製造間隔件的方法和在平板裝置上安裝間隔件的方法
2023-07-09 22:14:51
專利名稱：製造間隔件的方法和在平板裝置上安裝間隔件的方法
技術領域：
本發明涉及製造用於平板裝置(flat panel device)的間隔件(spacer)的方法和在平板裝置的基底上安裝間隔件的方法背景技術圖1為說明常規平板裝置的結構的示意性透視圖。圖2為說明用於圖1的裝置的常規間隔件的結構的示意性透視圖。
參考圖1，間隔件3用於在平板裝置中提供位於前基底1和後基底2之間的真空區域。使用這樣的間隔件3的平板裝置包括液晶顯示器(LCD)和場發射顯示器(FED)。
間隔件3必須具有絕緣性能，因為它們支撐前基底1和後基底2並且與前基底1和後基底2接觸，間隔件3必須具有足夠的剛度以抵抗由平板裝置內部的高真空區域導致的在平板裝置的內部和外部之間的壓力差。
圖2所示的間隔件具有杆形，並且被穿過顯示器放置。間隔件還可以具有格柵形或柱形。
具有杆形或格柵形的間隔件可以利用雷射切割方法或構圖方法(patterning method)製造。
然而，具有柱形的間隔件不能容易地被製造和安裝在平板裝置中。
發明內容
本發明提供利用玻璃的拉拔性製造柱形間隔件的方法。
本發明還提供以常規的方式在平板裝置的基底上安裝柱形間隔件的方法。
根據本發明的一個方面，提供一種製造間隔件的方法，包括準備在化學浸蝕液(chemical etching solution)中具有低溶度的芯玻璃(core glass)和在化學浸蝕液中具有高溶度並且具有比芯玻璃的外徑大的內徑的管玻璃(tube glass)；將芯玻璃插入管玻璃中以得到柱形玻璃；以預定的溫度拉拔柱形玻璃直到芯玻璃具有一預定直徑；切割所拉拔的柱形玻璃至一預定長度；和利用化學浸蝕液去掉在柱形玻璃中的管玻璃。
根據本發明的另一方面，提供一種在平板裝置中安裝間隔件的方法，包括準備具有槽的模子，每個槽具有與間隔件的半徑相對應的半徑；將每個間隔件設置在模子的每個槽中並且將另一個模子組裝在具有設置在其中的間隔件的模子上；將所組裝的模子設置在基底上，使得所述間隔件在所述基底上垂直布置；和從所述基底去掉模子。
設置每個間隔件可以進一步包括在每個間隔件的一個端上塗敷添加劑；和所組裝的模子可以進一步被設置在基底上，使得每個間隔件的塗敷有添加劑的那端與基底接觸。
每個模子可以在兩相對側具有槽，並且槽之間的距離可以分別與布置在平板裝置上的間隔件之間的間隔距離相對應。
根據本發明的再一方面，提供一種在平板裝置中安裝間隔件的方法，包括在每個間隔件的一個端上塗敷磁性材料；將磁性點(magnetic dot)設置在間隔件將被安裝在一板上的位置；磁化所述磁性材料；將間隔件放置在所述板上並且將磁場施加到所述板上以將間隔件聯接到所述磁性點；在每個間隔件的另一端上塗敷添加劑；在一基底上使所述板對準，使得每個間隔件的另一端聯接到所述基底上；和去掉施加到所述板上的磁場並且使所述板與所述基底分離。
通過參照附圖詳細描述本發明的多個示例性實施例，本發明的上述和其它的特徵和優點將會更加清楚，其中圖1為說明常規平板裝置的結構的示意性橫截面圖；圖2為說明常規間隔件的結構的示意性透視圖；圖3A至3D為說明根據本發明的一個實施例的製造間隔件的方法的視圖；圖4A至4C為說明根據本發明的另一實施例的製造間隔件的方法的視圖；圖5A至5D為說明根據本發明的再一實施例的製造間隔件的方法的視圖。
具體實施例方式
在下文，將參照附圖詳細說明根據本發明的一個實施例的製造間隔件的方法。
參考圖3A，提供在預定的化學浸蝕液中具有高溶度的管玻璃21和在該化學浸蝕液中具有低溶度的芯玻璃22。管玻璃21的內徑和芯玻璃22的外徑可以是約1-5mm。用於製造微通道板的玻璃可以用於管玻璃21和芯玻璃22。例如，Bao-B2O3矽酸鹽基玻璃可以用於管玻璃21，包括大量PbO的矽酸鹽玻璃可以用於芯玻璃22。約1N的鹽酸或醋酸可以用作化學浸蝕液。這樣的玻璃的成分公開在美國專利No.4,112,170中。
參考圖3B，芯玻璃22插入到管玻璃21中以得到柱形玻璃23。
參考圖3C，多個柱形玻璃23利用拉拔機(draw machine)在預定的溫度下被組裝和拉拔，例如650-700℃，直到具有一期望的直徑，例如20-100μm。
參考圖3D，多個在前述步驟得到的柱形玻璃23′被切割為期望的間隔件長度，例如1.1mm。然後，所切割的柱形玻璃23″的兩端可以被拋光。
接著，該柱形玻璃23″被浸入化學浸蝕液中，例如1N的鹽酸溶液，以浸蝕該管玻璃21。通過該浸蝕步驟，可以得到彼此分離的多個間隔件。
以下，將參照附圖4A至4C詳細說明根據本發明的一個實施例的在平板裝置中安裝間隔件的方法。
參考圖4A，一模子40具有槽41，間隔件30插在槽41中。具體地說，該模子40的兩相對側中的每一個具有彼此間隔開一預定距離d1的槽41，並且在兩側上相對應的槽41彼此間隔開一預定距離d2。距離d1和d2分別在第一方向和垂直於該第一方向的第二方向上與實際安裝在平板裝置上的間隔件的間隔距離相對應。距離d3可以是約1.0mm，其短於例如1.1mm的間隔件30的長度。
