感光性膜的製造方法、感光性膜、感光性層疊體、永久圖案形成方法及印製電路板的製作方法

2023-06-09 15:11:16

專利名稱：：感光性膜的製造方法、感光性膜、感光性層疊體、永久圖案形成方法及印製電路板的製作方法
技術領域：
：本發明涉及高感度、高解析度，感度的經時穩定性、膜固化性及耐熱衝擊性良好，能夠高效地形成高精細的永久圖案的感光性樹脂組合物、感光性膜、感光性層疊體、永久圖案形成方法及印製電路板。
背景技術：
：隨著電器的小型化、多功能化，目前印製配線板進一步向高密度化的方向發展。例如，導體電路的細線化、高多層化、盲孔、巴立得孔(八'J一卜"*一>)等含有內部導通孔的透孔的小徑化、利用小型晶片部件的表面安裝所進行的高密度安裝等。以往的印製配線板用阻焊劑例如可以舉出在環氧樹脂、環氧基蜜胺樹脂等耐熱性熱固化性樹脂中調合有胺、咪唑、酸酐等熱固化催化劑和丁基溶纖劑、丁基卡必醇等有機溶劑的熱固化型阻焊劑；在丙烯酸酯、甲基丙烯酸酯等聚合性單體上配合環氧基丙烯酸酯、尿烷丙烯酸酯等交聯性聚合物以及苯偶姻乙基醚、二苯甲酮等光增感劑而成的紫外線固化型阻焊劑；組合有上述熱固化型阻焊劑和紫外線固化型阻焊劑所含各成分的雙固化(dualcure)型阻焊劑等。阻焊劑的形成方法例如可以舉出在形成有上述阻焊劑的鍍銅層疊板等的基體上形成由感光性樹脂組合物構成的感光層，對上述感光層進行曝光，該曝光後將上述感光層顯影，製成具有規定圖案的阻焊劑的方法。作為在基體上形成感光層的方法，例如可以舉出利用絲網塗布機、浸塗機、棒塗機等將液狀類型的感光性樹脂組合物塗布形成於基體上的方法。或者，利用由聚酯膜或聚乙烯構成的保護膜將感光性樹脂組合物夾在中間從而製成3層結構的幹膜，利用軋輥層疊機或真空層疊機等將其層疊於基體上製成感光層的方法等。近年來，由於高密度化有所發展、配線密度增高，因此要求搭載部件時阻焊劑表面的平坦化。幹膜型阻焊劑由於可以用真空層疊機等加壓成型、且溶劑揮發所導致的體積收縮小，因此與液狀類型的阻焊劑相比，對平坦化更為有利，因此收到關注。但是，為幹膜型阻焊劑時，當膜製造工序中發生針孔或凹陷等面狀缺陷時，難以通過在基體上的層疊後的工序將該缺陷修復。在固化膜(阻焊劑)上殘留有針孔或凹陷等面狀缺陷的狀態下，由於印製配線板的絕緣可靠性降低，因此如何製造面狀缺陷少的幹膜成為課題。這裡，在日本特公平7-21626號公報中提出了為了形成均一膜厚的感光層，使抗蝕劑組合物中含有表面活性劑的技術方案。但是，日本特公平7-21626號公報所記載的抗蝕劑組合物是為了作為液狀類型塗布於基體上，而非作為幹膜進行利用。另外，當在抗蝕劑組合物中含有表面活性劑時，具有感光層與基體的密合性變差的問題。
發明內容本發明的課題在於解決上述以往的各問題，達成以下目的。S卩，本發明的目的在於提供塗布於基體時的膜厚均一、難易發生針孔或凹陷等面狀缺陷、且與印製配線形成用基板等基體的密合性優異、可高效地形成高精細永久圖案的感光性膜、感光性膜的製造方法、感光性層疊體、永久圖案形成方法及印製電路板。.作為用於解決上述課題的方法如下所述。艮P，一種感光性膜的製造方法，其特徵在於，包括以下工序製備含有感光性樹脂組合物的塗布液的塗布液製備工序，該感光性樹脂組合物中含有i)導入有感光性基團和用於賦予鹼顯影性的酸基的化合物、ii)聚合性化合物、iii)光聚合引發劑；對上述塗布液實施消泡處理的消泡工序；在上述消泡工序後，將上述塗布液塗布於支撐體的塗布工序；使上述塗布液乾燥，在上述支撐體上形成感光層的乾燥工序。如上述<1〉所述的感光性膜的製造方法，其中，消泡處理為超聲波消泡。<3〉如上述〈1〉中任一項所述的感光性膜的製造方法，其中，感光性樹脂組合物還含有iv)熱交聯劑。〈4〉如上述〈1>中任一項所述的感光性膜的製造方法，其中，感光性樹脂組合物還含有V)填充物。〈5〉如上述〈1>中任一項所述的感光性膜的製造方法，其特徵在於，塗布液的粘度為5mPa"s100mPa's。