一種託盤及工藝設備的製作方法
2023-07-24 00:00:46 2
一種託盤及工藝設備的製作方法
【專利摘要】本實用新型涉及一種託盤結構及工藝設備，其中託盤結構，包括一本體，所述本體具有一承載面，所述本體內部形成有一中空腔體結構，所述本體上還形成有：氣體輸入通道，用於向所述中空腔體結構通入氣體；和氣體輸出通道，貫穿所述承載面和中空腔體結構。本實用新型的有益效果是：從氣體輸出通道輸出的氣體對承載面承載的對象產生一個託力，移動對象時減小了對象與承載面之間的摩擦力，方便對象的移動。
【專利說明】一種託盤及工藝設備
【技術領域】
[0001] 本實用新型涉及液晶產品製作【技術領域】，尤其涉及一種託盤及工藝設備。
【背景技術】
[0002] TFT-IXD (薄膜電晶體顯示器，Thin Film Transistor)行業中，Nikon曝光機內部 的Glass (玻璃基板）是以Tray (託盤）來進行傳輸的，Tray起初託起Glass時，要進行對 位操作，若Glass位置發生Shift (改變)超出Spec (規格)，則需要人員手動進行位置校正， 而現有的Tray因與Glass存在大面積接觸，而產生相當大的摩擦阻力，這樣人員手動拉動 Glass時，存在以下幾方面困難：
[0003] 1、力度小時Glass難以拉動；
[0004] 2、力度大時Glass易被拉碎，發生Broken (破損），尤其是0· 5T以下的Glass ;
[0005] 3、因Glass與Tray摩擦阻力大，調整Glass位置耗費時間較長。 實用新型內容
[0006] 為了解決上述技術問題，本實用新型提供一種託盤以及工藝設備，減小託盤與其 承載對象之間的摩擦以方便對對象的移動。
[0007] 為了達到上述目的，本實用新型提供的技術方案是：一種託盤結構，包括一本體， 所述本體具有一承載面，所述本體內部形成有一中空腔體結構，所述本體上還形成有：
[0008] 氣體輸入通道，用於向所述中空腔體結構通入氣體；和
[0009] 氣體輸出通道，貫穿所述承載面和中空腔體結構。
[0010] 進一步的，所述氣體輸出通道為多個，每一個氣體輸出通道在所述承載面上的出 口的面積小於預定門限。
[0011] 進一步的，多個氣體輸出通道在所述承載面上的出口均勻排列。
[0012] 進一步的，所述本體包括由多個第一隔板和多個第二隔板交叉相接形成的網格狀 結構，所述腔體結構、所述氣體輸入通道、所述氣體輸出通道形成於所述第一隔板和所述第 二隔板上。
[0013] 本實用新型還提供一種工藝設備，用於對對象進行操作，所述製造設備包括一託 盤，所述託盤包括一本體，所述本體具有一承載面，所述本體內部形成有一中空腔體結構， 所述本體上還形成有：
[0014] 氣體輸入通道，用於向所述中空腔體結構通入氣體；和
[0015] 氣體輸出通道，貫穿所述承載面和中空腔體結構。
[0016] 進一步的，所述氣體輸出通道為多個，每一個氣體輸出通道在所述承載面上的出 口的面積小於預定門限。
[0017] 進一步的，多個氣體輸出通道在所述承載面上的出口均勻排列。
[0018] 進一步的，所述本體包括由多個第一隔板和多個第二隔板交叉相接形成的網格狀 結構，所述腔體結構、所述氣體輸入通道、所述氣體輸出通道形成於所述第一隔板和所述第 二隔板上。
[0019] 本實用新型的有益效果是：從氣體輸出通道輸出的氣體對承載面承載的對象產生 一個託力，移動對象時減小了對象與承載面之間的摩擦力，方便對象的移動。
【專利附圖】
【附圖說明】
[0020] 圖1表示本實用新型託盤截面結構示意圖；
[0021] 圖2表示本實用新型結構示意圖；
[0022] 圖3表示本實用新型託盤結構使用狀態示意圖。
【具體實施方式】
[0023] 以下結合附圖對本實用新型的結構和原理進行詳細說明，所舉實施例僅用於解釋 本實用新型，並非以此限定本實用新型的保護範圍。
[0024] 如圖1-圖3所示，本實施例提供一種託盤結構，包括一本體1，所述本體1具有一 承載面，所述本體1內部形成有一中空腔體結構11，所述本體1上還形成有：
[0025] 氣體輸入通道12,用於向所述中空腔體結構11通入氣體；和
[0026] 氣體輸出通道13,貫穿所述承載面和中空腔體結構11。
[0027] 進入所述腔體結構11的氣體經由所述氣體輸出通道13輸出，在所述承載面表面 形成一氣浮層，該氣浮層對所述承載面承載的對象形成一託力，這樣在移動所述對象時，減 小了所述對象與所述承載面之間的摩擦力，甚至在該氣浮層施加的託力足夠大時，使得所 述對象可以脫離所述承載面而完全避免所述對象與所述承載面之間的摩擦力，方便所述對 象的移動，避免了硬性拖拽對所述對象產生的擦傷和破損，且本實施例中託盤結構簡單，成 本低，易於實現。
