低摩擦構件、圖像形成裝置和低摩擦覆膜形成劑的製作方法

2023-06-09 16:42:31 1

本發明涉及低摩擦構件，特別是複印機、印表機、傳真機等電子照片裝置的定影裝置所使用的低摩擦構件。

背景技術：

就印表機、複印機、傳真機等電子照片圖像形成而言，需要一邊將形成未定影調色劑圖像的記錄紙等通過圖像定影裝置，一邊將未定影調色劑圖像加熱加壓使之在記錄紙等上定影。作為這樣的圖像定影方式，使用耐熱性樹脂製造的管狀膜的帶輥隙方式(ベルトニップ方式)是公知的。就該帶輥隙方式而言，使用以低摩擦片覆蓋表面的彈性體，使管狀膜從其內側推壓驅動式定影輥，從而在定影輥和管狀膜之間形成輥隙。並且，就該帶輥隙方式而言，形成調色劑圖像的記錄紙在通過該輥隙時，將調色劑圖像在記錄紙上定影。

過去，在上述帶輥隙方式中，為了控制管狀膜與低摩擦片的摩擦係數，「使用包覆氟樹脂的玻璃纖維片將彈性體的表面覆蓋」被提議(參見例如，日本特開平10-213984號公報和日本特開2001-249558號公報等)。現有技術文獻

專利文獻

專利文獻1：日本特開平10-213984號公報

專利文獻2：日本特開2001-249558號公報

技術實現要素：

發明要解決的技術問題

但是，這樣的包覆氟樹脂的玻璃纖維片比較快地裸露出玻璃纖維，失去低摩擦性。像這樣包覆氟樹脂的玻璃纖維片的低摩擦性失去的話，定影輥的驅動轉矩變大，進而對其它零件的負荷變大。並且，在最壞的情況下，定影裝置破損。

本發明的課題是提供即使較長期使用也不容易失去低摩擦性的低摩擦構件。

解決技術問題的技術手段

本發明的第一方面所涉及的低摩擦構件至少由潤滑性材料和聚醯亞胺樹脂形成。另外，該低摩擦構件優選為低摩擦片自身、或具有摩擦片或低摩擦塗層的構件，無論是哪種實施方式都可以達到一樣的效果。在此情況下，低摩擦片或低摩擦塗層優選厚度在10μm以上且200μm以下的範圍內。而且，該低摩擦構件的表面粗糙度Rsk為0.500以上，且潤滑性材料的表面露出率為15.0％以上。另外，本發明的第一方面所涉及的低摩擦構件的表面粗糙度Rsk也可以在0.500以上且5.000以下的範圍內，潤滑性材料的表面露出率也可以在15.0％以上且100.0％以下的範圍內。另外，該低摩擦構件的表面可以完全被潤滑性材料覆蓋，也可以成為具有潤滑性材料相和耐熱性樹脂相的混合相表面。

然而，這樣的低摩擦構件通過將中值粒徑不同的至少兩種潤滑性材料製成的粉末與聚醯亞胺樹脂或聚醯亞胺樹脂的前體混合後煅燒而得到。並且，在如上所述製作本發明所涉及的低摩擦構件時，作為中值粒徑不同的至少兩種潤滑性材料製成的粉末，優選使用中值粒徑在10μm以上且100μm以下的範圍內的第一潤滑性粉末和中值粒徑在0.1μm以上且5μm以下的範圍內的第二潤滑性粉末。同時，在此情況下，按照體積比計算，相對於聚醯亞胺樹脂、第一潤滑性粉末和第二潤滑性粉末的存在區域(即，至少由聚醯亞胺樹脂、第一潤滑性粉末和第二潤滑性粉末形成的區域，例如，低摩擦片、低摩擦塗層、低摩擦塊等)的總體積，優選第一潤滑性粉末的添加比在0.1體積％以上且40體積％以下的範圍內。另一方面，按照體積比率計算，相對於上述總體積，優選第二潤滑性粉末的添加比在10％體積以上且80體積％以下的範圍內。

本發明人悉心研究的結果表明，即使較長期使用具有上述特性的低摩擦構件，也不容易失去低摩擦性。

另外，在本發明的第一方面所涉及的低摩擦構件中，潤滑性材料優選為氟樹脂。

同時，本發明所涉及的低摩擦構件優選滑動磨損試驗(JIS K 7218)中10分鐘後的動摩擦係數為0.1300以下。另外，該動摩擦係數越低越優選，然而，也可以在0.0500以上且0.1300以下的範圍內。

同時，本發明的第一方面所涉及的低摩擦構件優選10分鐘後的動摩擦係數相對於初期動摩擦係數的變化率為120％以下。另外，該動摩擦係數的變化率越低越優選，然而，也可以在80％以上且120％以下的範圍內。

同時，本發明的第一方面所涉及的低摩擦構件優選滑動磨損試驗(JIS K 7218)中100分鐘後的動摩擦係數為0.1800以下。另外，該動摩擦係數越低越優選，然而，也可以在0.0500以上且0.1800以下的範圍內。

同時，本發明的第一方面所涉及的低摩擦構件優選100分鐘後的動摩擦係數相對於初期動摩擦係數的變化率為180％以下。另外，該動摩擦係數的變化率越低越優選，然而，也可以在70％以上且180％以下的範圍內。

同時，在本發明的第一方面所涉及的低摩擦構件中，優選表面粗糙度Rsk為0.900以上。另外，就本發明所涉及的低摩擦構件而言，表面粗糙度Rsk也可以在0.900以上且5.000以下的範圍內。在此情況下，在該低摩擦構件中，優選滑動磨損試驗(JIS K 7218)中10分鐘後的動摩擦係數為小於0.1000。另外，該動摩擦係數越低越優選，然而，也可以在0.0500以上且小於0.1000的範圍內。同時，在此情況下，在該低摩擦構件中，10分鐘後的動摩擦係數相對於初期動摩擦係數的變化率優選為120％以下。另外，該動摩擦係數的變化率越低越優選，然而，優選在80％以上且120％以下的範圍內。同時，在此情況下，在該低摩擦構件中，優選滑動磨損試驗(JIS K 7218)中100分鐘後的動摩擦係數為小於0.1000。另外，該動摩擦係數越低越優選，然而，也可以在0.0500以上且小於0.1000的範圍內。進一步地，在此情況下，在該低摩擦構件中，優選100分鐘後的動摩擦係數相對於初期動摩擦係數的變化率為110％以下。另外，該動摩擦係數的變化率越低越優選，然而，也可以在70％以上且110％以下的範圍內。

同時，在本發明的第一方面所涉及的低摩擦構件中，優選潤滑性材料的表面露出率為35.0％以上。另外，如上所述，就本發明所涉及的低摩擦構件而言，潤滑性材料的表面露出率也可以在35.0％以上且100.0％以下的範圍內。在此情況下，在該低摩擦構件中，優選滑動磨損試驗(JIS K 7218)中10分鐘後的動摩擦係數為小於0.0800。另外，該動摩擦係數越低越優選，然而，也可以在0.0500以上且小於0.0800的範圍內。同時，在此情況下，在該低摩擦構件中，優選10分鐘後的動摩擦係數相對於初期動摩擦係數的變化率為110％以下。另外，該動摩擦係數的變化率越低越優選，然而，也可以在90％以上且110％以下的範圍內。同時，在此情況下，優選滑動磨損試驗(JIS K 7218)中100分鐘後的動摩擦係數為小於0.0800。另外，該動摩擦係數越低越優選，然而，也可以在0.0500以上且小於0.0800的範圍內。進一步地，在此情況下，在該低摩擦構件中，優選100分鐘後的動摩擦係數相對於初期動摩擦係數的變化率為110％以下。另外，該動摩擦係數的變化率越低越優選，然而，也可以在70％以上且110％以下的範圍內。

同時，在本發明的第一方面所涉及的低摩擦構件中，潤滑性材料的表面露出率在35.0％以上且100.0％以下的範圍內的情況下，優選表面粗糙度Rsk大於1.400。另外，在此情況下，表面粗糙度Rsk也可以在大於1.400且5.000以下的範圍內。

另一方面，在本發明的第一方面所涉及的低摩擦構件中，潤滑性材料的表面露出率在35.0％以上且100.0％以下的範圍內的情況下，表面粗糙度Rsk優選在0.900以上且1.400以下的範圍內。在此情況下，優選的是，就本發明所涉及的低摩擦構件而言，滑動磨損試驗(JIS K 7218)中10分鐘後的動摩擦係數比初期動摩擦係數小，在同一個滑動磨損試驗(JIS K 7218)中100分鐘後的動摩擦係數也比10分鐘後的動摩擦係數小。

同時，本發明的第二方面所涉及的低摩擦構件至少由潤滑性材料和聚醯亞胺樹脂形成。另外，該低摩擦構件優選為低摩擦片自身、或具有摩擦片或低摩擦塗層的構件。在此情況下，低摩擦片或低摩擦塗層優選厚度在10μm以上且200μm以下的範圍內。並且，該低摩擦構件為，滑動磨損試驗(JIS K 7218)中10分鐘後的動摩擦係數為0.1000以下，且10分鐘後的動摩擦係數相對於初期動摩擦係數的變化率在190％以下的範圍內。

