平面光導體和照明設備的製作方法

2023-04-25 14:08:51

專利名稱：平面光導體和照明設備的製作方法
技術領域：
本發明說明一種平面光導體。此外，說明一種照明設備。
背景技術：
在參考文獻DE 10229064A1中說明一種光源元件。

發明內容
要實現的目的在於，提出一種儘可能均勻輻射的平面光導體以及帶有這種平面光導體的照明設備。根據平面光導體的至少一個實施形式，所述平面光導體具有兩個彼此對置的主側 和至少一個設計成光射入側的端側。在此，端側為平面光導體的將對置的主側彼此連接的這樣的分界面。光射入側表示所述側設為，經由所述側將光源的輻射耦合輸入到平面光導體中。根據平面光導體的至少一個實施形式，所述平面光導體具有至少一個遠離光射入側延伸的主光導方向。因此，主光導方向是沿其設有光導體以傳導光的這樣的方向。如果在所述光射入側處或者在多個光射入側處安置有光源，那麼一個或多個主光導方向分別優選遠離各自的光源延伸。如果多個光源設置在不同的端側或光射入側處，那麼平面光導體能夠具有多個主光導方向，所述多個主光導方向分別遠離相應的光射入側延伸，尤其豎直於所述光射入側延伸，並且所述主光導方向能夠指向不同的方向。根據平面光導體的至少一個實施形式，所述平面光導體具有用於光散射的散射齊U。散射劑具有特定散射橫截面。通過光在散射劑上的散射改變了光相對於主側的角度，特別地，在散射劑處一次或多次散射之後的光以小於全反射角的角度射入到主側上。由此，通過散射劑消除平面光導體的光傳導作用，進而實現在主側處耦合輸出輻射。因此，通過散射劑也引起耦合輸出係數。散射劑的概念尤其包括通過顆粒和/或通過缺陷和/或通過空腔而形成的散射部位。根據平面光導體的至少一個實施形式，沿著主光導方向非恆定地調節耦合輸出係數。換言之，沿著主光導方向目的明確地使耦合輸出係數變化。在此，耦合輸出係數的變化僅僅或者基本上歸因於在平面光導體之內散射劑的目的明確的分布。特別地，散射劑的分布不只是理解為與統計學相關的、局部的濃度波動。根據平面光導體的至少一個實施形式，特別在垂直於所述主側中的至少一個的方向上，所述平面光導體具有最高為O. 10、優選最高為O. 05的不透明度值。不透明度值也被稱作霧度值或混濁性。例如對於透射而言，不透明度值定義為在通過介質時以大於2. 5°的角度散射的輻射的部分和全部通過介質透射的輻射的商。因此換言之，所述平面光導體是清晰可見的或幾乎是清晰可見的。根據平面光導體的至少一個實施形式，特別在垂直於所述主側中的至少一個的方向上，平面光導體具有至少為O. 75的透射係數或透射。優選地，透射係數至少為85%，尤其至少為90%。因此換言之，平面光導體是透明的或幾乎是透明的。在此，透射係數是全部透射的光功率除以入射的光功率。根據平面光導體的至少一個實施形式，至少一個主側具有連續的輻射區域，所述輻射區域設置用於輻射在平面光導體中傳導的光。換言之，輻射區域形成主側的輻射面。輻射區域優選在整個主側之上或者在主側的大部分之上延伸，例如在主側的大於90%或大於95%的面積之上延伸。例如，平面光導體具有每個主側上恰好一個輻射區域。根據平面光導體的至少一個實施形式，在至少一個輻射區域上來看，最小的光密度和最大的光密度的商最低為O. 75，優選地最低為O. 80或最低為O. 85，尤其當將輻射引導到平面光導體時如此。換言之，平面光導體設計用於，耦合輸入到平面光導體中並且在平面光導體中傳導的輻射在整個輻射區域或者在整個主側而均勻地或基本上均勻地耦合輸出。在平面光導體的至少一個實施形式中，所述平面光導體具有兩個彼此對置的主側和至少一個設計成光射入側的端側。至少一個主光導方向遠離光射入側延伸。平面光導體包含至少一個用於光散射的散射劑，其中由於散射劑導致耦合輸出係數。沿著主光導方向變化地調節耦合輸出係數。在垂直於主側中的一個的方向上，平面光導體的不透明度值最高為O. 1，透射係數最低為O. 