雙螺旋線圈盤的製作方法

2023-08-10 07:35:11

專利名稱：雙螺旋線圈盤的製作方法
技術領域：
本實用新型涉及一種線圈盤，具體是一種雙螺旋線圈盤。
背景技術：
電磁爐線圈盤是電磁爐中重要的功率輸出元件，它由IGBT功率管向功率輸出元 件電磁線圈盤輸送頻率為20KHz、電流約20A的脈衝電流，使設置在線圈盤上方的鐵質鍋具 底部產生強大渦流並發熱，達到加熱食物的目的。理論上電磁爐的熱效率可以達到93%，由 於傳統的電磁爐受造價及結構影響，其效率只有80%左右，除了功率管(IGBT)、風扇、控制 板的功耗約6%外，其餘的損耗14%均來自於電磁線圈盤，因此如何降低電磁線圈盤的造 價，提高Q值、降低溫升，是提高電磁爐電氣性能，熱效率及使用壽命的一個重要途徑。而市場上的電磁爐一般呈平板狀，鍋具一般為平底鍋，因此這種電磁爐一般智能 對平底鍋的底部進行加熱，熱效率較低，於是市面上開始出現對電磁爐線圈盤的結構進行 改造的電磁爐。如中國專利文獻號CN 2679958於2005年2月16日公開了一種內外環型加熱線 圈盤，包括線圈盤支架、鐵粉芯和加熱線圈，其線圈盤支架分為內環支架和外環支架，設置 在內外環支架和鐵粉芯上的加熱線圈也分為相隔離的內加熱線圈盤和外加熱線圈盤。所述 的內、外環支架和內、外加熱線圈盤在同一平面上，或在不同平面上，或在圓弧鍋底內凹弧 面上。內加熱線圈盤與外加熱線圈盤通過並聯或串聯的方式聯接；加熱線圈盤一般為內凹 的盤狀。該結構雖然能對平底鍋的頂部也同時進行加熱，但是其實用範圍較窄，而且這種繞 線方式所產生的磁場並不均勻，容易造成鍋具受熱不均，因此，有必要進一步改進。
實用新型內容本實用新型的目的旨在提供一種設計簡單、結構合理、適用性廣、產生的磁場均 勻、使用安全可靠的雙螺旋線圈盤，以克服現有技術中的不足之處。按此目的設計的一種雙螺旋線圈盤，包括線圈盤，和盤繞在其上的線圈，其結構特 徵是線圈盤呈平底鍋狀或弧底鍋狀，線圈螺旋式盤繞在其上。所述線圈盤呈平底鍋狀，其底部設置有圓形平底託，平底託放射性地向上延伸出 數條彎曲的支肋，支肋末端相互連接形成線圈盤的盤身。所述線圈盤呈弧底鍋狀，其底部開有圓形通孔，其頂部邊緣設置有水平凸緣。所述線圈的間隙均勻地螺旋盤繞在線圈盤上。所述線圈的間隙漸變式地螺旋盤繞在線圈盤上。所述線圈的間隙變化為，從線圈盤的中心到外圈，間隙由小變大、再由大變小。所述線圈的間隙變化為，從線圈盤的中心到其半徑中點，間隙由小變大、從線圈盤 半徑中點到其外圈，間隙由大變小。所述線圈的每圈線圈之間的間隙大小均不相等。所述線圈盤的直徑大小為10-60釐米。[0015]通過採用上述技術方案，本實用新型通過改變線圈盤的形狀(即改變線圈盤盤面 與鍋具底部的距離)及改變線圈的繞制密度，以增加電磁爐的適用範圍，同時通過調節線 圈間的間隙，平衡鍋具底部的磁場，保證鍋具的受熱均勻，提高電磁爐的熱效率。其同時具 有設計簡單、結構合理、適用性廣、使用安全可靠的特點，特別適合不同外形結構的電磁爐， 適合廠家的推廣。
圖1為本實用新型一實施例的立體結構示意圖；圖2為本實用新型一實施例的又一立體結構示意圖；圖3為圖1的剖視結構示意圖。圖4為本實用新型又一實施例的主視圖；圖5為圖4的立體結構示意圖；圖6為圖4的剖視結構示意圖。
具體實施方式