然而，這樣的低摩擦構件是通過將中值粒徑不同的至少兩種潤滑性材料製成的粉末與聚醯亞胺樹脂或聚醯亞胺樹脂的前體混合後煅燒而得到的。並且，在如上所述製作本發明所涉及的低摩擦構件時，作為中值粒徑不同的至少兩種潤滑性材料製成的粉末，優選使用中值粒徑在10μm以上且100μm以下的範圍內的第一潤滑性粉末和中值粒徑在0.1μm以上且5μm以下的範圍內的第二潤滑性粉末。同時，在此情況下，按照體積比計算，優選相對於聚醯亞胺樹脂、第一潤滑性粉末和第二潤滑性粉末的存在區域(即，至少由聚醯亞胺樹脂、第一潤滑性粉末和第二潤滑性粉末形成的區域，例如，低摩擦片、低摩擦塗層、低摩擦塊等)的總體積，第一潤滑性粉末的添加比在0.1體積％以上且40體積％以下的範圍內。另一方面，按照體積比率計算，相對於上述總體積，優選第二潤滑性粉末的添加比在10體積％以上且80體積％以下的範圍內。

同時，在本發明的第二方面所涉及的低摩擦構件中，優選10分鐘後的動摩擦係數相對於初期動摩擦係數的變化率在120％以下的範圍內。另外，該動摩擦係數的變化率越低越優選，然而，也可以在80％以上且120％以下的範圍內。

同時，在本發明的第二方面所涉及的低摩擦構件中，優選滑動磨損試驗(JIS K 7218)中100分鐘後的動摩擦係數為0.1800以下。另外，該動摩擦係數越低越優選，然而，也可以在0.0500以上且0.1800以下的範圍內。

同時，在本發明的第二方面所涉及的低摩擦構件中，優選上述100分鐘後的動摩擦係數相對於初期動摩擦係數的變化率為180％以下。另外，該動摩擦係數的變化率越低越優選，然而，也可以在70％以上且180％以下的範圍內。

同時，在本發明的第二方面所涉及的低摩擦構件中，優選滑動磨損試驗(JIS K 7218)中10分鐘後的動摩擦係數比初期動摩擦係數小，滑動磨損試驗(JIS K 7218)中100分鐘後的動摩擦係數也比前述10分鐘後的動摩擦係數小。

同時，在本發明的第二方面所涉及的低摩擦構件中，優選潤滑性材料是氟樹脂。

同時，在本發明的第二方面所涉及的低摩擦構件中，優選表面粗糙度Rsk為0.500以上，且潤滑性材料的表面露出率為15.0％以上。

權利要求34至39任一項所記載的低摩擦構件。另外，就本發明的第二方面所涉及的低摩擦構件而言，表面粗糙度Rsk也可以在0.500以上且5.000以下的範圍內，潤滑性材料的表面露出率也可以在15.0％以上且100.0％以下的範圍內。另外，該低摩擦構件的表面可以完全被潤滑性材料覆蓋，也可以成為具有潤滑性材料相和耐熱性樹脂相的混合相表面。

並且，本發明的第三方面所涉及的圖像形成裝置配備有上述第一方面和第二方面所涉及的低摩擦構件。另外，在此情況下，該低摩擦構件可以作為滑動性構件等使用。

本發明的第四方面所涉及的低摩擦覆膜形成劑為，相對於聚醯亞胺前體溶液，添加有「中值粒徑在10μm以上且100μm以下的範圍內的潤滑性粉末」和「中值粒徑在0.1μm以上且5μm以下的範圍內的潤滑性粉末」的低摩擦覆膜形成劑，聚醯亞胺前體溶液至少含有上述兩種不同中值粒徑的潤滑性粉末。將該低摩擦覆膜形成劑塗布於基材或基板等之後，通過煅燒可以得到本發明的第一方面和第二方面所涉及的低摩擦構件。

附圖說明

圖1是本發明的一種實施方式所涉及的低摩擦構件的表面附近的結構的示意圖。

圖2是本發明的實施方式所涉及的應用例1所涉及的定影帶式定影裝置的縱剖面圖。

圖3是本發明的實施方式所涉及的應用例2所涉及的加壓帶式定影裝置的縱剖面圖。

圖4是本發明的實施方式所涉及的應用例3所涉及的彩色圖像定影裝置的縱剖面圖。

圖5是本發明的實施方式所涉及的應用例4所涉及的彩色圖像定影裝置的縱剖面圖。

圖6是本發明的實施方式所涉及的應用例5所涉及的帶式定影裝置的縱剖面圖。

圖7是本發明的實施方式所涉及的應用例6所涉及的帶式定影裝置的縱剖面圖。

圖8是本發明的實施方式所涉及的應用例7所涉及的定影帶式定影裝置的縱剖面圖。

圖9是本發明的實施方式所涉及的應用例8所涉及的帶式定影裝置的縱剖面圖。

圖10是本發明的實施方式所涉及的應用例9所涉及的彩色圖像定影裝置的縱剖面圖。

圖11是本發明的實施方式所涉及的應用例10所涉及的定影帶式定影裝置的縱剖面圖。

圖12是本發明的實施方式所涉及的應用例11所涉及的定影輥式定影裝置的縱剖面圖。

符號說明

100 定影帶式定影裝置(圖像形成裝置)

110 加壓帶式定影裝置(圖像形成裝置)

120 彩色圖像定影裝置(圖像形成裝置)

130 彩色圖像定影裝置(圖像形成裝置)

140 帶式定影裝置(圖像形成裝置)

150 帶式定影裝置(圖像形成裝置)

160 定影帶式定影裝置(圖像形成裝置)

170 帶式定影裝置(圖像形成裝置)

180 定影帶式定影裝置(圖像形成裝置)

190 定影帶式定影裝置(圖像形成裝置)

200 定影輥式定影裝置(圖像形成裝置)

LS 低摩擦構件

MR 耐熱性樹脂

PL 大粒徑潤滑性顆粒

PS 小粒徑潤滑性顆粒

具體實施方式

以下參見附圖進行說明。另外，圖中相同或相當部分以同樣的符號表示，為了避免重複說明，不再反覆進行該說明。

低摩擦構件的細節

(1)低摩擦構件的構成

本發明的實施方式所涉及的低摩擦構件是例如「低摩擦片自身」、「由低摩擦片覆蓋的構件」、「具有低摩擦塗層的構件」等。並且，該低摩擦片和低摩擦塗層(以下簡稱「低摩擦片等」)至少由潤滑性材料和耐熱性樹脂形成。並且，該低摩擦片等兼具15％以上的潤滑性材料的表面露出率以及0.500以上的表面粗糙度Rsk。

作為構成本發明的實施方式所涉及的低摩擦片等的耐熱性樹脂，可以列舉例如：聚醯亞胺樹脂、聚醯胺-醯亞胺樹脂、聚醚醯亞胺樹脂、聚醚碸樹脂、聚醚醚酮樹脂、酚樹脂、矽橡膠、聚亞苯基硫醚、液晶聚合物等。這些耐熱性樹脂可以單獨使用，也可以將兩種以上混合使用。另外，根據使用環境和目的，該耐熱性樹脂可以從上述選擇項等中酌情選擇，其中優選為聚醯亞胺樹脂。

聚醯亞胺樹脂可以通過下述方法得到，例如：將芳香四甲酸二酐和芳香二胺在有機極性溶劑中反應，得到聚醯亞胺前體溶液，其後，將該溶液塗布，通過加熱等進行有機極性溶劑的乾燥和醯亞胺化處理。

作為芳香族四甲酸二酐，可以列舉但不限於下述芳香族四甲酸二酐：均苯四甲酸二酐、3,3′,4,4′-聯苯四甲酸二酐、3,3′,4,4′-二苯甲酮四甲酸二酐、2,3,4,4′-聯苯四甲酸二酐、2,3,6,7-萘四甲酸二酐、1,2,5,6-萘四甲酸二酐、2,2-雙(3,4-二羧基苯基)醚二酐，或它們的四甲酸酯，上述各四甲酸類的混合物等。

作為芳香族二胺，可以列舉但不限於下述芳香族二胺：對苯二胺、間苯二胺、4,4′-二氨基二苯醚、4,4′-二氨基苯甲烷、聯苯胺、3,3′-二氨基二苯甲烷、3,3′-二甲氧基聯苯胺、4,4′-二氨基二苯丙烷、2,2-雙[4(4-氨基苯氧基)苯基]丙烷等。

作為有機極性溶劑，可以列舉但不限於下述有機極性溶劑：二甲基乙醯胺、二甲基甲醯胺、N-甲基-2-吡咯烷酮、酚、鄰甲酚、間甲酚、對甲酚等。在這些有機性溶劑中，也可以混合二甲苯、己烷、甲苯等烴類(碳氫化合物)等。

作為構成本發明的實施方式所涉及的低摩擦片等的潤滑性材料，可以列舉例如：氟樹脂、石墨、二硫化鉬、氮化硼(BN)等。這些潤滑性材料可以單獨使用，也可以將兩種以上混合使用。另外，根據使用環境和目的，該潤滑性材料可以從上述選擇項等中酌情選擇，其中優選為氟樹脂。因為磨損的氟樹脂在定影帶內周面上滯留，可以起到潤滑劑的作用。