〈6〉如上述〈5〉所述的感光性膜的製造方法，其特徵在於，塗布液的粘度為lOmPa.s50mPa's。〈7〉一種感光性膜，其為利用上述〈1〉〈6〉中任一項所述的製造方法製作的感光性膜，其特徵在於，其為長條狀，被巻繞成輥狀而成。〈8〉一種感光性層疊體，其為具備基體和設置於上述基體上的感光層的感光性層疊體，其特徵在於，上述感光層是由利用上述〈1〉〈6〉中任一項所述的製造方法製得的感光性膜轉印而成得感光層。〈9〉一種永久圖案形成方法，其特徵在於，至少包括對上述〈8〉所述的感光性層疊體中的感光層進行曝光的曝光工序。〈10〉一種印製電路板，其特徵在於，具備通過上述〈9〉所述的永久圖案形成方法形成的永久圖案。通過本發明，可以解決上述以往的各問題，達到上述目的，能夠提供塗布於基體時的膜厚均一、難以產生針孔或凹陷等面狀缺陷、且與印製配線形成用基板等基體的密合性優異、可高效地形成高精細的永久圖案的感光性膜、感光性膜的製造方法、感光性層疊體、永久圖案形成方法及印製電路板。具體實施例方式(感光性膜的製造方法)本發明的感光性膜的製造方法至少包括塗布液製備工序、消泡工序、塗布工序、乾燥工序，進而還含有根據需要適當選擇的其他工序。〈塗布液製備工序〉上述塗布液製備工序為製備後述的含有感光性樹脂組合物的塗布液的工序。作為製備上述塗布液的方法並無特別限定，可以根據目的適當選擇，例如可以舉出將上述感光性樹脂組合物溶解於水或有機溶劑等溶劑中，使其乳化或分散的方法。另外，還可添加公知的表面活性劑。上述溶劑並無特別限定，可以根據目的適當選擇。可以舉出甲乙酮、環己酮等酮類；甲苯、二甲苯、四甲基苯等芳香族烴類；甲基溶纖劑、丁基溶纖劑、甲基卡必醇、丁基卡必醇、丙二醇單甲基醚、雙丙甘醇單乙基醚、三甘醇單乙基醚等二醇醚類；醋酸乙酯、醋酸丁酯及上述二醇醚類的醋酸酯化物等酯類；乙醇、丙醇、乙二醇、丙二醇等醇類；石油醚、石油腦、加氫石油腦、溶劑油等石油系溶劑，，但並非限定於此。上述塗布液的粘度並無特別限定，可根據目的適當選擇。例如優選為5mPa"s100mPa"s、10mPa"s50mPa"s。-感光性樹脂組合物-上述感光性樹脂組合物至少含有i)導入有感光性基團和用於賦予鹼顯影性的酸基的化合物(粘合劑)、ii)聚合性化合物、iii)光聚合引發劑，進而根據需要含有iv)熱交聯劑、v)填充物等其他成分而成。一粘合劑一上述粘合劑只要是導入有感光性基團和用於賦予鹼顯影性的酸基的化合物則無特別限定，可根據目的適當選擇，例如可以舉出使具有2個以上環氧基的環氧樹脂和不飽和(甲基)丙烯酸反應後進而使之與多元酸酐反應所得的聚合物；將(甲基)丙烯酸縮水甘油酯附加於由(甲基)丙烯酸酯和含有不飽和基團且具有至少1個酸基化合物所獲得的共聚物的一部分酸基後的改性共聚物；通過含羧基的(甲基)丙烯酸系共聚樹脂和脂環式含環氧基的不飽和化合物的反應所得的聚合物等。其中，由於將感光性樹脂組合物幹膜化、製成感光層時，皺褶性低，因此優選將(甲基)丙烯酸縮水甘油酯附加於由(甲基)丙烯酸酯和含有不飽和基團且具有至少1個酸基化合物所獲得的共聚物的一部分酸基後的改性共聚物。上述粘合劑在上述感光性樹脂組合物固形成分中的固形成分含量優選為580質量％、更優選為3060質量％。該固形成分含量為5質量％以上時，顯影性、曝光感度變得良好，為80質量％以下時，可以防止感光層的粘合性變得過強。—聚合性化合物一上述聚合性化合物並無特別限定，可以根據目的適當選擇，例如優選具有1個以上乙烯性不飽和鍵的化合物。上述乙烯性不飽和鍵例如可以舉出(甲基)丙烯醯基、(甲基)丙烯醯胺基、苯乙烯基、乙烯基酯或乙烯基醚等乙烯基、烯丙基醚或烯丙基酯等烯丙基等。具有1個以上上述乙烯性不飽和鍵的化合物並無特別限定，可根據目的適當選擇，例如可優選地舉出選自具有(甲基)丙烯酸基的單體的至少l禾中。