一種溼蝕刻設備的製作方法
2023-07-30 11:47:16 1
專利名稱：一種溼蝕刻設備的製作方法
技術領域：
本實用新型屬於溼蝕刻設備，尤其涉及一種具有可除去結晶物功能的溼蝕刻設備。
背景技術：
習知利用噴灑蝕刻液以進行溼蝕刻製程的蝕刻機臺，噴灑的蝕刻液容易在玻璃基 板的入口通道處形成結晶，所形成的結晶物易因機臺振動而掉落在玻璃基板上，造成玻璃 基板上的晶片組件或半導體組件的刮傷，進而導致組件中缺角欠損及斷線。此種情況更常 發生在增加製程溫度時，增加製程溫度可以加快蝕刻速率，使產能提升，然而高溫會使得蝕 刻液中的水分以較快的速度蒸發，而形成更多結晶，所形成的結晶物若掉落在玻璃基板上， 對於產品的良率是一大威脅。 請參閱圖l，是現有的溼蝕刻設備1的結構示意圖。在溼蝕刻設備1中，蝕刻製程 是在蝕刻槽11內進行。需注意的是，圖1中僅顯示蝕刻槽11的一部分，未將蝕刻槽11所 有的側壁示出。如圖1所示，以蝕刻槽11的側壁110為界劃分內外，內部為進行蝕刻的環 境，外部為一般的正常環境。蝕刻槽11的側壁110開設一開口 112，基板10經由該開口 112 由外部環境進入蝕刻槽11內進行蝕刻。 在溼蝕刻設備1中，在蝕刻槽11的側壁110的所述開口 112處，設有閘門150。閘 門150上有一門板151及與該門板151連結的一扳動軸153，當扳動軸153活動時，可使門 板151在一第一位置及一第二位置間移動。門板151的大小略大於蝕刻槽11的所述開口 112，當門板151在第一位置時，足可遮蔽該開口 112，以免蝕刻槽11內的蝕刻液噴濺或擴散 至外部；當門板151在第二位置時，該開口 112即暴露出或留有空隙以使基板10通過多個 輸送滾輪120的傳動進入到蝕刻槽11內。 在溼蝕刻設備1中，蝕刻槽11內設有多個蝕刻模塊160，其包含一分流器162及一 噴嘴164，蝕刻液經由分流器162分流並從噴嘴164噴出以形成如圖1所示的圓錐形噴流 165，蝕刻液噴灑在基板10並對基板10上塗布的材料進行選擇性的蝕刻。 然而，在現有的溼蝕刻設備1中進行蝕刻製程時所使用的蝕刻液，容易在基板10 的入口通道處形成結晶，附著在閘門150的門板151上，結晶物在閘門150活動時，容易因 振動而掉落在基板10上，影響產品良率，門板151上的結晶物若持續累積形成鐘乳石狀物， 則可能因與基板10接觸而造成基板10刮傷。 此外，為清除結晶物，溼蝕刻設備必須停機，如此將縮小溼蝕刻設備的稼動率，而 對基板的產出及人力的耗費等生產成本皆有不利的影響。
實用新型內容本實用新型所要解決的技術問題在於提供一種具有可除去結晶物功能、減少清除
結晶物時所需的人力耗費，提高機臺的稼動率以增加基板的產出的溼蝕刻設備。
為解決上述技術問題，本實用新型提供一種溼蝕刻設備，所述溼蝕刻設備包括[0010] —蝕刻槽，具有一用以供一基板進入所述蝕刻槽內的開口 ，所述開口位於所述蝕 刻槽的一側壁； —閘門，設於所述開口處，所述閘門具有一用於遮蔽及暴露出所述開口的門板，且 所述門板設置成與水平面之間具有一不為零的夾角； —提供液體的液滴裝置，所述液滴裝置設置成使液體順著所述門板，由高處向低 處流動；以及 —用以防止液體流入所述蝕刻槽內的導流片，所述導流片設置於所述開口的下緣。 所述溼蝕刻設備還包括 多個用於輸送所述基板的輸送滾輪，排列於所述蝕刻槽的側壁兩側。 所述閘門包括一用以使所述門板在一第一位置及一第二位置間移動的扳動軸，所
述扳動軸與所述門板連接。 所述導流片為長條狀且橫截面為三角形；所述導流片具有一黏著部，固定於所述 開口的下緣；所述導流片具有一用以導引液體的流向，以防止液體流入所述蝕刻槽內的導 流部。
