水溶液、提高水溶液中的殘留氯壽命的方法
2023-07-28 22:04:16
專利名稱：水溶液、提高水溶液中的殘留氯壽命的方法
技術領域：
本發明涉及水溶液。特別涉及延長作為消毒液或洗滌液的能力(殺菌 力、消毒力或氧化力)指標的殘留氯壽命的技術。
背景技術：
次滷酸鹽(特別是次氯酸鹽(C1CT))水溶液被用於消毒(殺菌)等中。該次 氯酸鹽的氧化力(消毒力:殺菌力)用殘留次氯酸的濃度來評價。次氯酸濃度 用殘留氯濃度進行評價。並且，殘留氯濃度用碘法或DPD(二乙基對苯二胺) 法測定。由次氯酸得到的殘留氯壽命較短。該殘留氯的壽命依賴於pH。並且， 形成酸性時，產生氯氣(參見式[l]、 [2])。該氯氣揮發。因此，酸性越強， 次氯酸的壽命越短。另外，生成的氯分子產生氧。次氯酸被該氧分解。因 此，次氯酸的壽命逐漸縮短。式[l]2HC10 + 2H+ + 2e—<4C1 +2H O2 2式[2]CI +2H OA2H+ + 2C1— + 02 2 2另外，將水溶液調節成鹼性時，在表觀上，殘留氯的壽命延長。原因 主要可以舉出以下二個原因。原因之一在於抑制氯氣的產生(參見式[l])。另一個原因在於次氯酸轉化為穩定的氯酸(參見式[3])。 式[3]3HC10,C10 +2HC13該反應(式[3])越是進行到鹼性，氯酸濃度越高。根據上述原因，很多 情況下將含有次氯酸的商品的pH調節為鹼性。需要說明的是，由於氯酸 本身並不利於殘留氯的濃度，所以pH越為鹼性，殘留氯濃度越小。發明內容如上所述，次滷酸鹽、特別是次氯酸鹽(cio-)的消毒(殺菌)作用受到 cio-濃度的嚴重影響。g卩，cicr的壽命嚴重影響消毒(殺菌)能力。cicr壽命短意味著無法預先製備消毒液。換言之，無法利用提前製備的消毒液(含有C1(T的水溶液)。因此，cio—的壽命長意味著能預先製備消毒液(含有cio-的水溶液)。這能使作為消毒液的成本低廉並且能有效地使用。因此，本發明要解決的課題在於提供延長C10—等的氧化能力(消毒能力: 殺菌能力)的壽命的技術。HC103原本是氧化力比HC10高的化合物。但是，在常溫下，HC103反 應速度小，表觀上表現為不反應。需要說明的是，現在並未分離HC103。 而是以氯酸鹽的形式被分離。並且，HC103在常溫下穩定。但是，氯酸鹽 在熱的作用下發生分解(參見式[4]、 [5])。式[4]4MC10 —3MC10 +MC13 4式[5]MCIO —MC1+204 2不能通過殘留氯濃度測定法測定氯酸鹽的濃度。這在即使使pH從酸性 轉化為鹼性的情況下也相同。HC104的潛在氧化力比HC103高。但是，與HC103同樣，HC104在常溫 下反應速度小，表觀上不發生氧化反應。並且，用KI法時高氯酸水溶液的殘留氯濃度為零。對於NaC102而言，在中性下用KI法測定殘留氯濃度吋，也為數ppm。 NaC102的反應性不高。但是，將亞氯酸鹽的水溶液調節成酸性時，產生 C102(參見式[6])。並且，殘留氯濃度提高。式[6]5NaC10 +4HC1—4C10 +5NaCl+2H O2 2 2已知對殘留氯濃度有貢獻的化學種有HCIO、 C102。但是，安全性高 的HCIO、 C102壽命短。所以，難以將上述水溶液裝瓶進行銷售。為此， 為了延長壽命，優選預先使化學種(HCIO、 C102消耗時，補給HC10或C102 的化學種)共存。以HCIO" HCIO的情況說明上述想法的代表性例。由式[3]明確可知，HC10和HC103具有可逆的關係。這是被稱為HCIO 的不均勻化反應的反應。即，增加HC103濃度時，HCIO濃度增加。但是， HCIO不溶解時，即使溶解有氯酸鹽的水溶液為酸性，也未見生成HC1。