上述具有(甲基)丙烯酸基的單體並無特別限定，可以根據目的適當選擇，例如可以舉出聚乙二醇單(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇單(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸苯氧基乙酯等單官能丙烯酸酯或單官能甲基丙烯酸酯；聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基乙垸三丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三丙烯酸酯、三羥甲基丙垸二丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、己二醇二(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三(丙烯醯氧基丙基)醚、三(丙烯醯氧基乙基)異氰酸酯、三(丙烯醯氧基乙基)氰酸酯、甘油三(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙垸或在甘油、雙苯酚等多官能醇上加成反應氧化乙烯或氧化丙烯後進行(甲基)丙烯酸酯化的產物、日本特公昭48-41708號、日本特公昭50-6034號、日本特開昭51-37193號等各公報所記載的尿烷丙烯酸酯類;日本特開昭48-64183號、日本特公昭49-43191號、日本特公昭52-30490號等各公報所記載的聚酯丙烯酸酯類；作為環氧樹脂和(甲基)丙烯酸的反應產物的環氧基丙烯酸酯類等多官能丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯等。其中，特別優選為三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯。上述聚合性化合物在上述感光性樹脂組合物固形成分中的固形成分含量優選為550質量％、更優選為1040質量％。該固形成分含量為5質量％以上時，顯影性、曝光感度變得良好，為50質量％以下時，可以防止感光層的粘合性變得過強。一光聚合引發劑一上述光聚合引發劑只要具有引發上述聚合性化合物的聚合的能力，則無特別限定，可以根據目的適當選擇，例如優選相對於紫外線區域可見區域的光線具有感光性，可以是與光激發的增感劑發生任何作用、產生活性自由基的活性劑，還可以是對應單體的種類引發陽離子聚合的引發劑。上述光聚合引發劑優選含有至少1種在波長約300800nm範圍內具有至少約50的分子吸光係數的成分。上述波長更優選為330500nm。上述光聚合引發劑例如可以舉出滷化烴衍生物(例如具有三嗪骨架的、具有噁二唑骨架的等)、六芳基雙咪唑、肟衍生物、有機過氧化物、硫化合物、酮化合物、芳香族鐵鹽、金屬茂類等。其中，從感光層的感度、保存性及感光層與印製配線板形成用基板的密合性等觀點出發，優選具有三嗪骨架的滷化烴、肟衍生物、酮化合物、六芳基雙咪唑系化合物。上述六芳基雙咪唑例如可以舉出2，2，-雙(2-氯苯基)-4，4，，5，5，-四苯基雙咪唑、2，2，-雙(o-氟苯基)-4，4，，5，5，-四苯基雙咪唑、2，2，-雙(2-溴苯基)-4，4，，5，5，-四苯基雙咪唑、2，2，-雙(2，4-二氯苯基)-4，4，，5，5，-四苯基雙咪唑、2，2，-雙(2-氯苯基)-4，4，，5，5，-四(3-甲氧基苯基)雙咪唑、2，2，-雙(2-氯苯基)-4，4，，5，5，-四(4-甲氧基苯基)雙咪唑、2，2，-雙(4_甲氧基苯基)-4，4，，5，5，-四苯基雙咪唑、2，2，-雙(2，4-二氯苯基)-4，4，，5，5，-四苯基雙咪唑、2，2，-雙(2-硝基苯基)-4，4，，5，5，-四苯基雙咪唑、2，2，-雙(2-甲基苯基)-4，4，，5，5，-四苯基雙咪唑、2，2，-雙(2-三氟甲基苯基)-4，4，，5，5，-四苯基雙咪唑、WO00/52529號公報所記載的化合物等。上述雙咪唑類例如可以通過Bull.Chem.Soc.Japan,33，565(1960)及J.Org.Chem，36(16)2262(1971)所公開的方法容易地合成。