(2)低摩擦構件的製造方法

本發明的實施方式所涉及的低摩擦片等可以通過塗布工序和形成覆膜工序進行製作。另外，低摩擦片等的製造方法只不過是一個實例，並不是唯一的。

就塗布工序而言，將向耐熱性樹脂或耐熱性樹脂的前體的溶液添加了中值粒徑不同的至少兩種潤滑性材料製成的粉末的溶液(以下簡稱「含有不同粒徑的潤滑性粉末的耐熱性樹脂等溶液」)均勻塗布在基材或基板上。另外，作為此時的塗布方法，不受到特別限制，可以列舉下述公知的方法：旋轉塗布法、擠出塗布法、凹版塗布法、模具塗布法、狹縫塗布法、棒式塗布法、塗覆器塗布法等塗布法；柔版法等印刷法等。同時，作為此時的基材的形狀，可以是：板狀、曲面狀、L字形狀、圓筒狀、圓柱狀等以及將上述形狀複合的形狀等任意形狀。另外，該基材也可以是發泡體等形式。作為基材的材質，不受到特別限制，可以使用例如：不鏽鋼、鋁、鋁合金、銅、銅合金、鎳、鐵、磁性不鏽鋼和鈷-鎳合金等金屬材料；矽橡膠和氟橡膠等橡膠材料；聚醚碸、聚苯硫醚、液晶聚合物、聚醚腈、聚醯亞胺、芳香族聚醯胺、聚醯胺亞胺、聚醚醚酮、聚酯和聚對苯二甲酸乙二醇酯等樹脂材料；導電陶瓷、石墨(黑鉛)、導電碳和金屬粉等導電材料；絕緣陶瓷(玻璃)等絕緣材料。

就形成覆膜工序而言，將在塗布工序中的基材上或基板上的塗布液膜加熱、煅燒而形成覆膜。另外，在此，通過從基板剝離覆膜得到低摩擦片。其後，該低摩擦片也可以通過粘接劑等粘貼在所要求的構件上。同時，具有低摩擦塗層的構件可以不從基材剝離覆膜直接得到而將其直接使用。

並且，推測如上所述得到的低摩擦片等具有基本上如圖4所示的結構。但是，在潤滑性材料是氟樹脂等在形成覆膜工序中通過加熱、煅燒會熔化(熔融)的材料的情況下，推測具有更為複雜的結構。另外，圖1中，符號LS表示低摩擦構件，符號PL表示大粒徑潤滑性粉末，符號PS表示小粒徑潤滑性粉末，符號MR表示耐熱性樹脂(基體樹脂)。

低摩擦構件的特性

本發明的實施方式所涉及的低摩擦構件具有0.500以上的表面粗糙度Rsk，同時具有15.0％以上的潤滑性材料的表面露出率。該低摩擦構件兼具這兩種特性，從而與以前的包覆氟樹脂的玻璃纖維片相比，顯示出優異的動摩擦特性。

在本發明的實施方式所涉及的低摩擦構件中，特別優選兼具0.900以上且1.400以下的範圍內的表面粗糙度Rsk和35.0％以上的潤滑性材料的表面露出率的低摩擦構件。因為具備該特性的低摩擦構件，不僅顯示出0.0800以下的初期動摩擦係數，而且在摩擦磨損加速試驗中，隨著時間的流逝，動摩擦係數具有逐漸變低的趨勢。

同時，在本發明的實施方式所涉及的低摩擦構件中，優選兼具大於1.400的表面粗糙度Rsk和35.0％以上的潤滑性材料的表面露出率的低摩擦構件。因為具備該特性的低摩擦構件，不僅顯示出0.0800以下的初期動摩擦係數，而且在摩擦磨損加速試驗中，顯示出時間上極為穩定的動摩擦係數。

進一步地，在本發明的實施方式所涉及的低摩擦構件中，優選兼具大於1.000的表面粗糙度Rsk和在15.0％以上且小於35.0％的範圍內的潤滑性材料的表面露出率的低摩擦構件。因為具備該特性的低摩擦構件，不僅顯示出在0.0800以上且小於0.1000的範圍內的初期動摩擦係數，而且在摩擦磨損加速試驗中，顯示出時間上極為穩定的動摩擦係數。

最後，在本發明的實施方式所涉及的低摩擦構件中，優選兼具在0.500以上且1.000以下的範圍內的表面粗糙度Rsk和在15.0％以上且小於35.0％的範圍內的潤滑性材料的表面露出率的低摩擦構件。因為具備該特性的低摩擦構件，顯示出0.0800以下的初期動摩擦係數，在摩擦磨損加速試驗中具有動摩擦係數在長時間內上升的趨勢，而在短時間內顯示出極為穩定的動摩擦係數。

低摩擦構件的應用例

(1)應用例1

本發明的實施方式所涉及的低摩擦構件可以用於如圖2所示的定影帶式定影裝置100。如圖2所示，該定影帶式定影裝置100主要由定影帶101、導帶件102、加熱器103、熱敏電阻104和加壓輥105構成。如圖2所示，在定影帶101的內側設置有導帶件102，通過該導帶件102保持定影帶101的形狀。同時，如圖2所示，在該定影帶式定影裝置100中，在定影帶101的內側下部設置加熱器103，使加熱器103夾在導帶件102上。另外，在該加熱器103的上面配置有熱敏電阻104，加熱器103和熱敏電阻104都與控制裝置(未圖示)連接。基於從熱敏電阻104輸出的溫度數據，控制裝置控制加熱器103的發熱溫度。如圖2所示，加壓輥105是在帶芯棒107上形成橡膠層106的輥，隔著定影帶101被推壓在加熱器103上。並且，如圖2表示，形成了未定影調色劑圖像Tn的記錄紙PP依次被送入定影帶101和加壓輥105之間，通過由加熱器103加熱的定影帶101將未定影調色劑依次加熱熔融，在記錄紙上未定影調色劑圖像Tn通過輥隙N得以定影(在圖2中，符號Th表示已定影的調色劑圖像)。

在如上所述的定影帶式定影裝置100中，本發明可以適用於導帶件102和加熱器103。例如，在導帶件102的與定影帶101接觸的面上，可以考慮設置本發明所涉及的低摩擦塗層或者粘貼本發明所涉及的低摩擦片。同時，在優良導熱材料上設置本發明所涉及的低摩擦塗層或者粘貼本發明所涉及的低摩擦片之後，也可以將此優良導熱材料安裝在加熱器103的下面，使此低摩擦片等與定影帶101的內周面接觸。

(2)應用例2

本發明的實施方式所涉及的低摩擦構件也可以應用於如圖3所示的加壓帶式定影裝置110。如圖3所示，該加壓帶式定影裝置110主要由定影輥111、滷素燈加熱器112、加壓帶113和推壓結構114構成。定影輥是在帶芯棒111a上形成了橡膠層111b的輥。滷素燈加熱器112是加熱源，如圖3所示，其設置在定影輥111的內部。同時，如圖3所示，推壓結構114主要由推壓墊114a、推壓墊支承構件114b、施力構件114c和支承臺114d構成，設置在加壓帶113的內側。如圖3所示，支承臺114d隔著施力構件114c與推壓墊支承構件114b連接。並且，如圖3所示，推壓墊114a安裝在此推壓墊支承構件114b的前端部。並且，該推壓結構114通過施力構件114c的施力，從加壓帶113的內側將推壓墊114a向加壓帶113推壓，將加壓帶113壓接在定影輥111上。就該加壓帶式定影裝置110而言，如上所述形成輥隙N。並且，如圖3所示，形成未定影調色劑圖像Tn的記錄紙PP依次被送入定影輥111與加壓帶113之間，通過由滷素燈加熱器112加熱的定影輥111將未定影調色劑依次加熱熔融，在記錄紙PP上的未定影調色劑圖像Tn通過輥隙N得以定影。

在這樣的加壓帶式定影裝置110中，本發明可以適用於推壓墊114a。例如，在推壓墊114a的與加壓帶113接觸的面上，可以考慮設置本發明所涉及的低摩擦塗層或者粘貼本發明所涉及的低摩擦片。

(3)應用例3

本發明的實施方式所涉及的低摩擦構件也可以應用於如圖4所示的彩色圖像定影裝置120。如圖4所示，該彩色圖像定影裝置120主要由驅動支承輥121、加熱器121a、從動支承輥122、定影帶123、加壓輥124、加熱器124a和推壓結構125構成。如圖4所示，驅動支承輥121在離從動支承輥122一定距離的位置與從動支承輥122相對設置。並且，如圖4所示，定影帶123橋接在驅動支承輥121和從動支承輥122上。同時，如圖4所示，在該定影帶123的內側的驅動支承輥121與從動支承輥122之間的空間的下部，設置推壓結構125。如圖4所示，加壓輥124隔著定影帶123與推壓結構125相對設置。加熱器122a設置在從動支承輥122的內部，加熱器124a設置在加壓輥124的內部。推壓結構125具有與應用例2的推壓結構114一樣的結構，如圖4所示，由推壓墊125a、推壓墊支承構件125b、施力構件(未圖示)和支承臺(未圖示)構成。支承臺隔著施力構件與推壓墊支承構件125b連接。並且，在此推壓墊支承構件125b的前端部安裝推壓墊125a。並且，該推壓結構125通過施力構件的施力，從定影帶123的內側將推壓墊125a向定影帶123推壓，將定影帶123壓接在加壓輥124上。就該彩色圖像定影裝置120而言，如上所述形成輥隙N。並且，如圖4所示，形成未定影調色劑圖像的記錄紙PP依次被送入定影帶123和加壓輥124之間，通過由加熱器122a加熱的定影帶123和由加熱器124a加熱的加壓輥124，未定影調色劑依次加熱熔融，在記錄紙PP上未定影調色劑圖像Tn通過輥隙N得以定影。

在這樣的彩色圖像定影裝置120中，本發明可以適用於推壓墊125a。例如，在推壓墊125a的與加壓輥124接觸的面上，可以考慮設置本發明所涉及的低摩擦塗層或者粘貼本發明所涉及的低摩擦片。

