一種漿料傳送裝置製造方法
2023-06-09 11:50:56
一種漿料傳送裝置製造方法
【專利摘要】本實用新型公開了一種漿料傳送裝置，包括本體和輸出件，本體具有施放端，該本體可受帶動而於一研磨平面上方原地偏擺；輸出件設有通道與複數連通該通道的噴孔，通道沿中心軸延伸，噴孔沿排列於輸出件，且各噴孔朝向研磨平面，該輸出件樞設於施放端，使漿料流動於通道，且自各該噴孔流向該研磨平面，由此，其結構簡單，使用方便，可於研磨過程中均勻地分布漿料，可適當地控制漿料的使用量、漿料的分布方向與範圍，而且便於清洗與維修。
【專利說明】一種漿料傳送裝置
【技術領域】
[0001]本實用新型涉及漿料傳送裝置，尤其涉及一種用於化學機械研磨的漿料傳送裝置。
【背景技術】
[0002]現在的半導體晶片都是以立體或是多層布線方式架構出成千上萬個電晶體，因此利用化學機械研磨(CMP)處理半導體晶圓表面，進而讓晶圓表面平坦化，成為半導體晶圓製程的重要步驟。
[0003]目前的化學機械研磨設備主要是把大量的漿料直接注入至旋轉的研磨墊表面，漿料再隨著研磨墊的轉動進入晶圓與研磨墊之間，以達成研磨、清洗以及潤滑晶圓的作用，使晶圓表面被研磨出適當的表面品質狀態。
[0004]但是，由於上述以單一注入漿料於研磨墊的方式，容易讓大量的漿料散布在無法被研磨的範圍，漿料的分布狀態非常不均勻，因此使漿料的使用過於浪費，增加成本與環保問題，同時也無法提升半導體晶圓的研磨效果。
實用新型內容
[0005]本實用新型的目的提供一種漿料傳送裝置，其可於研磨過程中均勻地分布漿料，可適當地控制漿料的使用量、漿料的分布方向與範圍，而且便於清洗與維修。
[0006]根據本實用新型的一個方面，提供一種漿料傳送裝置，包括本體和輸出件，本體具有施放端，該本體可受帶動而於一研磨平面上方原地偏擺；輸出件設有通道與複數連通該通道的噴孔，通道沿中心軸延伸，噴孔沿排列於輸出件，且各噴孔朝向研磨平面，該輸出件樞設於施放端，使漿料流動於通道，且自各該噴孔流向該研磨平面。
[0007]在一些實施方式中:輸出件為管體，噴孔呈直線排列於輸出件的管壁。
[0008]在一些實施方式中:施放端具有頂部，該頂部具有第一邊，該第一邊凹設有凹陷部，該頂部下方形成出兩相互間隔的側壁，輸出件樞設於兩側壁之間。
[0009]在一些實施方式中:本體還包括有定位端，施放端與定位端之間設有身部，該身部底面設有複數朝向研磨平面的噴嘴。
[0010]在一些實施方式中:輸出件可拆卸地樞設於施放端。
[0011]本實用新型結構簡單，使用方便，其可於研磨過程中均勻地分布漿料，可適當地控制漿料的使用量、漿料的分布方向與範圍，而且便於清洗與維修。
【專利附圖】
【附圖說明】
[0012]圖1是本實用新型一種漿料傳送裝置的俯視圖；
[0013]圖2是本實用新型一種漿料傳送裝置的立體圖；
[0014]圖3是本實用新型一種漿料傳送裝置的施放端結構示意圖；
[0015]圖4是本實用新型一種漿料傳送裝置的輸出件結構示意圖；
[0016]圖5是本發明一種漿料傳送裝置的應用於化學機械研磨設備的俯視圖。
【具體實施方式】
[0017]下面結合【專利附圖】
【附圖說明】，對本實用新型作進一步詳細說明。