作為具有三嗪骨架的滷化烴化合物，例如可以舉出若林等著Bull.Chem.Soc.Japan,42、2924(1969)記載的化合物、英國專利1388492號說明書記載的化合物、日本特開昭53-133428號公報記載的化合物、德國專利3337024號說明書記載的化合物、F.C.Schaefer等的J.Org.Chem.;29、1527(1964)記載的化合物、日本特開昭62-58241號公報記載的化合物、日本特開平5-281728號公報記載的化合物、日本特開平5-34920號公報記載的化合物、美國專利第4212976號說明書所記載的化合物等。作為上述若林等著Bull.Chem.Soc.Japan,42、2924(1969)記載的化合物，例如可以舉出2-苯基-4，6-雙(三氯甲基)-1，3，5-三嗪、2-(4-氯苯基)-4，6-雙(三氯甲基)-1，3，5-三嗪、2-(4-甲苯基)-4，6-雙(三氯甲基)-1，3，5-三嗪、2-(4-甲氧基苯基)-4，6-雙(三氯甲基)-1，3，5-三嗪、2-(2，4-二氯苯基)-4，6-雙(三氯甲基)-l，3，5-三嗪、2，4，6-三(三氯甲基)-1，3，5-三嗪、2-甲基-4，6_雙(三氯甲基)-1，3，5-三嗪、2-正壬基-4，6-雙(三氯甲基)-1，3，5-三嗪及2-(a，a，3-三氯乙基)-4，6-雙(三氯甲基)-1，3，5-三嗪等。作為上述英國專利1388492號說明書記載的化合物，例如可以舉出2-苯乙烯基-4，6-雙(三氯甲基)-1，3，5-三嗪、2-(4-甲基苯乙烯基)-4，6-雙(三氯甲基)-1，3，5-三嗪、2-(4-甲氧基苯乙烯基)-4，6-雙(三氯甲基)-1，3,5-三嗪、2-(4-甲氧基苯乙烯基)-4-氨基-6-三氯甲基-1，3，5-三嗪等。作為上述日本特開昭53-133428號公報記載的化合物，例如可以舉出2-(4—甲氧基-萘—卜基)-4，6—雙(三氯甲基)-1，3，5-三嗪、2-(4-乙氧基-萘-1-基)-4，6-雙(三氯甲基)-1，3，5-三嗪、2-(4-(2-乙氧基乙基)-萘-1-基)-4，6-雙(三氯甲基)-1，3，5-三嗪、2-(4，7-二甲氧基-萘-1-基)-4，6-雙(三氯甲基)-1，3，5-三嗪及2-(苊-5_基)-4，6-雙(三氯甲基)-1,3，5-三嗪等。作為上述德國專利3337024號說明書記載的化合物，例如可以舉出2-(4-苯乙烯基苯基)-4、6-雙(三氯甲基)-1，3，5_三嗪、2-(4-(4-甲氧基苯乙烯基)苯基)-4、6-雙(三氯甲基)-1，3，5_三嗪、2-(l-萘基亞乙烯基苯基)-4、6-雙(三氯甲基)-1，3，5-三嗪、2-氯苯乙烯基苯基-4，6-雙(三氯甲基)-1，3，5-三嗪、2-(4-噻吩-2-亞乙烯基苯基)-4，6-雙(三氯甲基)-1，3，5-三嗪、2-(4-噻吩-3-亞乙烯基苯基)-4，6-雙(三氯甲基)-1，3，5-三嗪、2-(4-呋喃-2-亞乙烯基苯基)-4，6-雙(三氯甲基)-1，3，5-三嗉及2-(4-苯並呋喃-2-亞乙烯基苯基)-4，6-雙(三氯甲基)-1，3，5-三嗪等。作為上述F.C.Schaefer等的J.Org.Chem.;29、1527(1964)記載的化合物，例如可以舉出2-甲基-4，6-雙(三溴甲基)-1，3,5-三嗪、2，4，6-三(三溴甲基)-1，3，5-三嗪、2，4，6-三(二溴甲基)-1，3，5-三嗪、2-氨基-4-甲基-6-三(溴甲基)-1，3，5-三嗪及2-甲氧基-4-甲基-6_三氯甲基-1，3，5-三嗪等。作為上述日本特開昭62-58241號公報記載的化合物，例如可以舉出2-(4-苯基乙炔基苯基)-4，6-雙(三氯甲基)-1，3，5-三嗪、2-(4-萘基-l-乙炔基苯基-4，6-雙(三氯甲基)-1，3，5-三嗪、2-(4-(4-甲苯基乙炔基)苯基)-4，6-雙(三氯甲基)-1，3，5-三嗪、2-(4-(4-甲氧基苯基)乙炔基苯基)-4，6-雙(三氯甲基)-1，3,5-三嗪、2-(4-(4-異丙基苯基乙炔基)苯基)-4，6-雙(三氯甲基)-1，3，5-三嗪、2-(4-(4-乙基苯基乙炔基)苯基)-4，6-雙(三氯甲基)-1，3，5-三嗪等。