(4)應用例4

本發明的實施方式所涉及的低摩擦構件也可以應用於如圖5所示的彩色圖像定影裝置130。如圖5所示，該彩色圖像定影裝置130主要由定影輥131、滷素燈加熱器H、加壓帶132、推壓結構133、固定器134、固定器135、框架136、導帶件137和油墊138構成。如圖5所示，定影輥131主要由帶芯棒131a、彈性層131b和脫模層131c構成。並且，如圖5所示，在該定影輥131的內部中央，內置滷素燈加熱器H。如圖5所示，推壓結構133主要由推壓墊133a、基材板金133b、基材構件133c、壓縮彈簧133d和分離構件133e構成。在基材構件133c的背面，配置有壓縮彈簧133d。分離構件133e是為了提高已定影的記錄紙PP的從定影輥131的分離性能的構件，保持在固定器134、固定器135中。如圖5所示，固定器134主要保持推壓墊133a、基材板金133b、基材構件133c、壓縮彈簧133d和分離構件133e。固定器134、固定器135由在中央配置的金屬制的框架136保持。另外，固定器135也起到加壓帶132的導向構件的作用。如圖5所示，導帶件137配置在加壓帶132的內周面與推壓墊133a之間、以及在加壓帶132的內周面與分離構件133E之間。另外，如圖5所示，該導帶件137一端固定於框架136。並且，該導帶件137與加壓帶132的內周面滑動接觸。油墊138由海綿等形成，含有由矽油等形成的潤滑劑。並且，該油墊138保持於固定器135，被壓接在加壓帶132的內周面上。並且，推壓結構133通過壓縮彈簧133d的施力，從加壓帶132的內側將推壓墊133a嚮導帶件137推壓，將加壓帶132壓接在定影輥131上。就該彩色圖像定影裝置130而言，如上所述形成輥隙N。並且，如圖5所示，形成未定影調色劑圖像Tn的記錄紙PP依次被送入定影輥131和加壓帶132之間，通過由滷素燈加熱器H加熱的定影輥131將未定影調色劑依次加熱熔融，在記錄紙PP上未定影調色劑圖像Tn通過輥隙N得以定影。

在這樣的彩色圖像定影裝置130中，本發明可以適用於導帶件137。例如，在導帶件137的外面即與加壓帶132接觸的面上，可以考慮設置本發明所涉及的低摩擦塗層或者粘貼本發明所涉及的低摩擦片。

應用例5

本發明的實施方式所涉及的低摩擦構件也可以應用於如圖6所示的帶式定影裝置140。如圖6所示，該帶式定影裝置140主要由定影帶結構141和加壓帶結構142構成。

如圖6所示，定影帶結構141主要由定影側驅動輥141a、電機M1、定影側從動輥141b、定影帶141c、定影側推壓裝置141d、定影側潤滑劑供給構件141e和滷素燈加熱器141f構成。如圖6所示，定影側驅動輥141a與電機M1連接，由電機M1旋轉驅動。如圖6所示，定影帶141c橋接在定影側驅動輥141a和定影側從動輥141b上。定影側從動輥141b由定影側驅動輥141a驅動的定影帶141c驅動。另外，該定影側從動輥141b內置滷素燈加熱器141f。定影側推壓裝置141d具有與應用例2的推壓結構114一樣的結構，由推壓墊(未圖示)、推壓墊支承構件(未圖示)、施力構件(未圖示)和支承臺(未圖示)構成。支承臺隔著施力構件連接在推壓墊支承構件上。並且，在此推壓墊支承構件的前端部安裝推壓墊。並且，該定影側推壓裝置141d通過施力構件的施力，從定影帶141c的內側將推壓墊推壓在定影帶141c上，將定影帶141c與加壓帶142c壓接。定影側潤滑劑供給構件141e是與應用例4的油墊138一樣的構件，由海綿等形成，並且含有由矽油等形成的潤滑劑。並且，如圖6所示，該定影側潤滑劑供給構件141e被壓接在定影帶141c的內周面。

如圖6所示，加壓帶結構142主要由加壓側驅動輥142a、電機M2、加壓側從動輥142b、加壓帶142c、加壓側推壓裝置142d和加壓側潤滑劑供給構件142e構成。如圖6所示，加壓側驅動輥142a與電機M2連接，由電機M2旋轉驅動。另外，如圖6所示，該加壓側驅動輥142a與定影側驅動輥141a相鄰配置。如圖6所示，加壓帶142c橋接在加壓側驅動輥142a和加壓側從動輥142b上。並且，如圖6所示，該加壓帶142c部分地與定影帶141c相鄰配置。加壓側從動輥142b由加壓側驅動輥142a驅動的加壓帶142c驅動。加壓側推壓裝置142d具有與應用例2的推壓結構114一樣的結構，由推壓墊(未圖示)、推壓墊支承構件(未圖示)、施力構件(未圖示)和支承臺(未圖示)構成。支承臺隔著施力構件與推壓墊支承構件連接。並且，在此推壓墊支承構件的前端部安裝推壓墊。並且，該加壓側推壓裝置142d通過施力構件的施力，從加壓帶142c的內側將推壓墊推壓在加壓帶142c上，將加壓帶142c壓接在定影帶141c上。另外，如圖6所示，該加壓側推壓裝置142d與定影側推壓裝置141d相對配置。因此，可以說，該加壓側推壓裝置142d與定影側推壓裝置141d協同將加壓帶142c與定影帶141c壓接。就該帶式定影裝置140而言，如上所述形成輥隙N。加壓側潤滑劑供給構件142e是與應用例4的油墊138一樣的構件，由海綿等形成，並且含有由矽油等形成的潤滑劑。並且，如圖6所示，該加壓側潤滑劑供給構件142e壓接在加壓帶142c的內周面。

並且，如圖6所示，形成未定影調色劑圖像的記錄紙PP依次被送入定影帶141c與加壓帶142c之間，通過由滷素燈加熱器H加熱的定影側從動輥141b將未定影調色劑依次加熱熔融，在記錄紙PP上未定影調色劑圖像通過輥隙N得以定影。

在這樣的帶式定影裝置140中，本發明可以適用於定影側推壓裝置141d和加壓側推壓裝置142d的推壓墊。例如，在推壓墊的與定影帶141c接觸的面上以及在推壓墊的與加壓帶142c接觸的面上，可以考慮設置本發明所涉及的低摩擦塗層或者粘貼本發明所涉及的低摩擦片。

應用例6

本發明的實施方式所涉及的低摩擦構件也可以應用於如圖7所示的帶式定影裝置150。如圖7所示，該帶式定影裝置150主要由定影輥151、滷素燈加熱器Hm、加壓輥152、滷素燈加熱器Hp、轉向輥153、加壓帶154、導向件155、溫度傳感器156、溫度調節電路157、齒輪結構158、加壓墊159和低摩擦片LF構成。如圖7所示，定影輥151為下述定影輥：在鋁圓筒管的金屬芯151a的表面設置由矽橡膠製的彈性層151b，進一步地，在此彈性層151b的表面設置氟樹脂的耐熱脫模層151c。並且，如圖7所示，該定影輥151內置滷素燈加熱器Hm。另外，如圖7所示，與該定影輥151相對，設置溫度傳感器156。該溫度傳感器156檢測定影輥151的表面溫度。並且，如圖7所示，該溫度傳感器156與溫度調節電路157連接。溫度調節電路157將溫度傳感器156的輸出進行反饋，進行滷素燈加熱器Hm的開-關控制，將定影輥151的表面溫度控制在一定範圍內。齒輪結構13通過使定影輥151和加壓輥152一起旋轉驅動，以與定影輥151的旋轉速度相等的速度旋轉加壓帶154。如圖7所示，加壓輥152內置滷素燈加熱器Hp。在加壓輥152的表面附近設置溫度傳感器(未圖示)。該溫度傳感器檢測加壓輥152的表面溫度。並且，該溫度傳感器與溫度調節電路157連接。溫度調節電路157將溫度傳感器的輸出進行反饋，進行滷素燈加熱器Hp的開-關控制，將加壓輥152的表面溫度控制在一定範圍內。轉向輥153擔負著賦予加壓帶154帶轉向功能和帶張力功能，使加壓帶154在寬度方向的一定位置穩定地循環旋轉。如圖7所示，加壓帶154架設在加壓輥152和轉向輥153上。加壓輥152通過的兩端部彈簧結構(未圖示)向定影輥151施力，與定影輥151協作夾住加壓帶154。即，如圖7所示，定影輥151被壓接在加壓帶154上。其結果，在加壓帶154與定影輥1之間形成輥隙N。並且，就該帶式定影裝置150而言，將從導向件155傳遞過來的記錄紙PP一邊由定影輥151和加壓帶154夾持運送，一邊經加熱區域Kn通過輥隙N。並且，在該記錄紙PP通過輥隙N時，在記錄紙PP上，調色劑圖像得以定影。如圖7所示，加壓墊159插入輥隙N附近的加壓輥152與加壓帶154的間隙。加壓墊159通過在支承板159a上粘接彈性層159b構成。另外，在進入加壓帶154與加壓輥152的間隙的加壓墊159的彈性層159b的前端部，為了在加熱區域Kn不產生無加壓部，設置為將金屬制的棒159c一體化植入。如圖7所示，低摩擦片LF在加壓墊159的棒159c部折返，連續覆蓋向定影輥151的推壓面以及與加壓輥152的接觸面。另外，該低摩擦片LF的折返部的前端配置為使得該折返部朝著因加壓輥152而形成的定影輥151的加壓部以銳角狀進入。

