溶劑的除去方法
2023-07-22 18:34:01
溶劑的除去方法
【專利摘要】本發明涉及一種蔗糖芳香族羧酸酯的製造中所使用的溶劑的除去方法，其包括使用一臺以上的減壓乾燥器使乾燥器內的壓力和/或加熱溫度至少發生兩階段以上的變化，對含有蔗糖芳香族羧酸酯和該溶劑的混合物進行減壓乾燥的一連串減壓乾燥工序，該減壓乾燥工序的第一階段的乾燥器內壓力在大氣壓以下，加熱溫度在20℃以上、250℃以下，最終階段的乾燥器內壓力在10kPa·abs以下，且加熱溫度在80℃以上、250℃以下，通過該溶劑的除去方法，能夠得到幾乎無著色且溶劑的殘留量極小的蔗糖芳香族羧酸酯。
【專利說明】溶劑的除去方法
【技術領域】
[0001]本發明涉及能夠得到幾乎無著色且溶劑的殘存量非常少的蔗糖芳香族羧酸酯的蔗糖芳香族羧酸酯製造中所使用的溶劑的除去方法。
【背景技術】
[0002]蔗糖芳香族羧酸酯是一類能夠用於各種產業領域的有用化合物。例如，作為樹脂改性劑，用於提高ABS樹脂、聚氯乙烯樹脂、環氧樹脂、不飽和聚酯等非晶樹脂的成型加工性和物性，或用於提高結晶聚酯樹脂的柔軟性、抗衝擊性；或者作為光學薄膜的添加劑用於提高光學薄膜的耐溼性等。蔗糖芳香族羧酸酯的製造通常是例如通過蔗糖和芳香族羧酸之間的酯化反應，根據需要進行所需的精製工序之後，再除去反應和精製中所使用的溶劑來實施(專利文獻I)。
[0003]相關溶劑的除去通常通過蒸餾來進行，但由於蔗糖芳香族羧酸酯是蔗糖衍生物，因此，會出現因加熱導致容易著色的問題。專利文獻2中記載了在烷基糖苷的製造中，使用薄膜型蒸發器從因未反應而殘留的醇和烷基糖苷的混合物中分兩個階段除去溶劑的方法，但由於蔗糖芳香族羧酸比烷基糖苷更容易著色，因此該方法難於以幾乎無著色的狀態除去溶劑。
[0004]在先技術文獻
[0005]專利文獻
[0006]專利文獻1:日本特開昭52-95625號公報
[0007]專利文獻2:日本特公表5-500508號公報
【發明內容】
[0008]發明要解決的課題
[0009]本發明的目的在於，提供一種能夠容易得到幾乎無著色且溶劑的殘存量非常少的蔗糖芳香族羧酸酯的在蔗糖芳香族羧酸酯的製造中所使用的溶劑的除去方法。
[0010]解決課題的手段
[0011]本發明人等為解決上述課題而進行了深入研究，結果發現:在使用一臺以上的減壓乾燥器進行減壓乾燥的情況下，通過使乾燥器內的壓力和/或加熱溫度至少發生兩階段以上的變化進行減壓乾燥的一連串工序，並且使第一階段的乾燥器內壓力在大氣壓以下，並將其加熱溫度維持在規定的範圍內，使最終階段的乾燥器內壓力在IOkPa.abs以下，並將其加熱溫度維持在規定的範圍內，由此幾乎能夠完全抑制著色並能夠使溶劑的殘存量極少。在對其進一步反覆研究後完成了本發明。
[0012]即，本發明涉及一種溶劑的除去方法，其用於除去蔗糖芳香族羧酸酯的製造中所使用的溶劑，包括使用一臺以上的減壓乾燥器使乾燥器內的壓力和/或加熱溫度至少發生兩階段以上的變化，對含有蔗糖芳香族羧酸酯和上述溶劑的混合物進行減壓乾燥的一連串減壓乾燥工序，該減壓乾燥工序的第一階段的乾燥器內壓力在大氣壓以下，且其加熱溫度在20°C以上、250°C以下，該減壓乾燥工序的最終階段的乾燥器內壓力在IOkPa.abs以下，且其加熱溫度在80°C以上、250°C以下。
[0013]上述一連串減壓乾燥工序，優選包括2~9個階段的任意多個階段。
[0014]上述混合物中的蔗糖芳香族羧酸酯的含量優選為10~80重量％。
[0015]另外，本發明還涉及一種通過上述溶劑除去方法得到的蔗糖芳香族羧酸酯，其APHA在40以下，且溶劑的殘存量在3000ppm以下。
【具體實施方式】
[0016]下面對本發明的各構成要素進行說明。
[0017]目標產物
[0018]在本發明中，蔗糖芳香族羧酸酯是指蔗糖和芳香族羧酸所形成的酯，作為該芳香族羧酸，例如，可以舉出下述通式(I)所示的芳香族一元羧酸，
[0019]
【權利要求】
1.一種溶劑的除去方法，該方法用於除去蔗糖芳香族羧酸酯的製造中所使用的溶劑，其特徵在於， 包括使用一臺以上的減壓乾燥器使乾燥器內的壓力和/或加熱溫度至少發生兩階段以上的變化，對含有蔗糖芳香族羧酸酯和所述溶劑的混合物進行減壓乾燥的一連串減壓乾燥工序， 所述減壓乾燥工序的第一階段的乾燥器內壓力在大氣壓以下，且加熱溫度在20°c以上、250°C以下， 所述減壓乾燥工序的最終階段的乾燥器內壓力在10kPa -abs以下，且加熱溫度在80°C以上、250°C以下。
2.如權利要求1所述的溶劑的除去方法，其特徵在於，所述一連串減壓乾燥工序包括2~9個階段的任意多個階段。
3.如權利要求1或2所述的溶劑的除去方法，其特徵在於，所述混合物中的蔗糖芳香族羧酸酯的含量為10~80重量％。
4.一種蔗糖芳香族羧酸酯，其特徵在於，通過權利要求1~3中任一項所述的溶劑的除去方法得到，APHA值在40以下，並且溶劑的殘存量在3000ppm以下。
【文檔編號】C07H1/06GK103804436SQ201310534679
【公開日】2014年5月21日 申請日期:2013年11月1日 優先權日:2012年11月2日
【發明者】松尾陽, 泉野諭, 畑俊一郎 申請人:第一工業製藥株式會社