光源裝置和投影機的製作方法

2023-05-27 04:43:56 2

本發明涉及光源裝置和投影機。

背景技術：

近年來，在投影機中，使用將射出激發光的固體光源和吸收該激發光並將其變換為預定波段的光的螢光體組合而成的光源裝置。若塵埃附著於螢光體和/或向該螢光體導光的光學系統，則光會被塵埃吸收或發生散射，所以恐怕會導致光的利用效率降低。

於是，已知有如下的光源裝置：為了防止塵埃的附著，將螢光體和光學系統容納於形成密閉空間的外殼內並使令螢光體旋轉的馬達的一部分突出到外殼的外部(例如，參照下述專利文獻1)。

現有技術文獻

專利文獻

專利文獻1：日本特開2015-94860號公報

技術實現要素：

發明要解決的課題

然而，在上述光源裝置中，由於螢光體配置於密閉空間內，所以會因外殼內部的溫度上升而使得螢光體自身也變為高溫。若螢光體變為高溫，則螢光的變換效率會降低，會產生顯示圖像變暗之類的問題。

另外，由於馬達的一部分突出到外殼的外部，所以難以將具有外形旋轉的構造的馬達以密閉狀態保持於外殼內，恐怕會因塵埃附著於螢光體和/或光學構件而導致光的利用效率降低。

本發明是鑑於這樣的情形而做出的發明，其目的在於提供一種能夠抑制塵埃向光學構件附著並且能夠得到明亮的光的光源裝置和投影機。

用於解決課題的技術方案

根據本發明的第1方案，提供一種光源裝置，具備：固體光源；螢光體，其供從所述固體光源射出的光入射；光學系統，其將從所述固體光源射出的光至少導向所述螢光體；殼體構件，其包括容納所述螢光體的第1容納空間和容納所述光學系統的第2容納空間；以及送風機構，其向所述第1容納空間送風，所述光學系統包括供從所述螢光體射出的螢光入射的拾取透鏡，所述第1容納空間和所述第2容納空間隔著對所述拾取透鏡進行保持的保持構件而分離。

根據上述方案所涉及的光源裝置，通過保持構件能夠簡便且切實地形成能夠以密閉狀態容納螢光體和光學系統的空間。另外，由於通過冷卻螢光體來抑制由溫度上升引起的螢光的變換效率的降低，所以能夠得到明亮的光。而且，由於使用保持構件將第1容納空間與第2容納空間分離，所以能夠將拾取透鏡與螢光體配置成相接近的狀態。因此，能夠通過將從螢光體射出的螢光良好地取入拾取透鏡來得到明亮的光。

因而，根據本發明，能夠提供一種能夠抑制塵埃向螢光體和光學系統附著並且能夠得到明亮的光的光源裝置。

在上述第1方案中，優選在所述保持構件與所述殼體構件之間夾持有彈性構件。

根據該結構，能夠通過彈性構件來提高第1容納空間和第2容納空間的密閉狀態。

在上述第1方案中，優選所述送風機構朝向所述第1容納空間送入空氣。

例如，在通過從第1容納空間排氣來冷卻螢光體的情況下，第1容納空間會成為負壓狀態，所以即使在保持構件與第2容納空間之間存在微小的間隙，第2容納空間內的空氣也會被排出。也就是說，由於第2容納空間也成為負壓狀態，所以第2容納空間會從其它的間隙吸入光源裝置內部的空氣，此時，恐怕會捲入周圍的灰塵、塵埃並使其附著於光學系統。因此，光源裝置的輸出功率恐怕會降低。

於是，若採用本結構，則由於第1容納空間成為正壓，所以空氣不會被吸入第2容納空間內，因此，能夠防止由灰塵、塵埃的附著引起的光源裝置的輸出功率降低。

在上述第1方案中，優選所述螢光體呈環狀地設置在能夠旋轉的圓板上。

根據該結構，通過圓板的旋轉而能夠使螢光體中的光的入射位置變化。因此，能夠抑制螢光體的溫度上升。

而且，更優選所述殼體構件具有壁部，該壁部與所述螢光體相對，且與所述拾取透鏡的所述螢光體側的端面成為同一面。

若這樣形成，則在拾取透鏡與螢光體之間產生的間隙會變小，所以能夠抑制伴隨於圓板的旋轉的噪音。

在上述第1方案中，優選具備位置調整部，該位置調整部能夠調整所述螢光體相對於所述拾取透鏡的位置。

根據該結構，通過僅使螢光體相對於拾取透鏡移動，就能夠不對第1容納空間和第2容納空間的密閉狀態造成影響地進行螢光體與拾取透鏡的位置調整。

根據本發明的第2方案，提供一種投影機，具備：上述第1方案所涉及的光源裝置；光調製裝置，其通過根據圖像信息對來自所述光源裝置的光進行調製來形成圖像光；以及投射光學系統，其對所述圖像光進行投射。