75，並且在主側中的至少一個的連續的輻射區域上來看，最小的光密度和最大的光密度的商最低為O. 75。如果這種平面光導體設有光源，那麼在光源工作期間，平面光導體的至少一個輻射區域看起來是均勻明亮的。光源停止工作時，那麼平面光導體起到清晰可見的作用，例如類似於窗戶玻璃並且因此吸收少量的輻射，由此在光源斷開的情況下提高例如室內的亮度。根據平面光導體的至少一個實施形式，帶有為最大耦合輸出係數Cimax的最高25%的、最高15%的或最高10%的或最高5%的公差的耦合輸出係數α沿著主光導方向ζ遵循以下關係中的一個α (ζ) = ( a 0+kz) / (1_α0ζ) 或α (ζ) = ( α max+kz) / (1+α max2 (z-W/2) 2) ~0· 5尤其俯視輻射區域來看，在此為輻射區域的距光入射側中的一個最近的子區域中的耦合輸出係數。W為輻射區域沿主光導方向ζ的平均伸展。k是實數並且例如能夠指定為m2。ζ能夠任意地定標，然而優選具有O至W之間的數值，其中包括邊界值。W、z、k以及α也能夠指定為無單位的形式。根據平面光導體的至少一個實施形式，所述平面光導體由至少兩個或正好兩個彼此不同的基本形狀塊成型。基本形狀塊具有不同的、平均的特定耦合輸出係數。優選地，基本形狀塊在平面光導體中沒有混合。沒有混合能夠表示，在不同的基本形狀塊之間存在邊界區域，尤其與平面光導體的剩餘區域相比，在所述邊界區域中，平均的特定耦合輸出係數在平面光導體之內分級地或者跳躍式地上升。因此，在輸出耦合係數方面，基本形狀塊的邊界處存在一種不連續的相位轉換。這種平面光導體例如能夠藉助於多組分注塑、尤其藉助雙組分注塑來製造。至少兩個基本形狀塊或在注塑中的至少兩種材料組分優選在相同的鑄模中加工和/或成形。在各個基本形狀塊內，散射劑優選地分別以統計學分布的形式存在。換言之，因此在基本形狀塊內沒有調節散射劑的適當的濃度相關性。根據平面光導體的至少一個實施形式，所述平面光導體具有至少一個或正好一個包括散射劑的基本形狀塊。此外，所述平面光導體具有至少一個或正好一個沒有散射劑的基本形狀塊。如同也在其他的實施形式中，基本形狀塊能夠具有與基本材料相同的材料，其中在所述基本形狀塊中的一個中，例如散射劑的顆粒嵌入到作用為基體材料的基本材料中並且另外的基本形狀塊僅具有基本材料。散射劑優選以平均顆粒直徑在IOnm和30μπι之間的顆粒的形式存在，其中包括邊界值。根據平面光導體的至少一個實施形式，所述平面光導體具有至少兩個或正好兩個包括不同的散射劑的基本形狀塊。不同的散射劑指的是，所述散射劑關於成形該散射劑的材料、或者關於例如為平均顆粒直徑的散射劑的幾何特性尺寸而彼此不同。根據平面光導體的至少一個實施形式，所述平面光導體包括至少兩個或正好兩個添加有相同散射劑的基本形狀塊，其中散射劑以不同的濃度存在於基本形狀塊中。根據平面光導體的至少一個實施形式，所述平面光導體具有正好一個基本形狀塊，在所述基本形狀塊中，優選正好一種散射劑目的明確地、非均勻分布地存在。因此，在平面光導體和基本形狀塊之內，尤其沒有出現輸出耦合係數的不連續的相位轉換或階梯狀的分布。特別地，在俯視圖中來看，散射劑顆粒的濃度在平面光導體的中央區域中最大並且優選朝向光射入側持續地下降。平面光導體在此能夠具有恆定的、保持不變的厚度。可能的是，散射劑的濃度僅沿著至少一個主光導方向變化，並且在製造公差的範圍內，在垂直於主側的方向上總是恆定的。此外說明一種照明設備。所述照明設備尤其包含如結合上述實施形式中的至少一個說明的一個或多個平面光導體。因此，也針對平面光導體公開照明設備的特徵並且反之亦然。在照明設備的至少一個實施形式中，所述照明設備包含如結合上述實施形式中的一個說明的平面光導體。此外，照明設置包括至少一個可電驅動的光源。光源設置在平面光導體的端側中的至少一個處。根據照明設備的至少一個實施形式，所述照明設備具有多個光源。