在這樣的帶式定影裝置150中，本發明可以適用於低摩擦片LF。

應用例7

本發明的實施方式所涉及的低摩擦構件也可以應用於如圖8所示的定影帶式定影裝置160。如圖8所示，該定影帶式定影裝置160主要由加壓輥161和定影帶模塊162構成。定影帶模塊162配備有定影帶162a、推壓墊162b、導帶件162c、滷素燈加熱器HL、驅動支承輥162d、從動支承輥162e、姿勢矯正輥162f、輔助輥162g和保持構件162h。如圖8所示，加壓輥161被配置為推壓定影帶162a。並且，在加壓輥161與定影帶162a接觸的區域形成輥隙N。定影帶162a形成環狀(無端狀)，由在其內部配置的推壓墊162b和驅動支承輥162d自由旋轉地支承。推壓墊162b配備前夾持構件FP和剝離夾持構件RP，由保持構件162h支承。前夾持構件FP沿著加壓輥161的外周形狀構成凹形，配置在輥隙N的入口側。並且，該前夾持構件FP起著確保輥隙N的長度的作用。剝離夾持構件RP相對於加壓輥161的外周面構成突出的形狀，配置在輥隙N的出口側。並且，該剝離夾持構件RP在輥隙N的出口區域，在加壓輥161上產生局部變形，起著使定影后的記錄紙PP容易從加壓輥161剝離的作用。並且，該推壓墊162b隔著導帶件162c將定影帶162a向加壓輥161推壓。同時，在該推壓墊162b附近配備滷素燈加熱器HP。該滷素燈加熱器HL從內周面側加熱定影帶162a。導帶件162c是所謂的低摩擦片，配置在定影帶162a與推壓墊162b之間。在驅動支承輥162d上橋接定影帶162a。並且，該驅動支承輥162d在與推壓墊162b不同的位置支承定影帶162a。同時，該驅動支承輥162d內置滷素燈加熱器HL，從內部加熱定影帶162a。從動支承輥162e配置為與從推壓墊162b至驅動支承輥162d之間的定影帶162a的外周面接觸，規定定影帶162a的環行路線。並且，該從動支承輥162e內置定滷素燈加熱器HL，從外側加熱定影帶162a。姿勢矯正輥162f是例如鋁的圓柱狀輥，配置為與從驅動支承輥162d至推壓墊162b之間的定影帶162a的內周面接觸，矯正從驅動支承輥162d至推壓墊162b的定影帶162a的姿勢。另外，在姿勢矯正輥162f附近，配置有測定定影帶162a的端部位置的端部位置測定結構(未圖示)。並且，在該姿勢矯正輥162f上，設置有根據端部位置測定結構的測定結果使定影帶162a的軸方向的抵接位置進行變位的軸變位結構(未圖示)。這些結構對定影帶162a的姿勢進行矯正。輔助輥162g配置為與從推壓墊162b至從動支承輥162e之間的定影帶162a的內周面接觸，在輥隙N的下遊側，從定影帶162a的內周面向定影帶162a賦予張力。

在這樣的定影帶式定影裝置160中，本發明可以適用於導帶件162c。例如，在導帶件162c的外面即與定影帶162a接觸的面上，可以考慮設置本發明所涉及的低摩擦塗層或者粘貼本發明所涉及的低摩擦片。

(8)應用例8

本發明的實施方式所涉及的低摩擦構件也可以應用於如圖9所示的帶式定影裝置170。如圖9所示，該帶式定影裝置170主要由定影帶結構171、加壓帶結構172、感應加熱裝置173和控制裝置174構成。

如圖9所示，定影帶結構171主要由定影帶171a、加熱輥171b、定影輥171c、電機M、定影墊171d和低摩擦片171e構成。定影帶171a是由基層、彈性層和脫模層三層形成的環狀的帶狀體，如圖9所示，由加熱輥171b和定影輥171c拉緊橋接。另外，為了可以感應加熱，該定影帶171a的基層由SUS合金、鎳、鐵、磁性不鏽鋼、鈷-鎳合金等金屬形成。加熱輥171b是鐵製的中空輥，在帶式定影裝置170的左右側板之間自由旋轉地樞軸支承。同時，該加熱輥171b也具有作為給予定影帶171a拉力的張力輥的功能。定影輥171c是在鐵合金制的帶芯棒上，作為彈性層設置矽橡膠層的高滑動性彈性輥，與加熱輥171b一樣，在帶式定影裝置170的左右側板之間自由旋轉地樞軸支承。該定影輥171c作為驅動輥由電機M藉助驅動齒輪列(未圖示)輸入驅動力，在箭頭的順時針方向以規定的速度旋轉驅動。並且，定影輥171c被旋轉驅動的話，通過定影輥171c的矽橡膠表面和定影帶171a的內側的聚醯亞胺層的摩擦，該定影帶171a與定影輥171c一起旋轉。定影墊171d是為了使定影帶171a向加壓帶172a推壓的構件，被支承在帶式定影裝置170的左右側板之間。如圖9所示，低摩擦片171e設置在定影墊171d與定影帶171a的內周面之間。

如圖9所示，加壓帶結構172主要由加壓帶172a、張力輥172b、加壓輥172c、加壓墊172d和低摩擦片172e構成。加壓帶172a是與定影帶171a具有同樣結構的帶，如圖9所示，加壓帶172a通過張力輥172b和加壓輥172c進行拉緊橋接。該加壓帶172a與定影帶171a從動旋轉。張力輥172b是在鐵合金制的帶芯棒上設置矽海綿層的輥，在帶式定影裝置170的左右側板之間自由旋轉地樞軸支承。加壓輥172c是鐵合金制的剛性低滑動輥，在帶式定影裝置170的左右側板之間自由旋轉地樞軸支承。並且，該加壓輥172c的旋轉軸的左右兩端側通過加壓結構(未圖示)向定影輥171c加壓(參見箭頭F)。其結果，定影帶171a與加壓帶172a之間形成輥隙N。並且，如圖9所示，在定影帶171a與加壓帶172a之間，形成未定影調色劑圖像Tn的記錄紙PP依次被送入，通過被加熱的定影帶171a，未定影調色劑依次被加熱熔融，在記錄紙上未定影調色劑圖像Tn在輥隙N得以定影(在圖2中，符號Th表示已定影的調色劑圖像)。加壓墊172d是為了將加壓帶172a向定影帶171a推壓的構件，被支承在帶式定影裝置170的左右側板之間。並且，該加壓墊172d通過加壓結構(未圖示)對定影墊171d加壓(參見箭頭G)。其結果，就該帶式定影裝置170而言，得到寬的輥隙N。如圖9所示，低摩擦片172e設置在加壓墊172d和加壓帶172a的內周面之間。

如圖9所示，感應加熱裝置173主要由感應線圈173a、勵磁芯173b和線圈架173c構成。感應線圈173a是將利茲線扁平捲成橢圓形後的感應線圈並配置在勵磁芯173b中。勵磁芯173b由鐵氧體、被稱為坡莫合金的高磁導率且殘留磁速密度低的材料形成。線圈架173c保持感應線圈173a和勵磁芯173b。

如圖9所示，控制裝置174主要由控制電路部174a、勵磁電路174b和溫度檢測元件TH構成。如圖9所示，控制電路部174a與電機M連接，在實施圖像形成時驅動電機M。並且，驅動電機M的話，定影輥171c被旋轉驅動。其結果，定影帶171a在相同方向被旋轉驅動。另外，定影帶171a的周速度是比記錄紙PP的輸送速度僅僅慢一點的周速。同時，該控制電路部174a控制從勵磁電路174b向感應線圈173a供給的電力，使定影帶171a的表面溫度保持一定。勵磁電路174b獲得電力供給的話，與此時的電能相應的高頻電流流過感應加熱裝置173的感應線圈173a。並且，如上所述，在感應加熱裝置173的感應線圈173a流過高頻電流時，定影帶171a的基層感應發熱，定影帶171a被加熱。溫度檢測元件TH是例如熱敏電阻，檢測定影帶171a的表面溫度。並且，與被該溫度檢測元件TH檢測到的定影帶171a的表面溫度相關的信號被輸入至控制電路部174a。控制電路部174a基於該信號，控制從勵磁電路174b向感應線圈173a供給的電力。

在如上所述的帶式定影裝置170中，本發明可以適用於低摩擦片171e、低摩擦片172e、定影墊171d和加壓墊172d。另外，在本發明適用於定影墊171d和加壓墊172d的情況下，也可以省略低摩擦片171e、低摩擦片172e。在此情況下，可以考慮在定影墊171d的與定影帶171a接觸的面上設置本發明所涉及的低摩擦塗層或者粘貼本發明所涉及的低摩擦片，以及在加壓墊172d的與加壓帶172a接觸的面上設置本發明所涉及的低摩擦塗層或者粘貼本發明所涉及的低摩擦片。

(9)應用例9

本發明的實施方式所涉及的低摩擦構件也可以應用於如圖10所示的彩色圖像定影裝置180。如圖10所示，該彩色圖像定影裝置180由定影帶181、滷素燈加熱器HLa、拉伸輥182、導帶件SDa、加壓輥183和溫度傳感器TS1構成。定影帶181是由基層、彈性層和脫模層三層構成的環狀的帶狀體，如圖10所示，該定影帶181由拉伸輥182和導帶件SDa拉伸橋接。如圖10所示，拉伸輥182主要由圓筒狀金屬管182a、橡膠輥層182b和脫模層182c三層構成。同時，該拉伸輥182內置滷素燈加熱器HLa。如圖10所示，導帶件SDa主要由支承體PBa、橡膠構件GMa和低摩擦片SDp構成。支承體PBa是大致長方體形的塊狀體。橡膠構件GMa設置為覆蓋支承體PBa。低摩擦片SDp以在橡膠構件GMa的周圍纏繞的狀態通過螺絲Ne擰緊在支承體PBa上。如圖10所示，加壓輥183是由金屬管183a、橡膠輥層183b兩層構成的所謂半硬輥，隔著定影帶181向拉伸輥182和導帶件SDa推壓。其結果，在拉伸輥182和導帶件SDa與加壓輥183之間形成輥隙N。並且，如圖10所示，在定影帶181和加壓輥183之間，形成未定影調色劑圖像Tn的記錄紙PP依次被送入的話，通過由滷素燈加熱器HLa加熱的定影帶181使未定影調色劑依次加熱熔融，記錄紙上未定影調色劑圖像Tn通過輥隙N得以定影。溫度傳感器TS1鄰接拉伸輥182設置，向控制裝置(未圖示)傳送溫度信息。並且，控制裝置基於該溫度信息控制向滷素燈加熱器HLa的電力供給，調節其加熱溫度。