作為上述日本特開平5-281728號公報記載的化合物，例如可以舉出2-(4-三氟甲基苯基)-4，6-雙(三氯甲基)-1,3，5-三嗪、2-(2，6-二氟苯基)-4，6-雙(三氯甲基)-1，3，5-三嗪、2-(2，6-二氯苯基)-4，6-雙(三氯甲基)-1，3，5-三嗪、2_(2，6-二溴苯基)-4，6-雙(三氯甲基)-1，3，5-三嗪等。作為上述日本特開平5-34920號公報記載的化合物，例如可以舉出2，4-雙(三氯甲基)-6-[4-(N，N-二乙氧基羰基甲基氨基)-3-溴苯基]-1，3，5-三嗪、美國專利第4239850號說明書所記載的三滷甲基-s-三嗪化合物、2，4，6-三(三氯甲基)-s-三嗪、2-(4-氯苯基)-4，6-雙(三溴甲基)-s-三嗪等。作為上述美國專利第4212976號說明書所記載的化合物，例如可以舉出具有噁二唑骨架的化合物(例如2-三氯甲基-5-苯基-1，3，4-噁二唑、2-三氯甲基-5-(4-氯苯基)-1，3，4-噁二唑、2-三氯甲基-5-(1-萘基)-l，3，4-噁二唑、2-三氯甲基-5-(2-萘基)-1，3，4-噁二唑、2_三溴甲基-5-苯基-1，3，4-噁二唑、2-三溴甲基-5-(2-萘基)-1，3，4-噁二唑；2-三氯甲基-5-苯乙烯基-l，3，4-噁二唑、2-三氯甲基-5-(4-氯苯乙烯基)-1，3，4-噁二唑、2-三氯甲基-5-(4-甲氧基苯乙烯基)-1，3，4-噁二唑、2-三氯甲基-5-(1-萘基)-1，3，4-噁二唑、2-三氯甲基-5-(4-正丁氧基苯乙烯基)-1，3，4-噁二唑、2-三溴甲基-5-苯乙烯基-1，3，4-噁二唑等)等。作為本發明中優選使用的肟衍生物例如用下述通式(1)表示。上述通式(1)中R'表示氫原子、可具有取代基的醯基、烷氧基羰基、芳氧基羰基、垸基磺醯基及芳基磺醯基的任一者，R2各自獨立地表示取代基。m表示04的整數，為2以上時，還可相互連接形成環。A表示4、5、6及7元環的任一者。另外，A優選為5及6元環的任一者。另外，本發明中使用的肟衍生物(肟化合物)更優選用下述通式(2)上述通式(2)中，Ri表示氫原子、可具有取代基的醯基、烷氧基羰基、芳氧基羰基、烷基磺醯基及芳基磺醯基的任一者，R2各自獨立地表示取代基。m表示04的整數，為2以上時，還可相互連接形成環。X表示CH2、O及S的任一者。A表示5及6元環的任一者。上述通式(1)及(2)中，R'所示的醯基可以是脂肪族、芳香族及雜環的任一者，還可具有取代基。脂肪族基可以舉出乙醯基、丙醯基、丁醯基、己醯基、癸醯基、苯氧基乙醯基、氯乙醯基等。芳香族基可以舉出苯甲醯基、萘醯基、甲氧基苯甲醯基、硝基苯甲醯基等。雜環基可以舉出呋喃醯基(7，7<A)、硫苯醯基(千才7二7O)等。取代基優選烷氧基、芳氧基及滷原子的任一者。醯基優選總碳原子數為230者、更優選總碳原子數為220者、特別優選總碳原子數為216者。這種醯基例如可以舉出乙醯基、丙醯基、甲基丙醯基、丁醯基、特戊醯基、己醯基、環己烷羰基、辛醯基、癸醯基、十二烷醯基、十八烷醯基、苄基羰基、苯氧基乙醯基、2-乙基己醯基、氯乙醯基、苯甲醯基、對甲氧基苯甲醯基、2，5-二丁氧基苯甲醯基、l-萘醯基、2-萘醯基、吡啶基羰基、甲基丙烯醯基、丙烯醯基等。烷氧基羰基可以具有取代基，優選總碳原子數為230的烷氧基羰基、更優選總碳原子數為220者、特別優選總碳原子數為216者。這種烷氧基羰基例如可以舉出甲氧基羰基、乙氧基羰基、異丙氧基羰基丁氧基羰基、異丁氧基羰基、烯丙基氧基羰基、辛氧基羰基、十二烷氧基羰基、乙氧基乙氧基羰基。芳氧基羰基可以具有取代基，優選總碳原子數為730的垸氧基羰基、更優選總碳原子數為720者、特別優選總碳原子數為716者。