根據上述第2方案所涉及的投影機，通過具備上述光源裝置而能夠顯示明亮的圖像。

附圖說明

圖1是示出投影機的概略結構的俯視圖。

圖2是示出光源裝置的光學結構的圖。

圖3是示出光源裝置的框架構造的圖。

圖4是示出框架構造中的殼體構件的圖。

圖5是示出保持件的主要部分結構的剖視圖。

圖6是示出保持件的主要部分結構的立體圖。

圖7是示出保持件的主要部分結構的立體圖。

圖8是示出螢光體輪的周邊結構的主要部分放大圖。

圖9是示出螢光體輪的周邊結構的主要部分放大剖視圖。

圖10是示出基部的結構的圖。

圖11是從馬達側觀察螢光體輪而得到的圖。

附圖標記說明

1…投影機，2…光源裝置，3…分色光學系統，4r、4g、4b…光調製裝置，6…投射光學系統，26a、26b、26c…拾取透鏡，26c1…端面，34…螢光體，60…保持件(保持構件)，70a、70b、70c…彈性構件，75…位置調整部，101…殼體構件，110a、113a…半導體雷射器(固體光源)，112…光學系統，120…圓板，101a…壁部，130…送風機構，k1…第1容納空間，k2…第2容納空間。

具體實施方式

以下，參照附圖對本發明的實施方式進行詳細說明。

此外，為了使特徵容易理解，在以下說明中所使用的附圖有時為了方便而將成為特徵的部分放大地示出，各結構要素的尺寸比率等不一定與實際相同。

(投影機)

首先，對圖1所示的投影機1的一例進行說明。

圖1是示出投影機1的概略結構的俯視圖。

本實施方式的投影機1是在屏幕scr上顯示彩色影像(圖像)的投射型圖像顯示裝置。投影機1使用了與紅色光lr、綠色光lg、藍色光lb的各色光對應的3個光調製裝置。投影機1使用能夠得到高亮度和/或大功率的光的半導體雷射器(固體光源)作為照明裝置的光源。

具體而言，如圖1所示，投影機1大體上具備：照明裝置2a、分色光學系統3、光調製裝置4r、光調製裝置4g、光調製裝置4b、合成光學系統5以及投射光學系統6。

照明裝置2a將作為照明光的照明光wl朝向分色光學系統3射出。照明裝置2a包括光源裝置2和均勻照明光學系統40。

均勻照明光學系統40具備積分光學系統31、偏振變換元件32以及重疊光學系統33。此外，偏振變換元件32不是必需的。

積分光學系統31例如由透鏡陣列31a和透鏡陣列31b構成。透鏡陣列31a、31b由多個透鏡呈陣列狀排列而成的陣列構成。

通過積分光學系統31後的照明光wl向偏振變換元件32入射。偏振變換元件32例如由偏振分離膜和相位差板構成，將照明光wl變換為直線偏振。

通過偏振變換元件32後的照明光wl向重疊光學系統33入射。重疊光學系統33例如由重疊透鏡構成，使從偏振變換元件32射出的照明光wl重疊於被照明區域。在本實施方式中，通過積分光學系統31和重疊光學系統33，使被照明區域中的照度分布均勻化。

這樣從光源裝置2射出的照明光wl以其強度分布在被照明區域中被均勻化了的狀態向分色光學系統3入射。

分色光學系統3用於將照明光wl分離為紅色光lr、綠色光lg以及藍色光lb。分色光學系統3大體上具備：第1分色鏡7a和第2分色鏡7b、第1全反射鏡8a、第2全反射鏡8b和第3全反射鏡8c、以及第1中繼透鏡9a和第2中繼透鏡9b。