在如上所述的彩色圖像定影裝置180中，本發明可以適用於低摩擦片SDp。另外，在橡膠構件GMa的表面設置本發明所涉及的低摩擦塗層也可以得到同樣的效果。

(10)應用例10

本發明的實施方式所涉及的低摩擦構件也可以應用於如圖11所示的定影帶式定影裝置190。如圖11所示，該定影帶式定影裝置190主要由定影帶模塊191和加壓輥192構成。如圖11所示，定影帶模塊191主要由定影帶191a、驅動支承輥191b、姿勢矯正輥191c、低摩擦片191d、推壓墊191e、保持構件191f、輔助輥191g、從動支承輥191h和滷素燈加熱器HL構成。定影帶191a形成環狀，由在其內部設置的驅動支承輥191b、姿勢矯正輥191c、推壓墊191e和輔助輥191g自由旋轉地支承。驅動支承輥191b是由電機(未圖示)旋轉驅動的輥，通過在兩端部設置的施力構件將定影帶191a向外側推壓。同時，如圖11所示，該驅動支承輥191b內置滷素燈加熱器HL。由該滷素燈加熱器HL從內側加熱定影帶191a。姿勢矯正輥191c是起著控制定影帶191a的蛇行的作用的輥。在姿勢矯正輥191c附近，配置測定定影帶191a的端部位置的端部位置測定結構(省略圖示)。同時，在姿勢矯正輥191c上，設置例如根據端部位置測定結構的測定結果對定影帶191a的軸方向上的抵接位置進行變位的軸變位結構(省略圖示)。如圖11所示，推壓墊191e將定影帶191a從其內面向加壓輥192推壓。如圖11所示，低摩擦片191d通過固定構件(未圖示)固定於推壓墊89上。其結果，該低摩擦片191d設置在定影帶191a和推壓墊191e之間。保持構件191f保持推壓墊191e。從動支承輥191h與驅動支承輥191b一樣，內置滷素燈加熱器HL。通過該滷素燈加熱器HL從外側加熱定影帶191a。加壓輥192是例如由金屬制的輥192a、彈性層192b和脫模層(未圖示)三層形成的輥，被自由旋轉地支承。並且，該加壓輥192通過彈簧等施壓手段(未圖示)，在推壓墊191e卷回的位置向定影帶191a推壓。其結果，由定影帶191a和加壓輥192形成輥隙N。通過該輥隙N，在記錄紙PP被加壓的同時，被加熱的調色劑圖像(未圖示)得以定影。因此，伴隨定影帶191a向箭頭E方向移動，加壓輥192隨定影帶191a從動，成為向箭頭F方向旋轉。

在如上所述的定影帶式定影裝置190中，本發明可以適用於低摩擦片191d。同時，在推壓墊191e的表面，通過設置本發明所涉及的低摩擦塗層，也可以得到同樣的效果。

(11)應用例11

本發明的實施方式所涉及的低摩擦構件也可以適用於如圖12所示的定影輥式定影裝置200。如圖12所示，該定影輥式定影裝置200主要由定影輥201、加壓輥202和外部加熱裝置203構成。定影輥201是由不鏽鋼製的帶芯棒201a、彈性層201b和脫模層201c三層形成的輥。加壓輥202是由不鏽鋼製的帶芯棒202a、彈性層202b和脫模層202c三層形成的輥，在與定影輥201設置為軸平行的同時，壓接在定影輥201上。因此，在定影輥201與加壓輥202之間形成輥隙N。並且，將負載有未定影調色劑圖像Tn的記錄紙PP導入該輥隙N的話，該未定影調色劑圖像Tn在記錄紙PP上得以定影。如圖12所示，外部加熱裝置203主要由陶瓷加熱器203a、絕熱支架固定器203b、金屬支架203c、溫度檢測單元203d和低摩擦片203e構成，從表面側加熱定影輥201。陶瓷加熱器203a是公知的陶瓷加熱器。絕熱支架固定器203b在使陶瓷加熱器203a絕熱的同時支承陶瓷加熱器203a的姿勢。金屬支架203c支撐絕熱支架固定器203b。溫度檢測元件203d設置在陶瓷加熱器203a的定影輥側的面的對面。如圖12所示，低摩擦片203e設置在定影輥201和陶瓷加熱器203a之間。另外，該低摩擦片203e設置為包裹絕熱支架固定器203b，由金屬支架203c固定在絕熱支架固定器203b上。

在這樣的定影輥式定影裝置200中，本發明可以適用於低摩擦片203e。同時，在陶瓷加熱器203a的底面，通過設置本發明所涉及的低摩擦塗層，也可以得到同樣的效果。

實施例

實施例和比較例

接著，使用實施例和比較例對本發明進行具體說明。另外，本實施例只不過是本發明的一個實例，本發明不受到這些實施例的限定。

實施例1

1.低摩擦片的製作

(1)聚醯亞胺前體溶液的製備

將3,3′,4,4′-聯苯四甲酸二酐(BPDA)100g和對苯二胺(PPD)39g在N-甲基-2-吡咯烷酮(NMP)630g中反應，得到聚醯亞胺前體溶液。

(2)含有不同粒徑的氟樹脂顆粒的聚醯亞胺前體溶液的製備

所得到的聚醯亞胺前體溶液的固體成分為18.1質量％。接著，將兩種PTFE粉末添加至聚醯亞胺前體溶液，使相對於最終得到的低摩擦片，中值粒徑40.0μm的聚四氟乙烯(以下簡稱「PTFE」)粉末和中值粒徑0.3μm的PTFE粉末分別為30質量％(22體積％)和45質量％(30體積％)，然後，通過將加入了此PTFE粉末的聚醯亞胺前體溶液充分攪拌，將兩種PTFE粉末分散在聚醯亞胺前體溶液中，得到含有不同粒徑的氟樹脂顆粒的聚醯亞胺前體溶液。

(3)低摩擦片的製作

在脫模劑處理過的鏡面的不鏽鋼板(長500mm，寬300mm，厚3mm)上，將上述含有不同粒徑的氟樹脂顆粒的聚醯亞胺前體溶液使用棒塗法進行塗布。接著，將此具有塗布液膜的不鏽鋼板放入120℃的烤箱加熱60分鐘，使塗布液膜乾燥後，經40分鐘將烤箱溫度升溫至200℃，保持同樣溫度20分鐘。接下來，為了進行最終醯亞胺化處理，將烤箱溫度設定為250℃，將乾燥塗膜加熱10分鐘後，經15分鐘升溫至345℃，在同樣溫度下加熱10分鐘。並且，在烤箱冷卻至室溫(25℃)後，從烤箱取出上述不鏽鋼板。最後，從不鏽鋼板剝下塗膜，得到低摩擦片。

2.低摩擦片的特性

(1)厚度

使用千分尺測定上述低摩擦片的厚度，其厚度為40μm。

(2)表面粗糙度Rsk的測定

使用表面粗糙度計Surfcorder SE500(日本小坂研究所株式會社制)測定上述低摩擦片的空氣側表面的表面粗糙度Rsk，為1.248。另外，此時的測定條件如下。

·傳送速度：0.1mm/s

·標準：JIS2001/ISO97

·截止波長：λc＝0.800mm

·測定長度：2.500mm

(3)PTFE的表面露出率的測定

使用搭載能量分散X射線分光裝置的低真空掃描型電子顯微鏡SEMEDX3TypeN(日本日立科學系統株式會社制)得到低摩擦片的空氣側表面的100倍的掃描型電子顯微鏡像後，通過能量分散X射線分光裝置，測定其掃描型電子顯微鏡像的多個位置上的特性X射線。並且，通過此特徵X射線的峰面積，算出氟元素的含量比(採用：F(氟原子)+O(氧原子)+C(碳原子)＝100％)即PTFE的表面露出率。另外，本實施例所涉及的低摩擦片的空氣側表面中的PTFE的表面露出率為62.1％。

(4)動摩擦係數的測定

使用摩擦磨損試驗機EFM-III-EN(日本オリエンテック株式會社制)，遵照滑動磨損試驗方法(JIS K 7218)的A法測定上述低摩擦片的動摩擦係數，初期動摩擦係數為0.0594，試驗開始10分鐘後的動摩擦係數為0.0581，試驗開始100分鐘後的動摩擦係數為0.0532。同時，將10分鐘後的動摩擦係數和100分鐘後的動摩擦係數分別除以初期動摩擦係數再乘以100，求出動摩擦係數的經時變化率，10分鐘後的動摩擦係數的變化率為97.8％，100分鐘後的動摩擦係數的變化率為89.6％。另外，此時的測定條件如下。該測定條件為通常的定影裝置的耐久性評價中充分的加速條件(比通常的定影裝置更為嚴酷的條件)。

·對偶材料：KAPTON-H(註冊商標)(美國杜邦公司製造)

·試驗荷重：10kgf(5kg/cm2)