—種溼蝕刻設備，所述溼蝕刻設備包括 —蝕刻槽，具有一用以供一基板進入所述蝕刻槽內的開口 ，所述開口位於所述蝕 刻槽的一側壁； —閘門，設於所述開口處，所述閘門具有一用於遮蔽及暴露出所述開口的門板，且 所述門板設置成與水平面之間具有一不為零的夾角； —導流片，其包括一黏著部及一導流部，所述導流片利用所述黏著部固定於所述 開口的下緣；以及 —提供液體的液滴裝置，所述液滴裝置設置成使液體順著門板及導流片的導流部 由上往下流動，液體通過導流部的導引，以避免流入所述蝕刻槽內。 所述溼蝕刻設備還包括 多個用於輸送所述基板的輸送滾輪，排列於所述蝕刻槽的側壁兩側。 所述閘門包括一用以使所述門板在一第一位置及一第二位置間移動的扳動軸，所
述扳動軸與所述門板連接。 —種溼蝕刻設備，所述溼蝕刻設備包括 —蝕刻槽，具有一用以供一基板進入所述蝕刻槽內的開口 ，所述開口位於所述蝕 刻槽的一側壁； —閘門，設於所述開口處，所述閘門具有一用於遮蔽及暴露出所述開口的門板，且 所述門板設置成與水平面之間具有一不為零的夾角； —導流片，其包括一黏著部及一導流部，所述導流片利用所述黏著部固定於所述 開口的下緣；以及 —提供純水的液滴裝置，所述液滴裝置設置成使純水順著所述門板及導流片的導 流部由上往下流動，純水通過導流部的導引，以避免流入蝕刻槽內。 所述溼蝕刻設備還包括 多個用於輸送所述基板的輸送滾輪，排列於所述蝕刻槽的側壁兩側。[0033] 所述閘門包括一用以使所述門板在一第一位置及一第二位置間移動的扳動軸，所 述扳動軸與所述門板連接。 本實用新型所提供的溼蝕刻設備，可除去閘門的門板上附著的結晶物，有效解決 結晶物容易掉落在基板造成基板上的晶片組件或半導體組件的缺角欠損及斷線的問題。應 用本溼蝕刻設備不僅可改善產品良率，另一方面可免除停機進行清除結晶物的工作，減少 人力耗費，機臺的稼動率也因此提高，基板的產出增加。
圖1是現有技術提供的溼蝕刻設備的結構示意圖。 圖2是本實用新型提供的溼蝕刻設備的結構示意圖。 圖3A是本實用新型提供的溼蝕刻設備的閘門的立體圖。 圖3B是本實用新型提供的溼蝕刻設備中設置於蝕刻槽開口的下緣的導流片的立 體圖。 圖3C是圖3B中A部的放大詳圖。
具體實施方式
為了使本實用新型的目的、技術方案及優點更加清楚明白，
以下結合附圖及實施 例，對本實用新型進行進一步詳細說明。應當理解，此處所描述的具體實施例僅僅用以解釋 本實用新型，並不用於限定本實用新型。 請參閱圖2，是本實用新型實施例提供的溼蝕刻設備2的結構示意圖。在溼蝕刻設 備2中，蝕刻製作過程是在蝕刻槽21內進行。需注意的是，圖2中僅顯示蝕刻槽21的一部 分，未將蝕刻槽21所有的側壁示出。蝕刻槽21內設有多個蝕刻模塊260，其包括一分流器 262及一噴嘴264，蝕刻液經由分流器262分流並從噴嘴264噴出以形成如圖2所示的圓錐 形噴流265。如圖2所示，以蝕刻槽21的側壁210為界劃分內外，內部為進行蝕刻的環境， 外部為一般的正常環境。蝕刻槽21的側壁210開設一開口 212，基板20經由該開口 212由 外部環境進入蝕刻槽21內進行蝕刻，由蝕刻液形成的圓錐形噴流265噴灑在基板20上並 對基板20上塗布的材料進行選擇性的蝕刻。 在溼蝕刻設備2中，在蝕刻槽21的側壁210的所述開口 212處，設有閘門250。閘 門250上有一門板251及與該門板251連結的一扳動軸253，當扳動軸253活動時，可使門 板251在一第一位置及一第二位置間移動。門板251的大小略大於蝕刻槽21的開口 212， 當門板251在第一位置時，可遮蔽該開口 212，以免蝕刻槽21內的蝕刻液噴濺或擴散至外 部；當門板251在第二位置時，該開口 212即暴露出或留有空隙以使基板20通過多個輸送 滾輪220的傳動進入到蝕刻槽21內。該輸送滾輪220，排列在蝕刻槽21的側壁210兩側， 用於輸送基板20，以使基板20經蝕刻槽21的開口 212進入蝕刻槽21內。 