第1分色鏡7a具有將來自光源裝置2的照明光wl分離為紅色光lr和其他光(綠色光lg和藍色光lb)的功能。第1分色鏡7a使分離出的紅色光lr透射，將其他光(綠色光lg和藍色光lb)反射。另一方面，第2分色鏡7b具有將其他光分離為綠色光lg和藍色光lb的功能。第2分色鏡7b將分離出的綠色光lg反射，並且使藍色光lb透射。

第1全反射鏡8a配置在紅色光lr的光路中，將透射第1分色鏡7a後的紅色光lr朝向光調製裝置4r反射。另一方面，第2全反射鏡8b和第3全反射鏡8c配置在藍色光lb的光路中，將透射第2分色鏡7b後的藍色光lb朝向光調製裝置4b反射。此外，在綠色光lg的光路中無需配置全反射鏡，綠色光lg由第2分色鏡7b朝向光調製裝置4g反射。

第1中繼透鏡9a和第2中繼透鏡9b配置於藍色光lb的光路中的第2分色鏡7b的光射出側。第1中繼透鏡9a和第2中繼透鏡9b具有對由藍色光lb的光路長度長於紅色光lr、綠色光lg的光路長度引起的藍色光lb的光損耗進行補償的功能。

光調製裝置4r，在使紅色光lr通過的期間，根據圖像信息對紅色光lr進行調製，從而形成與紅色光lr對應的圖像光。光調製裝置4g，在使綠色光lg通過的期間，根據圖像信息對綠色光lg進行調製，從而形成與綠色光lg對應的圖像光。光調製裝置4b，在使藍色光lb通過的期間，根據圖像信息對藍色光lb進行調製，從而形成與藍色光lb對應的圖像光。

光調製裝置4r、光調製裝置4g以及光調製裝置4b例如使用透射型的液晶面板。另外，在液晶面板的入射側和射出側配置有一對偏振板(未圖示)，構成為僅使特定方向的直線偏振光通過。

在光調製裝置4r、光調製裝置4g以及光調製裝置4b的入射側分別配置有場透鏡10r、場透鏡10g以及場透鏡10b。場透鏡10r、場透鏡10g以及場透鏡10b用於使向各個光調製裝置4r、光調製裝置4g以及光調製裝置4b入射的紅色光lr、綠色光lg以及藍色光lb平行化。

合成光學系統5通過來自光調製裝置4r、光調製裝置4g以及光調製裝置4b的圖像光入射而合成與紅色光lr、綠色光lg以及藍色光lb對應的圖像光，將合成後的圖像光朝向投射光學系統6射出。合成光學系統5例如使用十字分色稜鏡。

投射光學系統6由投射透鏡組構成。投射光學系統6將由合成光學系統5合成的圖像光朝向屏幕scr放大投射。由此，在屏幕scr上顯示放大後的彩色影像(圖像)。

(光源裝置)

接著，對在上述照明裝置2a中使用的應用了本發明的一方案的光源裝置的具體實施方式進行說明。

圖2是示出光源裝置2的光學結構的圖。

如圖2所示，光源裝置2具備：第1光源單元102、第2光源單元103、第1偏振分離元件50、無焦光學系統23、勻化光學系統24、第2偏振分離元件51、第1拾取透鏡單元26、螢光體輪80、相位差板28、第2拾取透鏡單元29、以及漫射板輪81。

第1光源單元102包括第1陣列光源110和準直光學系統111。第1陣列光源110具備作為固體光源的多個半導體雷射器110a。多個半導體雷射器110a在與光軸ax1正交的面內呈陣列狀配置。半導體雷射器110a例如射出藍色的光線bl1(例如峰值波長為445nm的雷射)。在本實施方式中，光線bl1是相當於針對後述的第1偏振分離元件50的s偏振分量的光。

從第1陣列光源110射出的光向準直光學系統111入射。準直光學系統111將包括從第1陣列光源110射出的多條光線bl1的光線束變換為平行光束。準直光學系統111例如由呈陣列狀排列配置的多個準直透鏡111a構成。多個準直透鏡111a分別與多個半導體雷射器110a對應地配置。