·滑動速度：首先，試驗開始時以0.020m/s(20mm/s)的速度，一邊使對偶材料相對於低摩擦片滑動，一邊測定初期動摩擦係數。接著，從試驗開始時起，至10分鐘後的下一次測定開始時為止，以0.500m/s(500mm/s)的速度，使對偶材料相對於低摩擦片滑動。接著，從試驗開始10分鐘時起，以0.020m/s(20mm/s)的速度，一邊使對偶材料相對於低摩擦片滑動，一邊測定10分鐘後的動摩擦係數。接著，從試驗開始時起，至100分鐘後的下一次測定開始時為止，以0.500m/s(500mm/s)的速度，使對偶材料相對於低摩擦片滑動。最後，從試驗開始經過100分鐘的時間點起，以0.020m/s(20mm/s)的速度，一邊使對偶材料滑動，一邊測定100分鐘後的動摩擦係數。

·潤滑劑：スミテックF943(日本住礦株式會社制)

(5)綜合評價

對於本實施例以及以下後續的實施例和比較例，基於以下表1所示的評價標準進行綜合評價，本實施例所涉及的低摩擦片的綜合評價為「A」。

實施例2

在「(2)含有不同粒徑的氟樹脂顆粒的聚醯亞胺前體溶液的製備」中，除了將中值粒徑0.3μm的PTFE粉末替換為中值粒徑1.0μm的PTFE粉末以外，與實施例1一樣操作，得到低摩擦片，測定其特性。

通過本實施例得到的低摩擦片的厚度為40μm，表面粗糙度Rsk為1.236，PTFE的表面露出率為57.5％。同時，動摩擦係數測定初期的動摩擦係數為0.0642，測定開始時起10分鐘後的動摩擦係數為0.0612，測定開始時起100分鐘後的動摩擦係數為0.0603。同時，10分鐘後的動摩擦係數的變化率為95.3％，100分鐘後的動摩擦係數的變化率為93.9％。並且，上述低摩擦片的綜合評價為「A」。

實施例3

在「(2)含有不同粒徑的氟樹脂顆粒的聚醯亞胺前體溶液的製備」中，除了將中值粒徑0.3μm的PTFE粉末添加至聚醯亞胺前體溶液，使相對於最終得到的低摩擦片，中值粒徑0.3μm的PTFE粉末為67.5質量％(45體積％)以外，與實施例1一樣操作，得到低摩擦片，測定其特性。

通過本實施例得到的低摩擦片的厚度為40μm，表面粗糙度Rsk為1.346，PTFE的表面露出率為83.9％。同時，動摩擦係數測定初期的動摩擦係數為0.0651，測定開始時起10分鐘後的動摩擦係數為0.0650，測定開始時起100分鐘後的動摩擦係數為0.0628。同時，10分鐘後的動摩擦係數的變化率為99.8％，100分鐘後的動摩擦係數的變化率為96.5％。並且，上述低摩擦片的綜合評價為「A」。

實施例4

在「(2)含有不同粒徑的氟樹脂顆粒的聚醯亞胺前體溶液的製備」中，除了將中值粒徑40μm的PTFE粉末替換為中值粒徑19.5μm的PTFE粉末以外，與實施例1一樣操作，得到低摩擦片，測定其特性。

通過本實施例得到的低摩擦片的厚度為20μm，表面粗糙度Rsk為0.966，PTFE的表面露出率為67.3％。同時，動摩擦係數測定初期的動摩擦係數為0.0673，測定開始時起10分鐘後的動摩擦係數為0.0649，測定開始時起100分鐘後的動摩擦係數為0.0534。同時，10分鐘後的動摩擦係數的變化率為96.4％，100分鐘後的動摩擦係數的變化率為79.3％。並且，上述低摩擦片的綜合評價為「A」。

實施例5

在「(2)含有不同粒徑的氟樹脂顆粒的聚醯亞胺前體溶液的製備」中，除了將中值粒徑0.3μm的PTFE粉末添加至聚醯亞胺前體溶液，使相對於最終得到的低摩擦片，中值粒徑0.3μm的PTFE粉末為30質量％(22體積％)以外，與實施例1一樣操作，得到低摩擦片，測定其特性。

通過本實施例得到的低摩擦片的厚度為40μm，表面粗糙度Rsk為1.223，PTFE的表面露出率為46.8％。同時，動摩擦係數測定初期的動摩擦係數為0.0685，測定開始時起10分鐘後的動摩擦係數為0.0664，測定開始時起100分鐘後的動摩擦係數為0.0631。同時，10分鐘後的動摩擦係數的變化率為96.9％，100分鐘後的動摩擦係數的變化率為92.1％。並且，上述低摩擦片的綜合評價為「A」。

實施例6

在「(2)含有不同粒徑的氟樹脂顆粒的聚醯亞胺前體溶液的製備」中，除了將中值粒徑0.3μm的PTFE粉末添加至聚醯亞胺前體溶液，使相對於最終得到的低摩擦片，中值粒徑0.3μm的PTFE粉末為45質量％(30體積％)，替換為將中值粒徑6.2μm的PTFE粉末添加至聚醯亞胺前體溶液，使相對於最終得到的低摩擦片，中值粒徑6.2μm的PTFE粉末為60質量％(40體積％)以外，與實施例1一樣操作，得到低摩擦片，測定其特性。

通過本實施例得到的低摩擦片的厚度為40μm，表面粗糙度Rsk為1.332，PTFE的表面露出率為39.8％。同時，動摩擦係數測定初期的動摩擦係數為0.0799，測定開始時起10分鐘後的動摩擦係數位0.0786，測定開始時起100分鐘後的動摩擦係數為0.0782。同時，10分鐘後的動摩擦係數的變化率為98.4％，100分鐘後的動摩擦係數的變化率為97.9％。並且，上述低摩擦片的綜合評價為「A」。

實施例7

在「(2)含有不同粒徑的氟樹脂顆粒的聚醯亞胺前體溶液的製備」中，除了將中值粒徑0.3μm的PTFE粉末添加至聚醯亞胺前體溶液，使相對於最終得到的低摩擦片，中值粒徑0.3μm的PTFE粉末為45質量％(30體積％)，替換為將中值粒徑3.5μm的PTFE粉末添加至聚醯亞胺前體溶液，使相對於最終得到的低摩擦片，中值粒徑3.5μm的PTFE粉末為67.5質量％(45體積％)以外，與實施例1一樣操作，得到低摩擦片，測定其特性。

通過本實施例得到的低摩擦片的厚度為40μm，表面粗糙度Rsk為1.430，PTFE的表面露出率為80.1％。同時，動摩擦係數測定初期的動摩擦係數為0.0669，測定開始時起10分鐘後的動摩擦係數為0.0672，測定開始時起100分鐘後的動摩擦係數為0.0656。同時，10分鐘後的動摩擦係數的變化率為100.4％，100分鐘後的動摩擦係數的變化率為98.1％。並且，上述低摩擦片的綜合評價為「B」。

實施例8

在「(2)含有不同粒徑的氟樹脂顆粒的聚醯亞胺前體溶液的製備」中，將中值粒徑40.0μm的PTFE粉末添加至聚醯亞胺前體溶液，使相對於最終得到的低摩擦片，中值粒徑40.0μm的PTFE粉末為13.6質量％(10體積％)，進一步地，將中值粒徑0.3μm的PTFE粉末添加至聚醯亞胺前體溶液，使相對於最終得到的低摩擦片，中值粒徑0.3μm的PTFE粉末為45質量％(30體積％)替換為將中值粒徑1.0μm的PTFE粉末添加至聚醯亞胺前體溶液，使相對於最終得到的低摩擦片，中值粒徑1.0μm的PTFE粉末為30質量％(22體積％)以外，與實施例1一樣操作，得到低摩擦片，測定其特性。

通過本實施例得到的低摩擦片的厚度為40μm，表面粗糙度Rsk為2.215，PTFE的表面露出率為45.5％。同時，動摩擦係數測定初期的動摩擦係數為0.0740，測定開始時起10分鐘後的動摩擦係數為0.0743，測定開始時起100分鐘後的動摩擦係數為0.0670。同時，10分鐘後的動摩擦係數的變化率為100.4％，100分鐘後的動摩擦係數的變化率為90.5％。並且，上述低摩擦片的綜合評價為「B」。

實施例9

在「(2)含有不同粒徑的氟樹脂顆粒的聚醯亞胺前體溶液的製備」中，除了將中值粒徑40.0μm的PTFE粉末添加至聚醯亞胺前體溶液，使相對於最終得到的低摩擦片，中值粒徑40.0μm的PTFE粉末為13.6質量％(10體積％)，以此方式將上述PTFE粉末添加至聚醯亞胺前體溶液，並且進一步地將中值粒徑0.3μm的PTFE粉末替換為中值粒徑1.0μm的PTFE粉末以外，與實施例1一樣操作，得到低摩擦片，測定其特性。

通過本實施例得到的低摩擦片的厚度為40μm，表面粗糙度Rsk為2.398，PTFE的表面露出率為57.5％。同時，動摩擦係數測定初期的動摩擦係數為0.0635，測定開始時起10分鐘後的動摩擦係數為0.0676，測定開始時起100分鐘後的動摩擦係數為0.0686。同時，10分鐘後的動摩擦係數的變化率為106.5％，100分鐘後的動摩擦係數的變化率為108.0％。並且，上述低摩擦片的綜合評價為「B」。

實施例10

在「(2)含有不同粒徑的氟樹脂顆粒的聚醯亞胺前體溶液的製備」中，除了將中值粒徑0.3μm的PTFE粉末添加至聚醯亞胺前體溶液，使相對於最終得到的低摩擦片，中值粒徑0.3μm的PTFE粉末為75質量％(50體積％)以外，與實施例1一樣操作，得到低摩擦片，測定其特性。