這種芳氧基羰基例如可以舉出苯氧基羰基、2-萘氧基羰基、對甲氧基苯氧基羰基、2，5-二乙氧基苯氧基羰基、對氯苯氧基羰基、對硝基苯氧基羰基、對氰基苯氧基羰基。烷基磺醯基可具有取代基。該取代基例如優選地舉出苯基、滷原子、烷氧基、芳氧基、垸氧基羰基、醯氧基、醯氨基、氨基甲醯基、氰基、羧酸基、磺酸基、雜環基。垸基磺醯基特別優選地舉出甲基磺醯基、丁基磺醯基、辛基磺醯基、癸基磺醯基、十二垸基磺醯基、苄基磺醯基、三氟甲基磺醯基。芳基磺醯基可具有取代基。該取代基例如優選地舉出苯基、滷原子、垸氧基、芳氧基、垸氧基羰基、醯氧基、醯氨基、氨基甲醯基、氰基、羧酸基、磺酸基、雜環基。芳基磺醯基特別優選地舉出苯磺醯基、甲苯磺醯基、氯苯磺醯基、丁氧基苯磺醯基、2，5-二丁氧基苯磺醯基、對硝基苯磺醯基、全氟苯磺醯基。上述通式(1)及(2)中，R2所示的取代基可以舉出脂肪族、芳香族、雜芳香族、滷原子、-OR3、-SR3、-NR3R4。R3及R4還可相互連接形成環。另外，R3及R4各自獨立地表示氫原子或脂肪族基、芳香族基、雜芳香族基的任一者。m為2以上，相互連接形成環時，各自獨立的R2之間可形成環，還可藉助R3及R4的至少一者形成環。藉助上述取代基R2形成環時，可舉出以下結構。上述結構式中，Y及Z表示CH2、-0-、-S-及-NR-的任一者。R2、R3及R4的脂肪族基、芳香族基及雜芳香族基的具體例可以舉出上述W相同的例子。上述通式(1)所示的肟化合物的具體例可以舉出下述結構式(1)(51)所示的化合物，但本發明並非限定於此。formulaseeoriginaldocumentpage15結構式(29〉結構式(加結構式(31)結構式(32)結構式(33)結構式(34)結構式(35)結構式(36)結構式(37)結構式(3a)結構式(39)結構式(柳結構式(41〉結構式(42)結構式"3)結構式(44)結構式(45)結構式(站)結構式(47)結構式(48)結構式(49)結構式(50)結構式(51)予以說明，本發明中使用的肟化合物可以測定'H-腿R光譜、UV-vis吸收光譜而鑑定。-一肟化合物的製造方法一-上述肟化合物的製造方法通過在對應的肟化合物和醯基氯化物或無水物的鹼(例如三乙基胺、吡啶)的存在下，在THF、DMF、乙腈等惰性溶劑中或者吡啶等鹼性溶劑中反應而容易地合成。上述反應溫度優選為-1060。C。另外，通過使用氯甲酸酯、烷基磺醯氯、芳基磺醯氯作為上述醯基氯化物，可以合成對應的各種肟酯化合物。作為上述肟化合物製造時的起始材料而使用的肟化合物的合成方法可以通過標準化學教科書(例如J.March,AdvancedOrganicChemistry,4thEdition,WileyInterscience，1992)、或專業的專題論文例如S.R.Sandler&W.Karo，Organicfunctionalgrouppreparations,Vol.3，AcademicPress所記載的各種方法而獲得。上述肟化合物的特別優選的合成方法例如可以舉出在乙醇或乙醇水等極性溶劑中使乙醛或酮與羥基胺或其鹽反應的方法。此時，加入乙酸鈉或吡啶等鹼，控制反應混合物的PH。已知反應速度具有pH依存性，鹼可在開始時加入或者反應期間連續地加入。可以使用吡啶等鹼性溶劑作為鹼及/或溶劑或者輔助溶劑。上述反應溫度一般為混合物的回流溫度、即約60120°C。上述肟化合物的其他不同的優選合成方法可以舉出利用亞硝酸或亞硝酸垸基酯的"活性"亞甲基的亞硝基化的方法。例如OrganicSynthesescoll.Vol.VI(J.Wiley&Sons，紐約，1988)，pp.199和840所記載的鹼性條件與例如OrganicSynthesiscoll.Vol.V，pp.32和373，coll.Vol.III，pp.191和513，coll.Vol.II，pp.202，204和363所記載的酸性條件對於作為本發明起始原料使用的肟化合物的合成優選。上述亞硝酸通常由亞硝酸鈉產生。