極模組21、陰極模組22相接觸。該第一壁242、第二壁244上均分別等間距設置有第一通孔246、第二通孔247，該第一壁242兩端的寬度較窄，從而使第一壁242兩端的第一通孔246的長度小於其它第一通孔246的長度，該第二壁244兩端的寬度較窄，從而使第二壁244兩端的第二通孔247的長度小於其它第二通孔247的長度。
由於該阻隔壁24呈十字形，因而其與陽極模組21、陰極模組22之間具有較大的接觸面積，因此，該阻隔壁24可以較好地承受場發射顯示裝置20抽真空時氣體產生的壓力。由於第一壁242及第二壁244上分別具有第一通孔246及第二通孔247，因此可以加速真空抽取的速率，使場發射顯示裝置20內部儘快實現真空狀態，減少抽真空所花費的時間。
另外，該阻隔壁24也可為其它結構，如T形、L形或者第一壁242、第二壁244之間的夾角大於0°而小於90°，也可以只在第一壁242及第二壁244之一上設置通孔。
該阻隔壁24的排列並不限於本實施例的矩陣式分布，也可為其它排列方式，阻隔壁24之排列方式只要使陽極模組21與陰極模組22的各個部份受力均勻即可。
請參閱圖5，其為本發明第二實施例所提供的場發射顯示裝置30，該場發射顯示裝置30包括陽極模組31、陰極模組32及柵極模組33，該陽極模組31與柵極模組33、陰極模組32與柵極模組33之間分別設有多個阻隔壁24以使三者之間相互隔開一定距離。
該陽極模組31、陰極模組32的結構分別與第一實施例的陽極模組21、陰極模組22的結構相同。
該柵極模組33上設有與場發射元件322相對應的柵極通孔332，場發射元件322發出的電子通過柵極通孔332到達發光層312及陽極311，電子激發發光層312發出可見光。
當然，柵極模組33也可直接設置在陰極模組32的表面，此時，僅在陽極模組31與柵極模組33之間設置阻隔壁24即可。
如圖6所示，其為本發明第三實施例所提供的場發射顯示裝置40，該顯示裝置40包括陽極模組41、陰極模組42及柵極模組43，該陽極模組41與陰極模組32通過多個阻隔壁24支撐並隔開一定距離，從而使該陰極模組42與柵極模組43相接觸、柵極模組43與陽極模組41隔開一定距離。
該陽極模組41、陰極模組42的結構分別與第一實施例的陽極模組21、陰極模組22的結構相同，柵極模組43上設有多個柵極通孔432及多個凹槽434。陰極模組42的場發射元件422發出的電子可穿過柵極通孔432到達陽極411，該凹槽434的分布與阻隔壁24的分布形式相同，且凹槽434的形狀與阻隔壁24的形狀相同，以使阻隔壁24可以穿過該凹槽434與陽極模組41相接觸。
另外，本領域技術人員還可以在本發明精神內做其它變化，當然，這些依據本發明精神所做的變化，都應包含在本發明所要求保護的範圍之內。
權利要求
1.一種場發射顯示裝置，包括相對設置的陽極模組及陰極模組，其通過多個阻隔壁支撐並隔開一定距離，其中，該陽極模組包括一陽極基板，該陽極基板面向陰極模組的一面上具有陽極及位於陽極表面的發光層，該陰極模組包括一陰極基板，該陰極基板面向陽極模組的一面上設置有陰極以及多個位於陰極上的場發射元件，其特徵在於所述阻隔壁包括相交的第一壁及第二壁。
2.如權利要求1所述的場發射顯示裝置，其特徵在於所述第一壁上具有多個第一通孔。
3.如權利要求1所述的場發射顯示裝置，其特徵在於所述第二壁上具有多個第二通孔。
4.如權利要求1所述的場發射顯示裝置，其特徵在於所述第一壁與第二壁之間的夾角在0°～90°之間。
5.如權利要求4所述的場發射顯示裝置，其特徵在於所述阻隔壁呈十字形、T形或者L形。
6.如權利要求1所述的場發射顯示裝置，其特徵在於所述阻隔壁的材料為玻璃。
7.如權利要求1所述的場發射顯示裝置，其特徵在於所述場發射顯示裝置進一步包括設置在陽極模組與陰極模組之間的柵極模組。
8.如權利要求7所述的場發射顯示裝置，其特徵在於所述阻隔壁分別設置在陽極模組、柵極模組與陰極模組之間。
9.如權利要求7所述的場發射顯示裝置，其特徵在於所述柵極模組上設有多個凹槽，阻隔壁穿過凹槽分別與陽極模組、陰極模組相接觸。
10.如權利要求1所述的場發射顯示裝置，其特徵在於所述陽極基板和陰極基板的材料為玻璃。
11.如權利要求1所述的場發射顯示裝置，其特徵在於所述場發射元件為金屬尖端、金鋼石、矽納米線或納米碳管。
12.如權利要求1所述的場發射顯示裝置，其特徵在於所述第一壁及第二壁的兩端較窄。
全文摘要
本發明提供一種場發射顯示裝置，該場發射顯示裝置包括相對設置的陽極模組及陰極模組，其通過多個阻隔壁支撐並隔開一定距離，其中，該陽極模組包括一陽極基板，該陽極基板面向陰極模組的一面上具有陽極及位於陽極表面的發光層，該陰極模組包括一陰極基板、設於該陰極基板上的陰極以及多個位於陰極上的場發射元件，該阻隔壁包括相交的第一壁及第二壁。
文檔編號H01J29/86GK1929080SQ20051003711
公開日2007年3月14日 申請日期2005年9月7日 優先權日2005年9月7日
發明者餘泰成 申請人:鴻富錦精密工業(深圳)有限公司, 鴻海精密工業股份有限公司