在一實施例中，閘門250可設計為直線扳動式，通過扳動軸253在兩定點間直線移 動以推或拉的方式帶動門板251，使門板251在第一位置時遮蔽該開口 212，在第二位置時 暴露出該開口 212。在另一實施例中，閘門250可設計為轉動開關式，當以扳動軸253的軸 心轉動時，門板251也隨之轉動，當門板251轉動至第一位置時，可遮避開開口 212 ;當門板 251轉動至第二位置時，該開口 212也隨之暴露。需注意的是，本實施例也可應用於以其它方式設計的閘門，不僅限於上述兩種方式。 請參閱圖2及圖3A，由於蝕刻液形成的結晶容易累積在閘門250的門板251上， 本實施例的溼蝕刻設備2通過加裝一液滴裝置240提供一易於溶解結晶物的液體，而且通 過傾斜式設計的門板251，該液體能夠順著門板251由高處向低處流，與此同時，該液體會 有一部份滲入門板251他處，而將門板251上的結晶物溶出，溶出液於後排出。本實施例的 溼蝕刻設備2還包括一導流片230設置於開口 212的下緣，由於導流片230高度的設計，能 夠避免該液體流入蝕刻槽21內。請參閱圖3A，在溼蝕刻設備2中，閘門250的門板251為 傾斜式設計，非平行於水平面，而是與水平面呈一定的角度(e)。在一實施態樣中，該角度 (9 )可約略設計為10度上下。因此，當將液滴裝置240提供的液體從一輸液管242輸送至 門板251上緣的相對高處時，該液體由高處流向低處，沿圖3A所示的P方向流動，同時該液 體會有一部份滲入門板251他處，將門板251上鄰近蝕刻槽21的開口 212—側的結晶物溶 解而後排出。 請進一步參閱圖3B及圖3C，本實用新型實施例並利用一長條狀且其橫截面為三 角形的導流片230導引該液體的流向，以防止該液體流入蝕刻槽21內，其中導流片230包 括一黏著部234及一導流部232 (如圖3C所示)，黏著部234與蝕刻槽21的開口 212下緣 貼附黏著，導流部232靠近蝕刻槽21內部的地方為相對高處，該液體通過導流部232的導 引，而不會流入蝕刻槽21內，因此溶出液不會流入蝕刻槽21內而影響蝕刻液濃度。本實施 例中，由於閘門250的門板251為傾斜式設計，故大部分液體會順著門板251流動至下方排 出，僅小部分液體會滲入門板251他處，滲入的液體將附著在其上的結晶物溶解而後排出。 此外，導流片230的材質可為聚氯乙烯(Polyvinyl Chloride, PVC)。 在一實施例中，輸液管242可固定於閘門250上，不管閘門250為打開或關閉，輸 液管242的液體流出口與閘門250的門板251的相對位置皆保持不變。在另一實施例中， 可控制液滴裝置240輸出液體的時點，例如閘門250打開時輸出液體，關閉時不輸出液體， 或者是閘門250關閉時輸出液體，打開時不輸出液體。上述的實施態樣端視閘門250的活 動方式與門板251的設計，液體輸出時與其配合達成溶解結晶物的目的即可。此外，液體輸 出的流量也可視情況需要而做調整，調整適當的流量以避免過大會流入蝕刻槽21內過小 則無法完成結晶物清除工作諸類的情況發生。 根據本實用新型實施例的溼蝕刻設備可解決蝕刻液形成的結晶物依附於基板入 口通道處造成基板上的晶片組件或半導體組件的缺角欠損或斷線的問題。舉例而言，在蝕 刻槽內使用鉻蝕刻液進行鉻蝕刻製程時，本實用新型實施例提供的溼蝕刻設備可除去鉻蝕 刻液附著於閘門或門板上形成的結晶物，有助於產品的良率的提升。本實施例中，可利用純 水來將結晶物溶解，利用純水的優點是較不易產出額外的物質影響蝕刻槽內部環境，而造 成汙染。 以上所述僅為本實用新型的較佳實施例而已，並不用以限制本實用新型，凡在本 實用新型的精神和原則之內所作的任何修改、等同替換和改進等，均應包含在本實用新型 的保護範圍之內。