上述亞硝酸垸基酯例如可以舉出亞硝酸甲酯、亞硝酸乙酯、亞硝酸異丙酯、亞硝酸丁酯或亞硝酸異戊酯。上述肟酯的基團可以以2種立體配置(Z)或(E)存在。可以通過常用的方法將異構體分離，還可以將異構體混合物作為光引發用的種子直接使用。因此，本發明的肟化合物可以是上述結構式(1)(51)化合物的立體配置上的異構體的混合物。肟化合物由於保存穩定性優異、高感度，因此通過添加於聚合性組合物，在保存時不會發生聚合，保存穩定性優異，通過能量射線、特別是光的照射產生活性自由基，有效地引發聚合，可獲得該聚合性化合物在短時間內可高效聚合的高感度的聚合性組合物。上述以外的光聚合引發劑可以舉出吖啶衍生物(例如9-苯基吖啶、1，7-雙(9、9'-吖啶基)庚垸等)、N-苯基甘氨酸等、聚滷化合物(例如四溴化碳、苯基三溴甲基碸、苯基三氯甲基酮等)、香豆素類(例如3-(2-苯並呋喃甲醯基)-7-二乙基氨基香豆素、3-(2-苯並呋喃甲醯基)-7-(1-吡咯垸基)香豆素、3-苯甲醯基-7-二乙基氨基香豆素、3-(2-甲氧基苯甲醯基)-7-二乙基氨基香豆素、3-(4-二甲基氨基苯甲醯基)-7-二乙基氨基香豆素、3，3，-羰基雙(5，7-二-正丙氧基香豆素)、3，3，-羰基雙(7-二乙基氨基香豆素)、3-苯甲醯基-7-甲氧基香豆素、3-(2-呋喃甲醯基)-7-二乙基氨基香豆素、3-(4-二乙基氨基苯乙烯醛基)-7-二乙基氨基香豆素、7-甲氧基-3-(3-吡啶基羰基)香豆素、3-苯甲醯基-5，7-二丙氧基香豆素、7-苯並三唑-2-基香豆素或者日本特開平5-19475號、日本特開平7-271028號、日本特開2002-363206號、日本特開2002-363207號、日本特開2002-363208號、日本特開2002-363209號公報等所記載的香豆素化合物等)、胺類(例如4-二甲基氨基苯甲酸乙酯、4-二甲基氨基苯甲酸正丁酯、4-二甲基氨基苯甲酸苯乙酯、4-二甲基氨基苯甲酸2-鄰苯二甲醯亞胺乙酯、4-二甲基氨基苯甲酸2-甲基丙烯醯氧基乙酯、五亞甲基雙(4-二甲基氨基苯甲酸酯)、3-二甲基氨基苯甲酸的苯乙基酯、五亞甲基酯、4-二甲基氨基苯甲醛、2-氯-4-二甲基氨基苯甲醛、4-二甲基氨基苄基醇、乙基(4-二甲基氨基苯甲醯基)乙酸酯、4-哌啶基苯乙酮、4-二甲基氨基苯偶姻、N，N-二甲基-4-甲苯胺、N，N-二乙基-3-苯基噻嗪、三苄基胺、二苄基苯基胺、N-甲基-N-苯基苄基胺、4-溴-N，N-二甲基苯胺、三(十二烷基)胺、氨基熒烷類(0DB，ODBII等)、結晶紫內酯、無色結晶紫等)、醯基氧化膦類(例如雙(2，4，6-三甲基苯甲醯基)-苯基氧化膦、雙(2，6-二甲氧基苯甲醯基)-2，4，4-三甲基-戊基苯基氧化膦、LucirinTPO等)等。進而，還可舉出美國專利第2367660號說明書所記載的連位聚縮酮多尼爾(bicynalpolyketaldonyl)化合物、美國專利第2448828號說明書所記載的偶姻醚化合物、美國專利第2722512號說明書所記載的被ci-烴取代的芳香族偶姻化合物、美國專利第3046127號說明書及美國專利第2951758號說明書所記載的多核醌化合物、日本特開2002-229194號公報所記載的有機硼化合物、自由基產生劑、三芳基鋶鹽(例如與六氟銻或六氟磷酸鹽的鹽)、轔鹽化合物(例如(苯基硫苯基)二苯基鋶鹽等)(作為陽離子聚合引發劑有效)、W001/71428號公報所記載的鑰鹽化合物等。上述光聚合引發劑可以單獨使用1種，還可並用2種以上。作為2種以上的組合，例如可以舉出美國專利第3549367號說明書所記載的六芳基雙咪唑與4-氨基酮類的組合、日本特公昭51-48516號公報所記載的苯並噻唑化合物與三滷甲基-s-三嗪化合物的組合、芳香族酮化合物(例如噻噸酮等)與供氫體(例如含二垸基氨基的化合物、苯酚化合物等)的組合、六芳基雙咪唑與茂鈦的組合、香豆素類與茂鈦與苯基甘氨酸類的組合等。