光源優選位於端側中的正好一個處或者位於正好兩個對置的端側處或者位於正好四個彼此成對對置的端側處。根據照明設備的至少一個實施形式，光源包括發光二極體，或者光源由發光二極體和在發光二極體之間的可選的電和/或機械連接部組成。優選地，發光二極體沿著端側中的至少一個以帶狀形式設置。根據照明設備的至少一個實施形式，所述照明設備在工作時在平面光導體的兩個主側上發射輻射。換言之，所述照明設備構造成，在工作時在兩側、優選相同強度地或者幾乎相同強度地發射光。在斷開的狀態下，照明設備在平面光導體的區域中顯得尤其優選是透光的並且是清晰可見的。


以下在參考根據實施例的附圖的情況下詳細闡明在此描述的平面光導體以及在此描述的照明設備。在此，在各個附圖中，相同的附圖標記表示相同的元件。然而在此，沒有示出按照比例的關係，相反地，為了更好的理解，能夠誇大地示出各個元件。其示出圖I至4和7示出在此描述的照明設備和平面光導體的實施例的示意圖；圖5不出I禹合輸出係數沿主光導方向的變化的不意圖,和圖6示出在此描述的平面光導體的與角度相關的輻射特徵的示意圖。
具體實施例方式在圖IA中示出帶有平面光導體I的照明設備10的實施例的俯視圖，並且在圖IB中示出所述實施例的側視圖。平面光導體I具有兩個分別附加有散射劑5的基本形狀塊 7a、7b。散射劑5以顆粒的形式存在。顆粒的平均直徑優選地位於O. 02 μ m和10 μ m之間， 尤其位於O. 14 111和64 111之間，其中包括邊界值。散射劑5的顆粒例如由以下組分中的至少一個組成或者包括以下組分中的至少一個二氧化矽、二氧化鈦、氧化鋁、玻璃、空氣填充的顆粒。散射劑5的顆粒統計學地分布在未混合的基本形狀塊7a、7b中。基本形狀塊7a、7b具有相同的基本材料，散射劑5的顆粒嵌在所述基本材料中。所述基本材料例如是或者包括簡稱為PMMA的聚甲基丙烯酸甲酯、或者簡稱為PC的聚碳酸酯。將在平均顆粒直徑和/或顆粒材料方面彼此不同的不同散射劑5添加給基本形狀塊7a、7b的基本材料。由此，基本形狀塊7a與基本形狀塊7b相比具有更小的特定耦合輸出係數或散射橫截面。換言之，基本形狀塊7a與基本形狀塊7b相比不那麼強地散射輻射，由此，通過基本形狀塊7a從平面光導體I中耦合輸出更小的輻射部分。除在散射劑5和基本形狀塊7a、7b之間的分界面處或者在散射劑5內之外，優選在平面光導體I中不出現大於O. I的折射率突變。平面光導體I的彼此對置的主側2a、2b平坦並光滑地構成，並且彼此平行地設置。例如，光滑的或者光學光滑的表示，主側2a、2b的局部法向量的方向變化在例如為Iym或者例如為100 μ m的長度標度上最高為2。。主側2a、2b完全平面地設計成從平面光導體I中發射輻射。因此，平面光導體I的輻射區域A分別在整個主側2a、2b上延伸。主側2a、2b經由平坦構成的端側3彼此連接。在端側3處，分別安置多個由發光二極體形成的光源6的條帶。因此，彼此對置的端側3也為光射入側4，光經由所述光射入側4耦合輸入到平面光導體I中。可選地，如也在全部其他的實施例中，光射入側4設有粗化部或覆層，通過所述粗化部或覆層能夠擴大進入平面光導體I中的輻射耦合輸入效率。主光導方向zl、z2分別沿遠離光源6的方向延伸。在平行於主側2a、2b的垂線L的橫截面中，更強散射的基本形狀塊7b的比例沿著主光導方向zl、z2增加。基本形狀塊7b的最大比例位於中線L處。基本形狀塊7b關於主側2a並且在橫截面中來看透鏡狀地構成。基本形狀塊7b沒有達到光射入側4處。通過基本形狀塊7b的所述分布，實現由光源6發射的輻射在整個主側2a、2b上的均勻輻射。平面光導體I例如能夠通過雙組分注塑尤其在所謂的環形帶中製造。平面光導體I以及整個照明設備10的厚度D優選地位於Imm和25mm之間，尤其位於2mm和15mm之間，其中包括邊界值。平面光導體I的寬度W例如為大於50mm，尤其在50mm和Im之間，例如大約為150mm，其中包括邊界值。輻射區域A的面積優選地為至少100cm2，至少 750cm2，或者至少為 2000cm2。