另一方面，第2光源單元103包括第2陣列光源113和準直光學系統114。第2陣列光源113由多個半導體雷射器113a構成，準直光學系統114由多個準直透鏡114a構成。此外，多個半導體雷射器113a在與光軸ax2正交的面內呈陣列狀配置。

第2陣列光源113和準直光學系統114的結構與上述第1光源單元102中的第1陣列光源110和準直光學系統111相同，所以省略對其的說明。此外，在本實施方式中，光線bl2相當於針對後述的第1偏振分離元件50的p偏振分量。

第1偏振分離元件50使從第1光源單元102射出的s偏振分量的光(光線bl1)反射，使從第2光源單元103射出的p偏振分量的光(光線bl2)透射。由此，將包括從第1光源單元102射出的多條光線bl1的第1光線束t1和包括從第2光源單元103射出的多條光線bl2的第2光線束t2合成，從而形成合成光線束t。

合成光線束t向無焦光學系統23入射。無焦光學系統23對合成光線束t的光束直徑進行調整。無焦光學系統23例如由凸透鏡23a、凹透鏡23b構成。

通過無焦光學系統23後的合成光線束t向勻化光學系統24入射。勻化光學系統24例如由第1透鏡陣列24a和第2透鏡陣列24b構成。第1透鏡陣列24a包括多個第1小透鏡24am，第2透鏡陣列24b包括多個第2小透鏡24bm。

通過均化器光學系統24後的合成光線束t向第2偏振分離元件51入射。第2偏振分離元件51具有將合成光線束t分離為針對該第2偏振分離元件51的s偏振分量和p偏振分量的偏振分離功能。具體而言，第2偏振分離元件51使入射光中的s偏振分量反射，使入射光中的p偏振分量透射。s偏振分量(光線束bls)在第2偏振分離元件51反射而射向螢光體輪80。p偏振分量(光線束blp)透射第2偏振分離元件51而射向漫射板輪81。

此外，在勻化光學系統24與第2偏振分離元件51之間，也可以配置有例如能夠旋轉的1/2波長板。根據該結構，通過適當地設定1/2波長板的旋轉角度，能夠使透射1/2波長板後的合成光線束t中的s偏振分量和p偏振分量的比率變化。即，能夠調整向螢光體輪80和漫射板輪81的入射光量。

第2偏振分離元件51具有與其偏振狀態無關地使波段與光線束bls不同的螢光yl透射的分色功能。另外，第2偏振分離元件51具有將來自後述的漫射板輪81的反射光與螢光yl合成的光合成功能。

從第2偏振分離元件51射出的s偏振分量的光線束bls向第1拾取透鏡單元26入射。第1拾取透鏡單元26使光線束bls朝向螢光體輪80的螢光體34聚光。另外，第1拾取透鏡單元26與勻化光學系統24協作，使螢光體34上的光線束bls的照度分布均勻化。第1拾取透鏡單元26例如由3個拾取透鏡26a、26b、26c構成。拾取透鏡26a、26b、26c相當於權利要求書中記載的「拾取透鏡」。

從第1拾取透鏡單元26射出的光線束bls向螢光體輪80入射。

螢光體輪80具有圓板120、呈環狀地形成於圓板120上的螢光體34、以及使圓板120旋轉的馬達m。圓板120由散熱性優異的金屬構件構成。

螢光體34包括吸收作為激發光的雷射並將其變換為黃色的螢光而射出的螢光體顆粒。作為螢光體顆粒，例如可以使用yag(yttriumaluminumgarnet：釔鋁石榴石)系螢光體。此外，螢光體顆粒的形成材料可以是1種，也可以將混合有使用了2種以上的材料形成的顆粒的物質用作螢光體顆粒。

在本實施方式中，由於使用雷射作為激發光，所以螢光體輪80(螢光體34)的溫度會容易上升。若螢光體34變為高溫，則螢光yl的變換效率會降低，生成的螢光的量會減少。在本實施方式中，通過使圓板120旋轉來使激發光(光線束bls)相對於螢光體34的入射位置變化。由此，防止了因激發光連續地入射於螢光體34的同一部位而導致由熱引起的損傷之類的不良狀況的產生。

在圓板120與螢光體34之間設有反射部(未圖示)。基於這樣的結構，螢光體輪80使由螢光體34生成的螢光yl朝向上方反射。

在本實施方式中，在第1拾取透鏡單元26的焦點位置配置有螢光體輪80的螢光體34。如後所述，第1拾取透鏡單元26與螢光體34配置成相接近的狀態。由此，第1拾取透鏡單元26能夠良好地取入從螢光體34射出的螢光yl。