參考圖4B，每個間隔件30被放置在該模子40的一側的每個槽41中，另一模子40層放在提供有間隔件30的模子40上。在間隔件30被放置在槽41中後，添加劑被塗敷在每個間隔件的一個端上。
參考圖4C，所得到的模子40被放置在一基底50上，使得每個間隔件塗敷有添加劑的一個端與該基底50接觸。然後，去掉該模子40以得到具有布置在其上的間隔件30的基底50。在模子40的製造期間，間隔件30這樣的布置由距離d1和d2的設計恆定地控制。該基底50將是平板裝置的前基底或後基底。標號32指添加劑塗敷在其中的一個部分。
以下，將參照附圖5A至5D詳細說明根據本發明的另一實施例的在平板裝置中安裝間隔件的方法。
參考圖5A，一磁性材料51被塗敷在間隔件50的一個端上。磁性材料51的例子包括Fe、Co、Ni或它們的合金或氧化物。
參考圖5B，磁性點62被設置在間隔件50將布置在板60上的位置。在第一方向上的磁性點間的距離是d3，在垂直於第一方向的第二方向上的磁性點間的距離是d4。磁性點62可以由Fe、Co、Ni或它們的合金或氧化物製成。如果磁場被施加到該板60上，磁性點62被磁化。
參考圖5C，間隔件50被放置在該板60上，並且當磁場被施加到該板60上時，每個間隔件50的塗敷有磁性材料51的一個端被磁力聯接到磁性區62上。
接著，添加劑52被塗敷在該間隔件50的另一端上。例如，通過將板60放置在添加劑上，每個間隔件50的另一端可以容易地塗敷有添加劑。
參考圖5D，該板60與基底70對準，使得間隔件50布置在該基底70上。然後，在去掉磁場後，該板60與該基底70分離，間隔件50聯接到基底70上。在板60的製造期間，間隔件50這樣的布置由距離d3和d4的設計恆定地控制。該基底70將是平板裝置的前基底或後基底。有優勢的是，該在每個間隔件的一個端上磁性材料51可以從其上去掉。
如上所述，根據本發明的製造間隔件的方法可以提供柱形間隔件而不需要構圖工藝(patterning process)。另外，根據本發明的安裝間隔件的方法可以在利於間隔件在基底上的布置。
雖然已參照本發明示例性實施例具體示出和描述了本發明，但本領域技術人員應該理解，在沒有脫離由所附權利要求限定的本發明的精神和範圍的情況下，可以對本發明做出各種形式上和細節上的改變。
權利要求
1.一種製造間隔件的方法，其包括準備在一化學浸蝕液中具有低溶度的一芯玻璃和在所述化學浸蝕液中具有高溶度並且具有比所述芯玻璃的外徑大的一內徑的一管玻璃；將所述芯玻璃插入所述管玻璃中以得到一柱形玻璃；以一預定的溫度拉拔所述柱形玻璃直到所述芯玻璃具有一預定直徑；切割所拉拔的柱形玻璃至一預定長度；和利用所述化學浸蝕液去掉在所述柱形玻璃中的所述管玻璃。
2.一種在平板裝置中安裝間隔件的方法，其包括準備具有多個槽的一模子，每個槽具有與一間隔件的半徑相對應的一半徑；將每個所述間隔件設置在所述模子的每個槽中，並且將另一個模子組裝在具有設置在其中的所述間隔件的模子上；將所組裝的模子設置在一基底上，使得所述間隔件在所述基底上垂直布置；和從所述基底去掉所述模子。
3.如權利要求2所述的方法，其中，設置每個所述間隔件進一步包括在每個所述間隔件的一個端上塗敷一添加劑；和所組裝的模子被設置在所述基底上，使得每個所述間隔件塗敷有所述添加劑的那端與所述基底接觸。
4.如權利要求2所述的方法，其中，每個所述模子在兩相對側具有多個槽，並且所述槽之間的距離分別與布置在所述平板裝置上的所述間隔件之間的間隔距離相對應。
5.一種在平板裝置中安裝間隔件的方法，其包括在每個間隔件的一個端上塗敷一磁性材料；將多個磁性點設置在所述間隔件將被安裝在一板上的位置；磁化所述磁性材料；將所述間隔件放置在所述板上並且將一磁場施加到所述板上以將所述間隔件聯接到所述磁性點；在每個所述間隔件的另一端上塗敷一添加劑；在一基底上使所述板對準，使得每個所述間隔件的所述另一端聯接到所述基底上；和去掉施加到所述板上的磁場並且使所述板與所述基底分離。
6.如權利要求5所述的方法，其中，所述磁性點之間的距離與布置在所述平板裝置上的所述間隔件之間的間隔距離相對應。
全文摘要
提供一種製造間隔件的方法和在平板裝置上安裝間隔件的方法。該製造間隔件的方法包括準備在化學浸蝕液中具有低溶度的芯玻璃和在化學浸蝕液中具有高溶度並且具有比芯玻璃的外徑大的內徑的管玻璃；將芯玻璃插入管玻璃中以得到柱形玻璃；以預定的溫度拉拔柱形玻璃直到芯玻璃具有一預定直徑；切割所拉拔的柱形玻璃至一預定長度；和利用化學浸蝕液去掉在柱形玻璃中的管玻璃。
文檔編號G02F1/1339GK1749189SQ20051008932
公開日2006年3月22日 申請日期2005年8月2日 優先權日2004年8月11日
發明者李晶姬, 鄭太遠, 許廷娜 申請人:三星Sdi株式會社