但是，在HC103水溶液中共存有OH，(自由基)時，產生能測定殘留氯濃 度的C10"參見式[7])。另外，即使共存H202或過氧化物陰離子等活性氧， 也生成能測定殘留氯濃度的C102[參見式[8])。式[7]CIO —+OH + 3H+—CIO +2H O3 2 2式[8]2C10 —十O —+ 8H+ + 5e——2C10 +4H O3 2 2 2艮口，如果在次氯酸鹽水溶液中添加氯酸鹽，並且使活性氧共存，則能增加由C102或HC10等得到的殘留氯的實質濃度。使NaC103、 KC103溶解於水中時，能得到氯酸鹽水溶液。通過電解， 也能得到HC103水溶液。例如，如圖1所示，由二室型電解槽(在陽極和陰 極之間使用氟類陽離子交換膜作為隔膜的電解槽)的電解裝置得到的電解 水中，臭氧(活性氧)的濃度較高(參見日本特開平8-134677號公報、日本特 開2000-234191號公報)。圖1中，l為陽極室。2為陽極室入口。 3為陽極室6出口。 4為陽電極。5為隔膜。6為陰極室。7為陰極室入口。 8為陰極室出 口。 9為陰極。並且，產生的03與Cr反應，生成C1(V(參見式[9]) 式[9]C1—+ o —CIO —3 3可知在該生成的氯酸水溶液中組合活性氧時，能得到殘留氯濃度的壽 命較長的氧化性水溶液。需要說明的是，通過電解生成活性氧。通過陽極電解氧化cr而生成cio.。例如，在圖i的二室型電解槽的陰極室6中添加 Naci等鹽時， 一部分cr轉化為ci2，而一部分cr與生成的03反應，成為CKV。並且，C1(V被氧化生成CKV (參見式[IO]、式[ll])。 式間CIO —+H 0—2e一—CIO _ + 2H+3 2 4式[ll]CIO —+ o—CIO —3 4另外，上述電解裝置中，作為密接於陽電極4的隔膜(多孔性隔膜)，使 用氟類陽離子交換膜。與使用上述二室型電解的情況相同，將滷鹽水溶液 供給到電解質補充室，將滷鹽進行陽極氧化時，生成高次氫滷酸(high-order halogen acid)。同時，由於也生成活性氧，所以能提高殘留氯濃度。另外，向三室型電解槽(在陽極室1與陰極室9之間具備中間室11。參見 圖2)的中間室ll中供給鹽7jC，向陽極室l與陰極室9中供給純水進行電解時， 在陽極室l中生成臭氧等。並且，在陰極室9中，溶存的氧被還原，生成活 性氧(OO。由於該活性氧，HC103水溶液的殘留氯濃度提高。圖2中，2為 陽極室入口。 3為陽極室出口。 4為陽電極。5、 6為隔膜。7為陰電極。8為 陰極室出口。 10為陰極室入口。 12為中間室入口。 13為中間室出口。因此，為了延長殘留氯的壽命，重點在於生成比HCIO更高次的氧化 物HC102、 HC103及/或HC104。為了生成高次的氧化物，重點在於提高037等氧類氧化物發生效率，同時提高與cr等的直接反應效率。在電極表面或電極附近，伴隨水的陽極電解氧化，產生氧等氣體，從而處於氣相的環境 下。因此，優選將產生的氣體保持在電極附近來提高高次氧化物的生成效 率。為此，如圖3所示，考慮了設置有氣相電解陽極室的電解槽。即，在 圖1的二室型電解槽的陽極室1中設置多孔性的隔板材料10。也就是說，通 過隔板材料10將陽極室1分割成陽電極存在的氣相電解室11和通水室。並且，供給到陽極室l中的純水不直接進入氣相電解室ll中。圖3中，l為陽 極室。2為陽極室入口。 3為陽極室出口。 4為陽電極。5為隔膜。6為陰極 室。7為陰極室入口。 8為陰極室出口。 9為陰電極。作為隔板材料IO，可 以使用例如開通了大小為0.5 5mm的孔的多孔性膜(或無紡布)等。通過存 在該多孔性隔板材料IO，電解反應產物不直接溶解入陽極水中。即，電解 反應產物暫時蓄積在氣相電解陽極室ll中。