權利要求一種溼蝕刻設備，其特徵在於，所述溼蝕刻設備包括一蝕刻槽，具有一用以供一基板進入所述蝕刻槽內的開口，所述開口位於所述蝕刻槽的一側壁；一閘門，設於所述開口處，所述閘門具有一用於遮蔽及暴露出所述開口的門板，且所述門板設置成與水平面之間具有一不為零的夾角；一提供液體的液滴裝置，所述液滴裝置設置成使液體順著所述門板，由高處向低處流動；以及一用以防止液體流入所述蝕刻槽內的導流片，所述導流片設置於所述開口的下緣。
2. 如權利要求1所述的溼蝕刻設備，其特徵在於，所述溼蝕刻設備還包括 多個用於輸送所述基板的輸送滾輪，排列於所述蝕刻槽的側壁兩側。
3. 如權利要求1所述的溼蝕刻設備，其特徵在於，所述閘門包括一用以使所述門板在 一第一位置及一第二位置間移動的扳動軸，所述扳動軸與所述門板連接。
4. 如權利要求1所述的溼蝕刻設備，其特徵在於，所述導流片為長條狀且橫截面為三 角形；所述導流片具有一黏著部，固定於所述開口的下緣；所述導流片具有一用以導引液 體的流向，以防止液體流入所述蝕刻槽內的導流部。
5. —種溼蝕刻設備，其特徵在於，所述溼蝕刻設備包括一蝕刻槽，具有一用以供一基板進入所述蝕刻槽內的開口 ，所述開口位於所述蝕刻槽 的一側壁；一閘門，設於所述開口處，所述閘門具有一用於遮蔽及暴露出所述開口的門板，且所述 門板設置成與水平面之間具有一不為零的夾角；一導流片，其包括一黏著部及一導流部，所述導流片利用所述黏著部固定於所述開口 的下緣；以及一提供液體的液滴裝置，所述液滴裝置設置成使液體順著門板及導流片的導流部由上 往下流動，液體通過導流部的導引，以避免流入所述蝕刻槽內。
6. 如權利要求5所述的溼蝕刻設備，其特徵在於，所述溼蝕刻設備還包括 多個用於輸送所述基板的輸送滾輪，排列於所述蝕刻槽的側壁兩側。
7. 如權利要求5所述的溼蝕刻設備，其特徵在於，所述閘門包括一用以使所述門板在 一第一位置及一第二位置間移動的扳動軸，所述扳動軸與所述門板連接。
8. —種溼蝕刻設備，其特徵在於，所述溼蝕刻設備包括一蝕刻槽，具有一用以供一基板進入所述蝕刻槽內的開口 ，所述開口位於所述蝕刻槽 的一側壁；一閘門，設於所述開口處，所述閘門具有一用於遮蔽及暴露出所述開口的門板，且所述 門板設置成與水平面之間具有一不為零的夾角；一導流片，其包括一黏著部及一導流部，所述導流片利用所述黏著部固定於所述開口 的下緣；以及一提供純水的液滴裝置，所述液滴裝置設置成使純水順著所述門板及導流片的導流部 由上往下流動，純水通過導流部的導引，以避免流入蝕刻槽內。
9. 如權利要求8所述的溼蝕刻設備，其特徵在於，所述溼蝕刻設備還包括 多個用於輸送所述基板的輸送滾輪，排列於所述蝕刻槽的側壁兩側。
10.如權利要求8所述的溼蝕刻設備，其特徵在於，所述閘門包括一用以使所述門板在 一第一位置及一第二位置間移動的扳動軸，所述扳動軸與所述門板連接。
專利摘要本實用新型提供了一種溼蝕刻設備。所述溼蝕刻設備包括一蝕刻槽，具有一用以供一基板進入所述蝕刻槽內的開口，所述開口位於所述蝕刻槽的一側壁；一閘門，設於所述開口處，所述閘門具有一用於遮蔽及暴露出所述開口的門板，且所述門板設置成與水平面之間具有一不為零的夾角；一提供液體的液滴裝置，所述液滴裝置設置成使液體順著所述門板，由高處向低處流動；以及一用以防止液體流入所述蝕刻槽內的導流片，所述導流片設置於所述開口的下緣。本實用新型利用溼蝕刻設備可除去蝕刻液在基板入口通道處形成的結晶物，解決基板被刮傷或結晶物掉落在基板上的問題。
文檔編號C23F1/08GK201520802SQ20092020422
公開日2010年7月7日 申請日期2009年8月21日 優先權日2009年8月21日
發明者姚洋羽, 廖欽盛, 歐陽志升, 陳建同 申請人:深圳華映顯示科技有限公司;中華映管股份有限公司