通過本實施例得到的低摩擦片的厚度為40μm，表面粗糙度Rsk為1.506，PTFE的表面露出率為89.5％。同時，動摩擦係數測定初期的動摩擦係數為0.0708，測定開始時起10分鐘後的動摩擦係數為0.0728，測定開始時起100分鐘後的動摩擦係數為0.0742。同時，10分鐘後的動摩擦係數的變化率為102.8％，100分鐘後的動摩擦係數的變化率為104.8％。並且，上述低摩擦片的綜合評價為「B」。

實施例11

在「(2)含有不同粒徑的氟樹脂顆粒的聚醯亞胺前體溶液的製備」中，除了將中值粒徑40.0μm的PTFE粉末添加至聚醯亞胺前體溶液，使相對於最終得到的低摩擦片，中值粒徑40.0μm的PTFE粉末為30質量％(22體積％)，替換為將中值粒徑10.0μm的PTFE粉末添加至聚醯亞胺前體溶液，使相對於最終得到的低摩擦片，中值粒徑10.0μm的PTFE粉末為13.6質量％(10體積％)，進一步地，將中值粒徑0.3μm的PTFE粉末添加至聚醯亞胺前體溶液，使相對於最終得到的低摩擦片，中值粒徑0.3μm的PTFE粉末為30質量％(22體積％)以外，與實施例1一樣操作，得到低摩擦片，測定其特性。

通過本實施例得到的低摩擦片的厚度為10μm，表面粗糙度Rsk為2.380，PTFE的表面露出率為44.6％。同時，動摩擦係數測定初期的動摩擦係數為0.0745，測定開始時起10分鐘後的動摩擦係數為0.0743，測定開始時起100分鐘後的動摩擦係數為0.0744。同時，10分鐘後的動摩擦係數的變化率為99.7％，100分鐘後的動摩擦係數的變化率99.9％。並且，上述低摩擦片的綜合評價為「B」。

實施例12

在「(2)含有不同粒徑的氟樹脂顆粒的聚醯亞胺前體溶液的製備」中，除了將中值粒徑0.3μm的PTFE粉末添加至聚醯亞胺前體溶液，使相對於最終得到的低摩擦片，中值粒徑0.3μm的PTFE粉末為45質量％(30體積％)，替換為將中值粒徑6.2μm的PTFE粉末添加至聚醯亞胺前體溶液，使相對於最終得到的低摩擦片，中值粒徑6.2μm的PTFE為30質量％(22體積％)以外，與實施例1一樣操作，得到低摩擦片，測定其特性。

通過本實施例得到的低摩擦片的厚度為40μm，表面粗糙度Rsk為2.287，PTFE的表面露出率為28.6％。同時，動摩擦係數測定初期的動摩擦係數為0.0823，測定開始時起10分鐘後的動摩擦係數為0.0834，測定開始時起100分鐘後的動摩擦係數為0.0824。同時，10分鐘後的動摩擦係數的變化率為101.3％，100分鐘後的動摩擦係數的變化率為100.1％。並且，同低摩擦的綜合評價為「C」。

實施例13

在「(2)含有不同粒徑的氟樹脂顆粒的聚醯亞胺前體溶液的製備」中，除了將中值粒徑0.3μm的PTFE粉末替換為中值粒徑6.2μm的PTFE粉末以外，與實施例1一樣操作，得到低摩擦片，測定其特性。

通過本實施例得到的低摩擦片的厚度為40μm，表面粗糙度Rsk為1.500，PTFE的表面露出率為33.0％。同時，動摩擦係數測定初期的動摩擦係數為0.0820，測定開始時起10分鐘後的動摩擦係數為0.0843，測定開始時起100分鐘後的動摩擦係數為0.0831。同時，10分鐘後的動摩擦係數的變化率為102.8％，100分鐘後的動摩擦係數的變化率為101.3％。並且，同低摩擦的綜合評價為「C」。

實施例14

在「(2)含有不同粒徑的氟樹脂顆粒的聚醯亞胺前體溶液的製備」中，除了將中值粒徑0.3μm的PTFE粉末添加至聚醯亞胺前體溶液，使相對於最終得到的低摩擦片，中值粒徑0.3μm的PTFE粉末為13.6質量％(10體積％)以外，與實施例1一樣操作，得到低摩擦片，測定其特性。

通過本實施例得到的低摩擦片的厚度為40μm，表面粗糙度Rsk為1.106，PTFE的表面露出率為19.4％。同時，動摩擦係數測定初期的動摩擦係數為0.0847，測定開始時起10分鐘後的動摩擦係數為0.0847，測定開始時起100分鐘後的動摩擦係數為0.0850。同時，10分鐘後的動摩擦係數的變化率為100.0％，100分鐘後的動摩擦係數的變化率為100.4％。並且，同低摩擦的綜合評價為「C」。

實施例15

在「(2)含有不同粒徑的氟樹脂顆粒的聚醯亞胺前體溶液的製備」中，除了將中值粒徑0.3μm的PTFE粉末添加至聚醯亞胺前體溶液，使相對於最終得到的低摩擦片，中值粒徑0.3μm的PTFE粉末為45質量％(30體積％)，替換為將中值粒徑3.5μm的PTFE粉末添加至聚醯亞胺前體溶液，使相對於最終得到的低摩擦片，中值粒徑3.5μm的PTFE粉末為13.6質量％(10體積％)以外，與實施例1一樣操作，得到低摩擦片，測定其特性。

通過本實施例得到的低摩擦片的厚度為40μm，表面粗糙度Rsk為1.190，PTFE的表面露出率為18.4％。同時，動摩擦係數測定初期的動摩擦係數為0.0923，測定開始時起10分鐘後的動摩擦係數為0.0911，測定開始時起100分鐘後的動摩擦係數為0.0921。同時，10分鐘後的動摩擦係數的變化率為98.7％，100分鐘後的動摩擦係數的變化率99.8％。並且，同低摩擦的綜合評價為「C」。

實施例16

在「(2)含有不同粒徑的氟樹脂顆粒的聚醯亞胺前體溶液的製備」中，除了將中值粒徑40.0μm的PTFE粉末替換為中值粒徑100.0μm的PTFE粉末，進一步地，將中值粒徑0.3μm的PTFE粉末添加至聚醯亞胺前體溶液，使相對於最終得到的低摩擦片，中值粒徑0.3μm的PTFE粉末為45質量％(30體積％)替換為將中值粒徑3.0μm的PTFE粉末添加至聚醯亞胺前體溶液，使相對於最終得到的低摩擦片，中值粒徑3.0μm的PTFE粉末為13.6質量％(10體積％)以外，與實施例1一樣操作，得到低摩擦片，測定了此特性。

通過本實施例得到的低摩擦片的厚度為195μm，表面粗糙度Rsk為0.530，PTFE的表面露出率為20.6％。同時，動摩擦係數測定初期的動摩擦係數為0.0747，測定開始時起10分鐘後的動摩擦係數為0.0779，測定開始時起100分鐘後的動摩擦係數為0.1600。同時，10分鐘後的動摩擦係數的變化率為104.3％，100分鐘後的動摩擦係數的變化率214.2％。並且，上述低摩擦片的綜合評價為「D」。

比較例1

在「(2)含有不同粒徑的氟樹脂顆粒的聚醯亞胺前體溶液的製備」中，除了不添加中值粒徑40.0μm的PTFE粉末並且將中值粒徑0.3μm的PTFE粉末添加至聚醯亞胺前體溶液，使相對於最終得到的低摩擦片，中值粒徑0.3μm的PTFE粉末為30質量％(22體積％)以外，與實施例1一樣操作，得到低摩擦片，測定其特性。

通過本比較例得到的低摩擦片的厚度為40μm，表面粗糙度Rsk為-0.848，PTFE的表面露出率為39.6％。同時，動摩擦係數測定初期的動摩擦係數為0.1042，測定開始時起10分鐘後的動摩擦係數為0.1074，測定開始時起100分鐘後的動摩擦係數為0.1442。同時，10分鐘後的動摩擦係數的變化率為103.1％，100分鐘後的動摩擦係數的變化率為138.4％。比較例2

在「(2)含有不同粒徑的氟樹脂顆粒的聚醯亞胺前體溶液的製備」中，除了不添加中值粒徑40.0μm的PTFE粉末並且將中值粒徑0.3μm的PTFE粉末替換為中值粒徑1.0μm的PTFE粉末以外，與實施例1一樣操作，得到低摩擦片，測定其特性。

通過本比較例得到的低摩擦片的厚度為40μm，表面粗糙度Rsk為-0.624，PTFE的表面露出率為37.1％。同時，動摩擦係數測定初期的動摩擦係數為0.1084，測定開始時起10分鐘後的動摩擦係數為0.1085，測定開始時起100分鐘後的動摩擦係數為0.1500。同時，10分鐘後的動摩擦係數的變化率為100.1％，100分鐘後的動摩擦係數的變化率為138.4％。

根據上述結果，對於各綜合評價的表面粗糙度Rsk和PTFE的表面露出度，判明似乎具有表3所示的關係。

表3

工業實用性

本發明所涉及的低摩擦構件具有即使較長期使用也不容易失去低摩擦性的特徵，可以利用作為複印機、印表機、傳真機等電子照相裝置的定影裝置的一個構件，特別是介於從管狀膜的內側將管狀膜向配合構件(加壓輥或定影輥等)推壓的推壓構件與其管狀膜之間的滑動性構件。