[0028] 本實施例中，通入所述氣體輸入通道12內的氣體為CDA，即大氣經壓縮機壓縮後 除溼，再經過濾器或活性炭吸附去除粉塵及炭氫化合物後的氣體。
[0029] 本實施例中所述承載面所承載的對象可以是玻璃基板2,當然也可以是其他物品， 以下皆採用玻璃基板2對本實施例託盤結構進行具體說明。
[0030] 本實施例中，所述氣體輸出通道13為多個，每一個氣體輸出通道13在所述承載面 上的出口的面積小於預定門限。
[0031] 所述氣體輸出通道13在所述承載面上的出口的面積越小，其輸出的氣體產生的 力越大，相反，所述氣體輸出通道13在所述承載面上的出口的面積越大，其輸出的氣體產 生的力越小，所以為了使得從所述氣體輸出通道13輸出的氣體足以在所述承載面上形成 一氣浮層，所述氣浮層可以為承載面承載的玻璃基板2提供以託力，每一個氣體輸出通道 13在所述承載面上的出口的面積小於預定門限。
[0032] 進一步的，多個氣體輸出通道13在所述承載面上的出口均勻排列。保證玻璃基板 2受力的均勻性。
[0033] 如圖2所示，所述本體1包括由多個第一隔板和多個第二隔板交叉相接形成的網 格狀結構，所述腔體結構11、所述氣體輸入通道12、所述氣體輸出通道13(圖中氣體輸出通 道13的分布只是示意，並不代表實際的氣體輸出通道的分布）形成於所述第一隔板110和 所述第二隔板111上。
[0034] 放置玻璃基板時，多個升降杆穿入所述網格狀結構，並外露於所述承載面，玻璃基 板通過機械手的搬運放置於所述升降杆的一端，然後升降杆下降，玻璃基板與所述承載面 接觸，玻璃基板的放置與取下為現有技術，在此不再贅述。
[0035] 本實用新型還提供一種工藝設備，用於對對象進行操作，所述製造設備包括一託 盤，所述託盤包括一本體1，所述本體1具有一承載面，所述本體1內部形成有一中空腔體結 構11，所述本體1上還形成有：
[0036] 氣體輸入通道12,用於向所述中空腔體結構11通入氣體；和
[0037] 氣體輸出通道13,貫穿所述承載面和中空腔體結構11。
[0038] 進一步的，所述氣體輸出通道13為多個，每一個氣體輸出通道13在所述承載面上 的出口的面積小於預定門限。
[0039] 進一步的，多個氣體輸出通道13在所述承載面上的出口均勻排列。
[0040] 進一步的，所述本體1包括由多個第一隔板和多個第二隔板交叉相接形成的網格 狀結構，所述腔體結構11、所述氣體輸入通道12、所述氣體輸出通道13形成於所述第一隔 板110和所述第二隔板111上。
[0041] 以上所述為本實用新型較佳實施例，應當指出的是，對於本領域普通技術人員來 說，在不脫離本實用新型所述原理的前提下，還可以作出若干改進和潤飾，這些改進和潤飾 也應視為本實用新型保護範圍。
【權利要求】
1. 一種託盤結構，包括一本體，所述本體具有一承載面，其特徵在於，所述本體內部形 成有一中空腔體結構，所述本體上還形成有： 氣體輸入通道，用於向所述中空腔體結構通入氣體；和 氣體輸出通道，貫穿所述承載面和中空腔體結構。
2. 根據權利要求1所述的託盤結構，其特徵在於，所述氣體輸出通道為多個，每一個氣 體輸出通道在所述承載面上的出口的面積小於預定門限。
3. 根據權利要求2所述的託盤結構，其特徵在於，多個氣體輸出通道在所述承載面上 的出口均勻排列。
4. 根據權利要求3所述的託盤結構，其特徵在於，所述本體包括由多個第一隔板和多 個第二隔板交叉相接形成的網格狀結構，所述腔體結構、所述氣體輸入通道、所述氣體輸出 通道形成於所述第一隔板和所述第二隔板上。
5. -種工藝設備，用於對對象進行操作，所述工藝設備包括一託盤，所述託盤包括一本 體，所述本體具有一承載面，其特徵在於，所述本體內部形成有一中空腔體結構，所述本體 上還形成有： 氣體輸入通道，用於向所述中空腔體結構通入氣體；和 氣體輸出通道，貫穿所述承載面和中空腔體結構。
6. 根據權利要求5所述的工藝設備，其特徵在於，所述氣體輸出通道為多個，每一個氣 體輸出通道在所述承載面上的出口的面積小於預定門限。
7. 根據權利要求6所述的工藝設備，其特徵在於，多個氣體輸出通道在所述承載面上 的出口均勻排列。
8. 根據權利要求7所述的工藝設備，其特徵在於，所述本體包括由多個第一隔板和多 個第二隔板交叉相接形成的網格狀結構，所述腔體結構、所述氣體輸入通道、所述氣體輸出 通道形成於所述第一隔板和所述第二隔板上。
【文檔編號】B65D19/38GK203845148SQ201420110963
【公開日】2014年9月24日 申請日期:2014年3月12日 優先權日:2014年3月12日
【發明者】劉會雙, 羅麗平, 侯本光, 崔洋, 蔡春月 申請人:北京京東方顯示技術有限公司, 京東方科技集團股份有限公司