然後慢慢擴散到陽極室供給水 中。需要說明的是，使用氟類離子交換膜作為與陽電極4接觸的隔膜5時， 臭氧的產生效率提高。另外，考察了圖4所示的四室型電解槽。這是通過多孔性的隔板材料 14將圖2的三室型電解槽的陽極室分成二部分。並且，供給到陽極室中的 純水不直接進入存在有陽極的一側的氣相電解室中。隔板材料中仍然使用 開通了孔的多孔性膜(或無紡布)等材料。通過存在上述多孔性隔板材料， 電解反應產物不直接溶解入陽極水中。即，電解反應產物暫時蓄積在氣相 電解陽極室中。並且，電解反應產物隨後慢慢擴散至陽極室供給水中。圖 4中，l為氣相電解陽極室。2是陽極室入口。 3是陽極室出口。 4是陽電極。 5、 6是隔膜。7是陰電極。8是陰極室出口。 9是陰極室。IO陰極室入口。 ll是中間室。12是中間室入口。 13是中間室出口。 14是隔板材料。另外，也可以使用圖5所示的電解槽。圖5中，l是陽極室。2是陽極室 入口。 3是陽極室出口。 4是陽電極支撐材料。5是隔膜(氟類陽離子交換膜)。 6是陰離子交換膜。7是中間室入口。 8是中間室。9是中間室出口。 IO是陰 極室。ll是陰極室入口。 12是陰極室出口。 13是陰電極。14是隔膜(氟類陽 離子交換膜)。15是陽電極(網狀鉑電極)。該結構的電解槽的特點在於陽電極的支撐材料4。支撐材料4為圖6所示的結構。焊接在支撐材料4上的短管 支撐陽電極(網狀鉑電極)15。因此，陽電極15的電解產物不直接釋放到陽 極室供給水中。即，電解產物暫時被封閉在支撐材料4與鉑電極15之間的 空間內。結果，陽電極(網狀鉑電極)15的表面被電解生成氣體覆蓋。在該 結構中，採用氟類陽離子交換膜作為與網狀鉑電極15接觸的隔膜5時，臭 氧產生效率提高。並且，為了產生高次氫滷酸，需要滷離子。因此，將滷 鹽供給於中間室8中。需要說明的是，如果使用簡單的陽離子宋換膜，則 非常難以供給滷離子。所以，優選在陽離子交換膜中開通孔。但是，在陽 離子交換膜中開通孔時，中間室的液體移動至陽極室中。因此，為了供給 滷離子，同時防止中間室的液體移動，優選使用陰離子交換膜。 基於上述認識，完成了本發明。
艮P，上述課題是通過一種水溶液解決的，其特徵在於， 該水溶液含有選自氫滷酸及其鹽的組中的至少一種、和活性氧， 所述氫滷酸是從次氯酸、亞氯酸、氯酸及高氯酸的組中選擇的至少一
種，
所述水溶液中所含的從所述氫滷酸及其鹽的組中選擇的物質的總量
為10 50000ppm，
所述水溶液中所含的活性氧的總量為0.1 1000ppm。 另外，上述課題是通過上述水溶液解決的，其特徵在於， 活性氧是從過氧化氫、羥基自由基及過氧化物陰離子的組中選擇的至
少一種。
另外，上述課題是通過上述水溶液解決的，其特徵在於， 水溶液的pH為4 9。
另外，上述課題是通過上述水溶液解決的，其特徵在於， 使用通過電解而得到的水。
另外，上述課題是通過上述水溶液解決的，其特徵在於，
使用通過電解含有滷鹽的水溶液而得到的水。
另外，上述課題是通過上述水溶液解決的，其特徵在於，
使用通過向具有陽極室和陰極室的電解槽(二室型電解槽)的陰極室中供給滷鹽的電解而得到的水。
另外，上述課題是通過上述水溶液解決的，其特徵在於， 使用通過向具備陽極室、中間室和陰極室的電解槽(三室型電解槽)的
中間室中供給滷鹽的電解而得到的水。
另外，上述課題是通過上述水溶液解決的，其特徵在於， 使用通過向具有陰極室和內部配置有多孔材料的陽極室的電解槽(三
室型電解槽)的所述陰極室中供給滷鹽的氣相電解氧化而得到的水。 另外，上述課題是通過上述水溶液解決的，其特徵在於， 使用向具有陰極室、中間室和內部配設有多孔材料的陽極室的電解槽
(四室型電解槽)的所述中間室中供給滷鹽的氣相電解氧化而得到的水。