另一方面，從第2偏振分離元件51射出的p偏振分量的光線束blp向相位差板28入射。相位差板28由1/4波長板(λ/4板)構成。光線束blp通過透射相位差板28而被變換為圓偏振的光線束blc。透射相位差板28後的光線束blc向第2拾取透鏡單元29入射。

第2拾取透鏡單元29使光線束blc朝向漫射板輪81聚光。第2拾取透鏡單元29例如由2個拾取透鏡29a、29b構成。另外，第2拾取透鏡單元29與勻化光學系統24協作，使漫射板輪81上的光線束blc的照度分布均勻化。在本實施方式中，在第2拾取透鏡單元29的焦點位置配置有漫射板輪81。

漫射板輪81使從第2拾取透鏡單元29射出的光線束blc朝向第2偏振分離元件51漫反射。將在漫射板輪81漫反射後的光稱作光線束blc』。

漫射板輪81具備漫反射板121和用於使漫反射板121旋轉的馬達122。漫反射板121例如通過在具有光反射性的構件的表面形成凹凸來形成。漫反射板121從旋轉軸的方向觀察時形成為例如圓形。

由漫射板輪81反射的、再次透射第2拾取透鏡單元29後的圓偏振的光線束blc』(漫射光)再次透射相位差板28，成為s偏振的光線束bls』。

光線束bls』通過與透射第2偏振分離元件51後的螢光yl合成而生成白色的照明光wl。基於這樣的結構，光源裝置2使照明光wl向圖1所示的均勻照明光學系統40(積分光學系統31)入射。

另外，在本實施方式的光源裝置2中，第1光源單元102和第2光源單元103如上所述射出能量密度高的雷射，所以會特別容易顯著地產生光集塵效果。具體而言，容易產生異物(例如，灰塵、塵埃等)附著於在光源裝置2內配置的各種光學構件(上述光學系統112)的表面、螢光體輪80的螢光體34的表面，結果由於透射率降低而照明光wl變暗從而使投影機1的圖像品質降低之類的問題。

相對於此，本實施方式的光源裝置2通過將光學系統112和螢光體輪80容納於密閉度高的空間，抑制了由光集塵效果引起的異物的附著。

圖3是示出光源裝置2的框架構造的圖。在以下的圖中，為了使圖容易觀察而使用xyz坐標系。在以下的圖中，x方向對應於光源裝置2中的光射出方向，y方向對應於從第1光源單元102和第2光源單元103射出的光(圖2所示的合成光線束t)前進的方向，z方向對應於與x方向和y方向正交的方向。

如圖3所示，光源裝置2具有框架構造f。框架構造f包括基部100和殼體構件101。殼體構件101對第1光源單元102、第2光源單元103、螢光體輪80、漫射板輪81以及光學系統112進行保持。殼體構件101安裝於基部100。

圖4是示出框架構造中的殼體構件的圖。

如圖4所示，殼體構件101是長邊沿著y方向的形狀，通過利用未圖示的蓋構件封閉上表面而在內部形成容納空間k。容納空間k包括第1容納空間k1和第2容納空間k2。此外，第1容納空間k1和第2容納空間k2的底板的一部分由上述基部100構成。

第1容納空間k1用於容納螢光體輪80。第2容納空間k2用於容納光學系統112和漫射板輪81。

在本實施方式中，由於螢光體輪80被容納於第1容納空間k1，所以抑制了異物的附著。另外，由於光學系統112和漫射板輪81被容納於第2容納空間k2，所以抑制了異物的附著。在本實施方式中，第1光源單元102和第2光源單元103的至少一部分(準直光學系統111、114)被容納於上述第2容納空間k2。

圖4所示的光學系統112包括將從第1光源單元102射出的光導向螢光體輪80並且將從第2光源單元103射出的光導向漫射板輪81的各種光學構件。具體而言，包括圖2所示的第1偏振分離元件50、無焦光學系統23、勻化光學系統24、第2偏振分離元件51、第1拾取透鏡單元26、相位差板28以及第2拾取透鏡單元29。