[0018]如圖1-5所示，一種漿料傳送裝置，包括本體10與輸出件60，本體10具有施放端20與定位端30,施放端20與定位端30之間具有身部40,本體10通過定位端30設於研磨機臺(圖未示)，使本體10可受帶動而於研磨平面50上方原地偏擺。施放端20具有頂部22，頂部22具有第一邊24，第一邊24凹設有凹陷部26，使頂部22下方形成出兩相互間隔的側壁28。身部40底面另設有複數噴嘴42，而且其中噴嘴42位於凹陷部26。本體10內部可導通用以洗滌、清潔半導體晶圓與研磨墊的清洗液，使清洗液經由各噴嘴42朝研磨平面50噴灑。
[0019]輸出件60為管體，輸出件60內部具有通道62，通道62沿中心軸63延伸於輸出件60，輸出件60設有複數自外周面連通於通道62的噴孔64，噴孔64沿著預定路徑延伸於輸出件60的管壁，噴孔64沿平行於輸出件60的中心軸63直線排列於管壁66，而且各噴孔64朝向研磨平面50。需要說明的是，噴孔64也可依非直線方式，例如曲線狀排列於管壁66。輸出件60兩端樞設於施放端20的兩側壁28,使輸出件60形成橫設於施放端20的頂部22下方，同時鄰近且平行於第一邊24。輸出件60的通道62連通至本體10內部導引的漿料，通道62用以供漿料流動，且自各噴孔64流向研磨平面50。
[0020]由於本體10可偏轉地設於研磨機臺，當本體10偏轉且施放端20位於研磨平面50上方，由於噴孔64與傳統眾料輸出管體之間存在尺寸上的差異，噴孔64的孔徑尺寸小於傳統漿料輸出管體的孔徑，複數噴孔64所流出的漿料即可呈線狀朝研磨平面50方向噴灑，再透過旋轉的研磨平面50使漿料均勻塗布在研磨平面50，不會如習用化學機械研磨設備將大量漿料噴在研磨平面般地浪費。
[0021]此外，由於輸出件60樞設於施放端20，輸出件60可以依據使用需要而調整角度，甚至是拆卸於施放端20，讓噴孔64能夠隨著輸出件60相對於施放端20的位置調整塗布方向與區域，增加化學機械研磨製程的適用範圍，以及便於維修的增進功效。
[0022]綜上所述，本新型結構簡單，使用方便，其可於研磨過程中均勻地分布漿料，可適當地控制漿料的使用量、漿料的分布方向與範圍，而且便於清洗與維修。
[0023]以上所述僅是本實用新型的一種實施方式，應當指出，對於本領域普通技術人員來說，在不脫離本實用新型創造構思的前提下，還可以做出若干相似的變形和改進，這些也應視為本實用新型的保護範圍之內。
【權利要求】
1.一種漿料傳送裝置，其特徵在於:包括本體和輸出件，所述本體具有施放端，該本體可受帶動而於一研磨平面上方原地偏擺；所述輸出件設有通道與複數連通該通道的噴孔，所述通道沿中心軸延伸，所述噴孔沿排列於所述輸出件，且各噴孔朝向所述研磨平面，該輸出件樞設於所述施放端，使漿料流動於所述通道，且自各該噴孔流向該研磨平面。
2.根據權利要求1所述的一種漿料傳送裝置，其特徵在於:所述輸出件為管體，所述噴孔呈直線排列於所述輸出件的管壁。
3.根據權利要求1所述的一種漿料傳送裝置，其特徵在於:所述施放端具有頂部，該頂部具有第一邊，該第一邊凹設有凹陷部，該頂部下方形成出兩相互間隔的側壁，所述輸出件樞設於兩側壁之間。
4.根據權利要求1所述的一種漿料傳送裝置，其特徵在於:所述本體還包括有定位端，所述施放端與定位端之間設有身部，該身部底面設有複數朝向所述研磨平面的噴嘴。
5.根據權利要求1所述的一種漿料傳送裝置，其特徵在於:所述輸出件可拆卸地樞設於所述施放端。
【文檔編號】B24B57/02GK203936803SQ201420318513
【公開日】2014年11月12日 申請日期:2014年6月16日 優先權日:2014年6月16日
【發明者】陳一馳, 廖景苒, 張逸翀, 曾國繁 申請人:陳一馳, 廖景苒, 張逸翀, 曾國繁