可電驅動的光源6能夠直接地安置到端側3處或光射入側4處。與所示不同，同樣可能的是，光源6與光射入側4間隔開地設置，如在全部其他的實施例中也如此。光射入側4與光源6、尤其與光源6的光出射面之間的間距，例如在O. 2_和2_之間，尤其大約為O. 5_，其中包括邊界值。根據圖I的照明設備10除嵌入到基本形狀塊7a、7b中的散射劑5之外沒有其他的散射劑。特別地，平面光導體I的主側2a、2b是光滑的或者是光學光滑的，並且平面光導體I未設有擴散薄膜。因此，沿平行於垂線L的方向看，對於觀測者而言，尤其在光源6斷開的情況下，平面光導體I沒有引起渾濁或者模糊，而是清晰可見的以及透明的。在光源6斷開的情況下的清晰可見性尤其如下實現主側2a、2b是光滑的，並且散射劑5的顆粒具有相對較小的直徑並且對人眼而言是不可見的。此外，在輻射區域A中，平面光導體6尤其沒有如用人眼可見的輸出耦合結構那樣的結構。在圖2中示出照明設備10和平面光導體I的實施例的另一側視圖。根據圖2A，基 本形狀塊7a沒有散射劑。散射劑5僅存在於基本形狀塊7b中，散射劑5均勻地並且統計學地分布在所述基本形狀塊7b中。基本形狀塊7b分別達到至彼此對置的光射入側4處。此外，帶有散射劑5的基本形狀塊7b沒有分別達到主側2a、2b處。換言之，在垂直於主側2a、2b的方向上，帶有散射劑5的基本形狀塊7b嵌入到沒有散射劑的基本形狀塊7a中。根據圖2B，基本形狀塊7a沒有散射劑。帶有散射劑5的基本形狀塊7b存在於兩個彼此分開的區域中，所述區域分別遠離主側2a、2b延伸。沿垂直於主側2a、2b的方向看，基本形狀塊7b的比例沿主光導方向ζ在製造公差的範圍內單調地或者嚴格單調地增加。基本形狀塊7b沒有達到光射入側4處，然而延伸至與光射入側4對置的端側3處。光源6僅安置在端側3中的一個處，如同在圖2C中也是如此。在根據圖2C的實施例中，兩個沒有混合的基本形狀塊7a、7b都添加有散射劑5，其中在兩個基本形狀塊7a、7b中優選為相同的散射劑5，並且在基本形狀塊7b中散射劑5的濃度更高，由此，基本形狀塊7b與基本形狀塊7a相比具有更大的特定散射橫截面或特定輸出耦合係數。以側視圖來看，基本形狀塊7b沿著主光導方向ζ漏鬥狀地擴寬。基本形狀塊7b達到主側2a、2b處。在與光源6對置的端側3處，可選地安置有鏡8。鏡8能夠構成為漫反射的或鏡面反射的。與所示不同，同樣可能的是，主側2a、2b中的一個設有優選為鏡面反射的鏡，即根據反射定律的鏡。因此，在光源6斷開的狀態下，平面光導體I作用為一種鏡。在根據圖3的實施例中，平面光導體I僅具有唯一的基本形狀塊7，在所述基本形狀塊7中，散射劑5的顆粒非均勻地分布。因此，散射劑5顆粒的濃度在平面光導體I的中央區域中最大並且朝向光射入側4持續降低。也如在全部的其他實施例中，平面光導體I可選地除散射劑5之外能夠具有一個收縮部9或與所示出的不同具有多個收縮部9。收縮部9通過主側2b以與平坦構成的主側2a成一定角度地延伸而成。主側2&、213之間的角度優選地位於0.5°和4°之間，尤其位於I. 25°和2.5°之間，其中包括邊界值。在穿過平面光導體I觀察的情況下，由於在主側2a、2b之間的該小的角度沒有出現透射的輻射的明顯的畸變。換言之，在該情況下，平面光導體I也是清晰可見的並且沒有引起稜鏡狀的畸變。根據圖3，光源6還通過框架60固定在平面光導體I上。框架60例如對光而言是不可穿透的並且部分地延伸到主側2a、2b上。輻射區域A僅通過主側2a、2b的沒有被框架60覆蓋的區域形成。相應的布置也能夠存在於全部其他的實施例中。根據圖4，將光源6設置在平面光導體I的全部四個端側3處。以俯視圖來看，平面光導體I具有矩形的橫截面。以俯視圖來看，散射劑5的濃度在平面光導體I的中央區域中最高，並且在平面光導體I的角區域中最低。