在本實施方式中，使用對第1拾取透鏡單元26進行保持的保持件(保持構件)，將第1容納空間k1與第2容納空間k2分離開。

圖5是示出保持件的主要部分結構的剖視圖，圖6、圖7是示出保持件的主要部分結構的立體圖。

如圖5所示，保持件60對包括3個拾取透鏡26a、26b、26c(以下，有時也稱作各透鏡26a、26b、26c)的第1拾取透鏡單元26進行保持。各透鏡26a、26b、26c的透鏡有效直徑隨著靠近螢光體輪80而依次變小。即，拾取透鏡26a的大小比拾取透鏡26b、26c大，拾取透鏡26b的大小比拾取透鏡26c大。

保持件60具備具有圓筒狀的透鏡保持面的主體部61。主體部61具有對各透鏡26a、26b、26c進行保持的保持部61a、61b、61c。拾取透鏡26a經由固定構件62a、63a而被保持於保持部61a。拾取透鏡26b經由固定構件63b而被保持於保持部61b。拾取透鏡26c經由固定構件63c而被保持於保持部61c。固定構件62a通過螺紋構件62b而被固定於主體部61。此外，使固定構件與各透鏡的接觸部分處於良好地緊貼著的狀態。

拾取透鏡26c的+x側的端面26c1與主體部61(保持部61c)的表面61c1成為同一面。也就是說，保持部61c的表面61c1和拾取透鏡26c的端面26c1在x方向上配置於相同位置，處於在x方向上不存在高度差的狀態。

保持件60在主體部61的-x側的端面71a配置有彈性構件70a。保持件60經由彈性構件70a而與殼體構件101的抵接部101a抵接(參照圖4)。

如圖6、7所示，保持件60在主體部61的+z側的端面71b配置有彈性構件70b。由此，保持件60處於與殼體構件101的未圖示的蓋部之間良好地緊貼著的狀態。

另外，保持件60在主體部61的-z側的端面71c配置有彈性構件70c。由此，保持件60處於與殼體構件101的底板部之間良好地緊貼著的狀態。此外，在端面71b形成有供螺紋構件插通的螺紋安裝用孔72，該螺紋構件為了與殼體構件101的螺紋緊固而使用(參照圖6)。在端面71c形成有與殼體構件101的底板部定位用的銷構件73(參照圖7)。

基於這樣的結構，保持件60通過經由彈性構件70a、70b、70c而與殼體構件101抵接，將第1容納空間k1和第2容納空間k2的內部分別可密閉地分離。

根據本實施方式，將保持件60用於第1容納空間k1和第2容納空間k2的分離，所以能夠以相接近的狀態配置保持於保持件60的第1拾取透鏡單元26(拾取透鏡26c)和螢光體34。

由此，拾取透鏡26c配置成與螢光體34相接近的狀態。因此，第1拾取透鏡單元26能夠良好地取入從螢光體34射出的螢光yl。

圖8是示出螢光體輪80的周邊結構的主要部分放大圖。

如圖8所示，在本實施方式中，光源裝置2具備能夠調整螢光體34相對於第1拾取透鏡單元26的位置的位置調整部75。

位置調整部75具有對螢光體輪80的馬達m進行保持的馬達保持部76。馬達保持部76形成有供從殼體構件101延伸的銷構件104插通的長孔76a。馬達保持部76通過使銷構件104沿著長孔76a的長邊方向移動來調整螢光體輪80相對於拾取透鏡26c的位置。並且，通過利用螺紋構件77將馬達保持部76固定於殼體構件101，能夠將螢光體輪80與第1拾取透鏡單元26定位。

在本實施方式中，殼體構件101的+x側的側板在與第1容納空間k1對應的部分設有封閉板105。封閉板105能夠相對於殼體構件101裝卸，通過拆下該封閉板105而能夠從外部接觸位置調整部75。

根據本實施方式，通過使用位置調整部75來使保持件60(螢光體輪80)移動從而能夠調整其相對於拾取透鏡26c的位置，所以不會對第1容納空間k1和第2容納空間k2的封閉狀態造成影響。