另外，上述課題是通過上述水溶液解決的，其特徵在於，所述水溶液
用於消毒。
另外，上述課題是通過一種消毒方法解決的，其特徵在於，所述消毒 方法使用上述水溶液進行消毒。
另外，上述課題是通過上述水溶液解決的，其特徵在於，所述水溶液 用於洗滌。
另外，上述課題是通過一種洗滌方法解決的，其特徵在於，所述洗滌 方法使用上述水溶液進行洗滌。
另外，上述課題是通過一種延長水溶液中的殘留氯壽命的方法解決 的，其特徵在於，所述方法具備下述工序
使從選自次氯酸、亞氯酸、氯酸及高氯酸中的至少一種氫滷酸及其鹽
中選擇的物質以總量計為10 50000ppm的比例含有在水中的工序； 以總量計為0.1 1 OOOppm的比例含有活性氧的工序。 另外，上述課題是通過一種延長水溶液中的殘留氯壽命的方法來解決
的，其特徵在於，所述方法包括下述工序
使從選自次氯酸、亞氯酸、氯酸及高氯酸中的至少一種氫卣酸及其鹽
中選擇的物質以總量為10 50000ppm的比例含有在水中的工序； 以總量計為0.1 1 OOOppm的比例含有活性氧的工序。 已熟知次氯酸鹽(C1CT)對於消毒(殺菌)發揮效果。但是，C1CT的壽命較短時，隨著時間的經過，消毒，殺菌效果降低。因 此，提高C1CT的壽命是重要的。
根據本發明，能長期保持發揮上述消毒v殺菌效果的高ClCr濃度。因
此，能充分發揮作為消毒液(殺菌液)的效果。另外，也能充分發揮洗滌效 果。
二室型電解槽的簡圖三室型電解槽的簡圖三室型氣相電解槽的簡圖四室型氣相電解槽的簡圖四室型氣相電解槽的簡圖支撐材料的簡圖殘留氯濃度的圖表殘留氯濃度的圖表 [圖9]殘留氯濃度的圖表
具體實施例方式
本發明的水溶液含有選自氫滷酸及其鹽的組中的至少一種、和活性 氧。氫滷酸是從次氯酸、亞氯酸、氯酸及高氯酸的組中選擇的至少一種。 水溶液中所含的從所述氫滷酸及其鹽的組中選擇的物質的總量為10 50000ppm(特別優選為10 300ppm)。即，通過如上所述地限定從氫滷酸及 其鹽的組中選擇的物質的總量來維持高濃度的殘留氯。另外，水溶液中所 含的活性氧的總量為0.1 1000ppm(特別優選為l 100ppm)。艮卩，通過如 上所述地限定活性氧的量來維持高濃度的殘留氯。所述活性氧是從例如過 氧化氫、羥基自由基及過氧化物陰離子的組中選擇的任一種。水溶液的pH 優選為4 9(特別優選為6 8)。用於水溶液的水是例如通過電解而得到的 水。特別是通過電解含有滷鹽的水溶液而得到的水。其中，該水是通過向 二室型電解槽(具備陽極室和陰極室的電解槽)的陰極室中供給滷鹽的電解而得到的水。或者，該水是向三室型電解槽(具備陽極室、中間室和陰極室 的電解槽)的中間室中供給滷鹽的電解而得到的水。或者，該水是通過向三 室型電解槽(具備陰極室和內部配設有多孔材料的陽極室的電解槽)的陰極 室中供給滷鹽的氣相電解氧化而得到的水。或者，該水是通過向四室型電 解槽(具備陰極室、中間室和內部配設有多孔材料的陽極室的電解槽)的中 間室中供給滷鹽的氣相電解氧化而得到的水。
上述水溶液用於特別是消毒及/或洗滌。
本發明是使用上述水溶液進行消毒的消毒方法。
本發明是使用上述水溶液進行洗滌的洗滌方法。
本發明是延長水溶液中的殘留氯壽命的方法。特別是延長上述水溶液 中的殘留氯壽命的方法。並且所述方法具備下述工序使從選自次氯酸、 亞氯酸、氯酸及高氯酸中的至少一種氫滷酸及其鹽中選擇的物質以總量計
為10 50000ppm(優選為10 300ppm)的比例含有在水中。並且，具有以總 量計為0.1 1000ppm(優選為l 100ppm)的比例含有活性氧的工序。
以下，具體說明本發明。
使KC103溶解於純水中。
在該KC103水溶液中添加檸檬酸。由此，將pH調節為約4。 測定該pH4的KC103水溶液的殘留氯濃度。