優選地，光源6分別沒有達到平面光導體I的角處。在圖5A和5B中示出輸出耦合係數α沿著主光導方向ζ的變化。根據圖5Α，輸出耦合係數α持續增加。輸出耦合係數α的這種變化優選應用在根據圖2Β和2C的實施例中。根據圖5Β的輸出耦合係數α的鐘形曲線狀的變化尤其存在於根據圖1、2Α和3的實施例中。在圖6中示出例如根據圖I至4的平面光導體I的與角度相關的輻射。關於相對於主側2或輻射區域A的垂線L來描繪相對於輻射角β的與方向相關的輻射強度I。最大的強度Imax位於相對於垂線L+/-20。的角度範圍之內。相對於垂線L具有>70°角度的角 度範圍內的最大強度I為最大強度Imax的最高O. 5、優選為最大強度Imax的最高O. 3。尤其以最大強度Imax的最高20%或者最高10%的公差藉助平面光導體I實現的輻射特徵相應於朗伯輻射體的輻射特徵。在圖7中詳細示出平面光導體I的工作原理。圖7的涉及平面光導體I和/或照明設備10的特徵能夠以相似的方式轉到全部的其他實施例上，並且因此也針對於此公開。在圖7Α中說明透射的不透明度值或者霧度值。不透明度值等於在角度範圍a中發射的輻射部分I2和總透射強度的商。在穿過平面光導體I時關於理想透射的、平面平行的平板而得到〈2. 5°的方向偏差的輻射視為是未散射的。被視為未散射的角度範圍a在圖7A中通過點劃線來與角度範圍b分界，在所述角度範圍b中，透射的輻射被視為是散射的或者少量散射的。尤其針對垂直地或者幾乎垂直地射到主側2上的輻射來限定不透明度值。在圖7B中對於反射給出相應的描述。在圖7C中示出沒有添加散射劑的變化的光導體I』。參看圖7C，從光源6開始，輻射沿著主光導方向ζ基本上以保持不變的強度保留在光導體I』中。參看圖7D，通過在平面光導體I中的散射劑5，由光源6輻射的輻射沿著主光導方向ζ增加地經受散射，使得沿著主光導方向ζ擴大輻射相對於主側2的角度，使得能夠耦合輸出輻射。根據圖7E，以相同大小的、虛構的部段來劃分主側2。在垂直於主側2的方向上通過平面光導體I的各個部段具有例如為輻射區域A的寬度W的最高1/20或最高1/100的橫向尺寸。在所述部段中的每一個中，輻射強度I幾乎是相等的。例如能夠通過對所述部段中的每一個取平均值得出耦合輸出係數α。尤其參看圖5Α和根據圖2Β和2C的實施例，輸出耦合係數α沿著主光導方向ζ例如持續增加。通過對平面光導體I的相對大的部段上的耦合輸出係數α和輻射強度I取平均值而以該考方式平均得出散射劑5濃度的統計學波動。在此描述的發明不受限於根據實施例進行的描述。相反地，本發明包括每個新特徵以及特徵的任意的組合，這尤其是包含在權利要求中的特徵的任意的組合，即使所述特徵或所述組合自身沒有在權利要求或實施例中明確說明。本專利申請要求德國專利申請102010018028. 9的優先權，其公開內容在此通過引用併入本文。·
權利要求
1.平面光導體(1)，具有 -兩個主側(2)，所述兩個主側彼此對置， -至少一個端側(3)，所述至少一個端側設計為光射入側(4)， -至少一個主光導方向(z )，所述至少一種主光導方向遠離所述光射入側(4)延伸，和-用於光散射至少一種散射劑(5 )，其中沿著所述主光導方向(z )變化地調節由於所述散射劑(5)導致的輸出耦合係數(α )，其中，分別在垂直於所述主側(2)中的一個的方向(L)上， -所述平面光導體(I)的不透明度值最高為O. 10， -所述平面光導體(I)的透射係數至少為O. 75，並且 -在所述主側(2)中的至少一個的至少一個連續的輻射區域(A)上的最小光密度和最大光密度的商最小為O. 75。
2.根據上一項權利要求所述的平面光導體(1)，其中公差最高為最大輸出耦合係數a max的5%的所述輸出耦合係數α沿著所述主光導方向ζ遵循以下關係中的一個-α (ζ) =α 0/ (1-α 0ζ), -α (ζ) = ( α max+kz) / (1+ α max2 (z-ff/2) 2)0'5, 其中為在所述輻射區域(A)的距所述光射入側(4)中的一個最近的區域中的輸出耦合係數，W為所述輻射區域(A)沿著所述主光導方向ζ的平均伸展，並且k是實數。