以下結合附圖及實施例對本實用新型作進一步描述。第一實施例參見圖1-圖3，本雙螺旋線圈盤，包括線圈盤2，和盤繞在其上的線圈1，其線圈盤 2呈平底鍋狀，其底部設置有圓形平底託，平底託放射性地向上延伸出數條彎曲的支肋，支 肋末端相互連接形成線圈盤2的盤身。線圈1的間隙漸變式地螺旋盤繞在線圈盤2上，其 間隙變化為，從線圈盤2的中心到其半徑中點，間隙由小變大、從線圈盤2半徑中點到其外 圈，間隙由大變小；而且線圈1的每圈線圈之間的間隙大小均不相等。另外，線圈盤盤面與 鍋具底弧面(圖3虛線所示)距離由小變大、再由大變小。用該線圈盤2做的電磁爐，一般適合平底鍋、或弧底鍋的烹飪使用，其線圈1的間 隙經過準確計算並調整，確保平底鍋底部磁場均勻，從而使其受熱均勻，該設計可有效提高 電磁爐的熱效率，節約能源，滿足時下提倡的低碳生活，而且由於線圈1的每圈線圈之間的 間隙大小均不相等，因而其適合用於做成尺寸較大的線圈盤2，使其適合用於餐飲企業的廚 具中，為企業節約更多成本。第二實施例參見圖4-圖6，本雙螺旋線圈盤，線圈盤3呈弧底鍋狀，其底部開有圓形通孔，其頂 部邊緣設置有水平凸緣。線圈1的間隙漸變式地螺旋盤繞在線圈盤3上，其間隙變化為，從 線圈盤3的中心到其半徑中點，間隙由小變大、從線圈盤3半徑中點到其外圈，間隙由大變 小；而且線圈1的每圈線圈之間的間隙大小均不相等。其中，線圈盤2的直徑大小為50釐米。由於該線圈盤3呈弧底鍋狀，因而特別適合弧底鍋的烹飪使用，同時還能增加電 磁爐的適用範圍，大大滿足不同人或餐飲企業的不同需求，而且由於線圈1的每圈線圈之 間的間隙大小均不相等，因而其適合用於做成尺寸較大的線圈盤2，使其適合用於餐飲企業 的廚具中，為企業節約更多成本。
權利要求1.一種雙螺旋線圈盤，包括線圈盤，和盤繞在其上的線圈(1)，其特徵是線圈盤呈平底 鍋狀或弧底鍋狀，線圈(1)螺旋式盤繞在其上。
2.根據權利要求1所述的雙螺旋線圈盤，其特徵是所述線圈盤(2)呈平底鍋狀，其底部 設置有圓形平底託，平底託放射性地向上延伸出數條彎曲的支肋，支肋末端相互連接形成 線圈盤的盤身。
3.根據權利要求1所述的雙螺旋線圈盤，其特徵是所述線圈盤(3)呈弧底鍋狀，其底部 開有圓形通孔，其頂部邊緣設置有水平凸緣。
4.根據權利要求2或3所述的雙螺旋線圈盤，其特徵是所述線圈(1)的間隙均勻地螺 旋盤繞在線圈盤(2)、(3)上。
5.根據權利要求2或3所述的雙螺旋線圈盤，其特徵是所述線圈(1)的間隙漸變式地 螺旋盤繞在線圈盤O)、(3)上。
6.根據權利要求5所述的雙螺旋線圈盤，其特徵是所述線圈(1)的間隙變化為，從線圈 盤O)、(3)的中心到外圈，間隙由小變大、再由大變小。
7.根據權利要求6所述的雙螺旋線圈盤，其特徵是所述線圈(1)的間隙變化為，從線圈 盤(2),(3)的中心到其半徑中點，間隙由小變大、從線圈盤(2),(3)半徑中點到其外圈，間 隙由大變小。
8.根據權利要求7所述的雙螺旋線圈盤，其特徵是所述線圈(1)的每圈線圈之間的間 隙大小均不相等。
9.根據權利要求1所述的雙螺旋線圈盤，其特徵是所述線圈盤0)、(3)的直徑大小為 10-60釐米。
專利摘要一種雙螺旋線圈盤，包括線圈盤，和盤繞在其上的線圈，其線圈盤呈平底鍋狀或弧底鍋狀，線圈螺旋式盤繞在其上。這兩種線圈盤主要用於加熱球形弧底鍋具。線圈盤呈平底鍋狀，其底部設置有圓形平底託，平底託放射性地向上延伸出數條彎曲的支肋，支肋末端相互連接形成線圈盤的盤身。或者，線圈盤呈弧底鍋狀，其底部開有圓形通孔，其頂部邊緣設置有水平凸緣。線圈的間隙均勻地螺旋盤繞在線圈盤上。或者，線圈的間隙漸變式地螺旋盤繞在線圈盤上。本實用新型通過改變線圈盤的形狀及改變線圈的繞制密度，以增加電磁爐的適用範圍，同時通過調節線圈間的間隙，平衡鍋具底部的磁場，保證鍋具的受熱均勻，提高電磁爐的熱效率。
文檔編號H05B6/36GK201830488SQ201020591610
公開日2011年5月11日 申請日期2010年10月28日 優先權日2010年10月28日
發明者萬宇 申請人:萬宇