另外，在上述pH4的KCK)3水溶液中添加H202水溶液，測定殘留氯濃度。
該測定(用KI法進行測定)結果示於下述表-1中。 刺
氫
表-1
經過時間濃度(ppm)
125125125125125125
03060120240480
o天05253030125
7天0200250300300350
14天0200250300300350
30天0200250300300350
鉀化氯
酸氯留
氯過殘
12使經過天數，KClCb水溶液中的殘 留氯濃度也高。即，長期保持消毒，殺菌效果。
需要說明的是，即使使用含有羥基自由基或過氧化物陰離子的水溶液
代替過氧化氫也可發揮同樣的效果。這能通過實施例2以下的例子(使用電
解水的例子)來理解。
使KC103溶解於純水中。
在該KC103水溶液中添加檸檬酸。由此，將pH調節為約4。 在該KC103水溶液中進一步添加NaC10。
然後，測定殘留氯濃度。其結果與NaC10水溶液的情況沒有顯著差別。
然後，使用用圖l所示的二室型電解槽生成的陽極電解水代替上述純 水。二室型電解槽如下使用80目的網制鉑電極(電極的大小為 80mmx60mm)作為陽電極，使用鈦電極(電極的大小為80mmx60mm)作為 陰電極，使用氟類陽離子交換膜作為分隔陽極室和陰極室的隔膜。然後， 在陰極室及陽極室中供給純水。
在該陽極電解水中溶解80ppmNaC10。進而，添加125ppmKC103。另 外，添加檸檬酸將pH調節為約6。
測定該含有NaC10及KCI03的水溶液(水:陽極電解水)的殘留氯濃度 (用KI法測定)，其結果示於圖7。
由該圖7可知，長期高度保持含有NaC10及KCI03的水溶液的殘留氯濃度。
在實施例2的陽極電解水中溶解40ppm NaClO及100ppm KC102。進一 步添加檸檬酸將pH調節為約6。
測定該含有NaC10及KCI02的水溶液的殘留氯濃度(用KI法測定)，其結 果示於圖8。
由該圖8可知，長期高度保持含有NaC10及KC102的水溶液的殘留氯濃度。
13由該表-3可知，使用陽極電解水時的殘留氯濃度較高。
使用用圖2的三室型電解槽生成的陰極電解水。三室型電解槽如下:
本實施例中，使用純水及實施例2中說明的陽極電解水作為水。並且， 準備含有11202( 150ppm)及HC104( 125ppm)的水溶液。
測定該水溶液的殘留氯濃度(用KI法測定)，其結果示於表-2。 [表2]
表-2
經過時間 純水 陽極電極水
殘留氯濃度(ppm)
由該表-2可知，使用陽極電解水的情況的殘留氯濃度較高。 [實施例5]
本實施例中，使用純水及實施例2中說明的陽極電解水作為水。並且， 準備含有KClO2(150ppm)及HClO4(62.5ppm)的水溶液。
測定該水溶液的殘留氯濃度(用KI法測定)，其結果示於表-3。
表-3
經過時間 純水 陽極電極水
殘留氯濃度(ppm)
o o o 5 5
6 6 6
5 5
o 5 o 5
3 2 2 1
5
月月月月月
個個個個個
o o o 5 5
6 6 6
5 5
o 5 o 5
3 2 2 11 5
月月月月月
個個個個個使用80目的網制鉑電極(電極的大小為80mmx60mm)作為陽電極，使用鈦 電極(電極的大小為80mmx60mm)作為陰電極，使用氟類陽離子交換膜作為 分隔陽極室、中間室和陰極室的隔膜。然後在中間室中供給飽和食鹽水， 在陰極室及陽極室中供給純水。
在該陰極電解水中溶解125ppm KC103。進而添加檸檬酸將pH調節至約4。
測定該含有KC103的水溶液(水:陰極電解水)的殘留氯濃度(用KI法測定)。
該結果確認殘留氯濃度長期較高。 [實施例7]