在本實施方式中，光源裝置2向螢光體輪80供給冷卻用的空氣。由此，通過冷卻螢光體34來抑制螢光變換效率的降低，並且通過冷卻馬達m來實現馬達m的長壽命化。

具體而言，在本實施方式中，圖3所示的基部100具備送風機構130。送風機構130用於為了抑制螢光體34的冷卻效率的降低而向螢光體輪80供給冷卻用的空氣。也就是說，送風機構130向容納螢光體輪80的第1容納空間k1供給冷卻用的空氣。

圖9是示出螢光體輪80的周邊結構的主要部分放大剖視圖。

如圖9所示，殼體構件101的與螢光體輪80的螢光體34相對的壁部101a與拾取透鏡26c的端面26c1成為同一面。也就是說，保持部61c的表面61c1、拾取透鏡26c的端面26c1以及壁部101a在x方向上配置於相同位置，處於不產生高度差的狀態。

根據該結構，在螢光體輪80與拾取透鏡26c之間產生的間隙大致均勻，所以能夠抑制伴隨於該螢光體輪80的旋轉的噪音的產生。

圖10是示出基部100的結構的圖。

如圖10所示，送風機構130具有送風用風扇131和將利用風扇131從外部取入的空氣導向第1容納空間k1內的管道132。風扇131在空氣吸入口設有未圖示的過濾器，由此防止了異物向第1容納空間k1內的侵入。管道132連接於與第1容納空間k1連通的進氣口133。基部100包括與第1容納空間k1連通的排氣口134。此外，在圖10中，用虛線示出由風扇131取入的空氣a的流動。

圖11是從馬達m側觀察配置於第1容納空間k1的螢光體輪80而得到的圖。

如圖11所示，進氣口133位於螢光體輪80的圓板120的旋轉方向的上遊。因此，從進氣口133吸入的空氣a沿著螢光體輪80的旋轉而上升，在冷卻螢光體34和馬達m之後，沿著圓板120的旋轉方向而反轉180°，從排氣口134(參照圖10)向外部排出。根據該結構，能夠同時冷卻螢光體34和馬達m，所以能夠同時實現螢光發光效率的提高和馬達m的長壽命化。

在此，在通過從第1容納空間k1內吸出空氣來冷卻螢光體輪80的情況下，該第1容納空間k1內會成為負壓，所以即使在保持件60與第2容納空間k2之間產生很小的間隙，也會導致第2容納空間k2內的空氣被排出。也就是說，由於第2容納空間k2也成為負壓狀態，所以第2容納空間k2會從其它的間隙吸入光源裝置內部的空氣，此時，恐怕會捲入周圍的異物並使其附著於光學系統112。因此，光源裝置2的輸出功率恐怕會降低。

相對於此，在本實施方式中，送風機構130向第1容納空間k1內送入空氣。由此，由於第1容納空間k1成為正壓，所以空氣不會被吸入第2容納空間k2內，能夠抑制起因於由光集塵效果引起的異物的附著的光源裝置2的輸出功率降低。

如以上所述，根據本實施方式的光源裝置2，通過保持件60能夠簡便且切實地形成能夠以密閉狀態容納螢光體輪80和光學系統112的空間。另外，由於通過冷卻螢光體輪80來抑制由溫度上升引起的螢光yl的變換效率的降低，所以能夠得到明亮的螢光yl。而且，由於使用保持件60將第1容納空間k1與第2容納空間k2分離，所以能夠將第1拾取透鏡單元26與螢光體34配置成相接近的狀態。因此，能夠通過將從螢光體34射出的螢光yl良好地取入拾取透鏡來得到明亮的光。

因而，根據本實施方式的光源裝置2，能夠抑制塵埃向螢光體34和光學系統112的附著並且能夠得到明亮的光。

因此，根據具備包括該光源裝置2的照明裝置2a的本實施方式的投影機1，能夠投射出明亮且顯示品質優異的圖像。

此外，本發明的技術範圍不限定於上述實施方式，可以在不脫離本發明的主旨的範圍內加以各種變更。

例如，在上述實施方式中，作為例子，舉出了設置能夠調整螢光體34相對於第1拾取透鏡單元26的位置的位置調整部75的情況，但也可以設置能夠調整漫射板輪81相對於第2拾取透鏡單元29的位置的位置調整部。

另外，在上述的各實施方式中，示出了將本發明的光源裝置應用於投影機的例子，但不限於此。也可以將本發明的光源裝置適用於汽車用前燈等照明器具。