3.根據上述權利要求之一所述的平面光導體(I)， 其中所述散射劑(5)或所述散射劑(5)中的一種以顆粒的形式存在， 其中平均顆粒直徑位於IOnm和30 μ m之間，包括邊界值。
4.根據上述權利要求之一所述的平面光導體(I)， 其中所述平面光導體(I)由至少兩個彼此不同的基本形狀塊(7)成形，其中所述基本形狀塊(7)具有不同的、平均的特定輸出耦合係數並且尤其未混合。
5.根據上一項權利要求所述的平面光導體(I)， 其中 -所述基本形狀塊(7)中的至少一個包括所述散射劑(5)，並且所述基本形狀塊(7)中的至少一個沒有所述散射劑(5)，和/或 -所述基本形狀塊(7 )中的至少兩個包含不同的散射劑(5 )，和/或 -所述基本形狀塊(7 )中的至少兩個包含不同濃度的相同的所述散射劑(5 )。
6.根據上述權利要求之一所述的平面光導體(I)， 所述平面光導體(I)藉助多組分注塑製造。
7.根據上述權利要求之一所述的平面光導體(I)， 其中所述主面(2)至少在所述輻射區域(A)中分別是光滑的。
8.根據上述權利要求之一所述的平面光導體(I)， 其中所述主面(2)之間的角度位於0.5°和4.0°之間，包括邊界值，或者其中所述主面(I)彼此平行地定向。
9.根據上述權利要求之一所述的平面光導體(I)， 其中對於在關於垂直於所述主側(2)中的一個的方向(L)上，對於在大於70°的角度範圍中的角度而言的輻射強度(I)，最高為對於在相對於所述方向(L)最高為70°的角度範圍中的角度而言的最大輻射強度(Iniax)的50%。
10.根據上述權利要求之一所述的平面光導體(I)， 所述平面光導體具有Irnm和25_之間的厚度(D)，包括邊界值。
11.根據上述權利要求之一所述的平面光導體(I)， 其中所述輻射區域(A)具有至少為IOOcm2的面積。
12.照明設備(10)，具有至少一個平面光導體(I)以及至少一個能夠電驅動的光源(6), 其中所述平面光導體(I) -具有兩個彼此對置的主側(2)，至少一個設計成光射入側(4)的端側(3)和至少一個主光導方向(ζ )，所述至少一個主光導方向(ζ )遠離所述光射入側(4)延伸，並且-包含用於光散射的散射劑(5),所述散射劑不均勻地分布在所述平面光導體(I)中，-分別在垂直於所述主側(2)中的一個的方向(L)上具有最高為O. 10的不透明度值，至少為O. 75的透射係數和最小為O. 75的在所述主側(2)中的至少一個的至少一個連續輻射區域(A)上的最小光密度和最大光密度的商，並且其中所述光源(6)安置在所述端側(3)中的至少一個上。
13.根據上一項權利要求所述的照明設備(10)， 所述照明設備具有多個光源(6)，其中所述光源(6)位於正好一個端側(3)處， 或者其中所述光源(6 )位於正好兩個對置的端側(3 )處。
14.根據上一項權利要求所述的照明設備(10)， 其中所述光源(6)包括發光二極體或者由發光二極體組成， 其中所述發光二極體設置在至少一個條帶中。
全文摘要
在平面光導體(1)的至少一個實施形式中，所述平面光導體具有至少一個用於光散射的散射劑(5)，其中由於散射劑(5)導致耦合輸出係數。沿著主光導方向(z)變化地調節耦合輸出係數。在垂直於平面光導體(1)的主側(2)的方向(L)上，不透明度值最高為0.10，透射係數至少為0.75，並且在至少一個主側(2)的連續的輻射區域(A)上看，最小的光密度和最大的光密度的商最小為0.75。
文檔編號G02B6/00GK102906607SQ201180020580
公開日2013年1月30日 申請日期2011年3月21日 優先權日2010年4月23日
發明者彼得·布裡克, 朱利葉斯·穆沙韋克 申請人:歐司朗股份有限公司