本實施例中，根據實施例2，使用用圖3的電解裝置得到的陽極電解水 代替實施例2的陽極電解水。並且，測定殘留氯濃度。 其結果示於圖9。
由圖9可知，雖然說是相同的陽極電解水，但優選使用用具有設置有 氣相電解陽極室的電解槽的電解裝置得到的陽極電解水。
另外，使用用圖4、 6型的電解裝置得到的陽極電解水，同樣地進行， 測定殘留氯濃度。其結果仍然判斷為優選使用用具有設置有氣相電解陽極 室的電解槽的電解裝置得到的陽極電解水。
產業上的可利用性
可有效地應用於消毒或洗滌領域。
權利要求
1、一種水溶液，其含有選自氫滷酸及其鹽的組中的至少一種、和活性氧，其特徵在於，所述氫滷酸是從次氯酸、亞氯酸、氯酸及高氯酸的組中選擇的至少一種，所述水溶液中所含的從所述氫滷酸及其鹽的組中選擇的物質的總量為10～50000ppm，所述水溶液中所含的活性氧的總量為0.1～1000ppm。
2、 如權利要求l所述的水溶液，其特徵在於，所述活性氧是從過氧化氫、羥基自由基及過氧化物陰離子的組中選擇 的至少一種。
3、 如權利要求l所述的水溶液，其特徵在於， 水溶液的pH為4 9。
4、 如權利要求1 3中任一項所述的水溶液，其特徵在於， 使用通過電解而得到的水。
5、 如權利要求1 3中任一項所述的水溶液，其特徵在於， 使用通過電解含滷鹽的水溶液而得到的水。
6、 如權利要求1 5中任一項所述的水溶液，其特徵在於， 使用通過在向具有陽極室和陰極室的電解槽的陰極室供給滷鹽的條件下的電解而得到的水。
7、 如權利要求1 5中任一項所述的水溶液，其特徵在於，使用通過在向具有陽極室、中間室和陰極室的電解槽的中間室供給滷 鹽的條件下的電解而得到的水。
8、 如權利要求1 5中任一項所述的水溶液，其特徵在於， 使用通過在向具有陰極室和內部配設有多孔材料的陽極室的電解槽的所述陰極室供給滷鹽的條件下的氣相電解氧化而得到的水。
9、 如權利要求1 5中任一項所述的水溶液，其特徵在於，使用通過在向具有陰極室、中間室和內部配設有多孔材料的陽極室的 電解槽的所述中間室供給滷鹽的條件下的氣相電解氧化而得到的水。
10、 如權利要求1 9中任一項所述的水溶液，其特徵在於， 其用於消毒及/或洗滌。
11、 一種消毒方法，其特徵在於，其使用權利要求1 10中任一項所述的水溶液。
12、 一種洗滌方法，其特徵在於，其使用權利要求1 10中任一項所述的水溶液進行洗滌。
13、 一種延長水溶液中的殘留氯壽命的方法，其特徵在於，其具有-使從選自次氯酸、亞氯酸、氯酸及高氯酸中的至少一種氫滷酸及其鹽中選擇的物質以總量為10 50000ppm的比例含有在水中的工序； 以總量計為0.1 1000ppm的比例含有活性氧的工序。
14、 一種延長水溶液中的殘留氯的壽命的方法，其是延長權利要求1 10中任一項所述的水溶液的殘留氯的壽命的方 法，其特徵在於， 所述方法具有使從選自次氯酸、亞氯酸、氯酸及高氯酸中的至少一種氫滷酸及其鹽 中選擇的物質以總量計為10 50000ppm的比例含有在水中的工序；以總量計為0.1 1000ppm的比例含有活性氧的工序。
全文摘要
本發明提供長期殘留氯濃度高、消毒(殺菌)能力優異的水溶液。所述水溶液是含有選自氫滷酸及其鹽的組中的至少一種和活性氧的水溶液，所述氫滷酸是從次氯酸、亞氯酸、氯酸及高氯酸的組中選擇的至少一種，所述水溶液中所含的從所述氫滷酸及其鹽中選擇的物質的總量為10～50000ppm，所述水溶液中所含的活性氧的總量為0.1～1000ppm。
文檔編號A01N59/08GK101562981SQ200780045700
公開日2009年10月21日 申請日期2007年5月29日 優先權日2006年12月11日
發明者伊藤秀孝 申請人:株式會社意戴爾