上述光聚合引發劑的特別優選例子可以舉出在後述的曝光中可對應波長405nm雷射的上述膦氧化物類、上述a-氨基烷基酮類、組合有上述具有三嗪骨架的滷化烴化合物和作為後述增感劑的胺化合物的複合光引發劑、六芳基雙咪唑化合物或者茂鈦等。上述光聚合引發劑在上述感光性樹脂組合物中的含量優選為0.130質量％、更優選為0.520質量％、特別優選為O.515質量％。一其他成分一作為上述其他成分並無特別限定，可根據目的適當選擇，例如可以舉出熱交聯劑、填充物、熱固化促進劑、增感劑、熱聚合抑制劑、增塑劑、著色劑(著色顏料或染料)等，進而還可並用對基材表面的密合促進劑及其他的輔助劑類(例如導電性粒子、填充劑、消泡劑、阻燃劑、流平劑、剝離促進劑、抗氧化劑、香料、表面張力調整劑、鏈轉移劑等)。通過適當含有這些成分，可以調整目標感光性膜的穩定性、照片性、膜物性等性質。-一熱交聯劑一-熱交聯劑並無特別限定，可以根據目的適當選擇，為了改良使用上述感光性膜形成的感光層的固化後的膜強度，在不對顯影性等造成不良影響的範圍內，可以使用例如含有環氧基化合物的化合物(例如1分子內具有至少2個環氧乙烷基的環氧基化合物)、1分子內具有至少2個氧雜環丁垸基的氧雜環丁烷化合物，可以舉出日本特開2007-47729號公報所記載的具有環氧乙烷基的環氧基化合物、e位具有烷基的環氧基化合物、具有氧雜環丁烷基的氧雜環丁烷化合物、聚異氰酸酯化合物、使阻滯劑與聚異氰酸酯及其衍生物的異氰酸酯基反應而獲得的化合物等。另外，上述熱交聯劑可以使用蜜胺衍生物。作為該蜜胺衍生物例如可以舉出羥甲基蜜胺、垸基化羥甲基蜜胺(用甲基、乙基、丁基等將羥甲基醚化的化合物)等。這些物質可單獨使用1種，還可並用2種以上。其中，從保存穩定性良好、對提高感光層的表面硬度或固化膜的膜強度本身有效的觀點出發，優選烷基化羥甲基蜜胺、特別優選為六甲基化羥甲基蜜胺。上述熱交聯劑在上述感光性樹脂組合物固形成分中的固形成分含量優選為1質量％50質量％、更優選為3質量％30質量％。該固形成分含量為1質量％以上時，固化膜的膜強度提高，為50質量％以下時，顯影性、曝光感度變得良好。上述環氧基化合物例如可以舉出1分子中具有至少2個環氧乙烷基的環氧基化合物、1分子中含有至少2個P位具有烷基的環氧基的環氧基化合物等。作為上述1分子中具有至少2個環氧乙烷基的環氧基化合物，例如可以舉出對二甲苯酚型或聯苯型環氧樹脂("YX4000日本環氧基l^"^社制"等)或它們的混合物、具有異氰酸酯骨架等的雜環式環氧樹脂("TEPIC;日產化學工業(株)制".、"7，A義、卜PT810;汽巴精化社制"等)、雙酚A型環氧樹脂、清漆型環氧樹脂、雙酚F型環氧樹脂、氫化雙酚A型環氧樹脂、雙酚S型環氧樹脂、酚醛清漆型環氧樹脂、甲酚清漆型環氧樹脂、滷化環氧樹脂(例如低溴化環氧樹脂、高滷化環氧樹脂、溴化酚醛清漆型環氧樹脂等)、含烯丙基的雙酚A型環氧樹脂、三苯酚甲烷型環氧樹脂、二苯基二甲醇型環氧樹脂、苯酚亞聯苯型環氧樹脂、二環戊二烯型環氧樹脂("HP-7200，HP-7200H;大日本油墨化學工業(株)制"等)、縮水甘油基胺型環氧樹脂(二氨基二苯基甲垸型環氧樹脂、二縮水甘油基苯胺、三縮水甘油基氨基苯酚等)、縮水甘油基酯型環氧樹脂(苯二甲酸二縮水甘油基酯、己二酸二縮水甘油基酯、六氫苯二甲酸二縮水甘油基酯、二聚酸二縮水甘油基酯等)乙內醯脲型環氧樹脂、脂環式環氧樹脂(3，4-環氧基環己基甲基-3'，4'-環氧基環己垸羧酸酯、雙(3，4-環氧基環己基甲基)己二酸酯、二環戊二烯二環氧化物、"GT-300、GT-400、ZEHPE3150;大賽璐化學工業制"等)、醯亞胺型脂環式環氧樹脂、三羥基苯基甲垸型環氧樹脂、雙酚A清漆型環氧樹脂、四苯酚基乙烷型環氧樹脂、縮水甘油基苯二甲酸酯樹脂、四縮水甘油基二甲苯酚基乙烷樹脂、含萘基的環氧樹脂(萘酚垸芳基型環氧樹脂、萘酚熱塑型環氧樹脂、4官能萘型環氧樹脂、市售品"ESN-190，ESN-360;新日鐵化學(株)制"、"HP-4032，EXA-4750，EXA-4700;大日本油墨化學工業(株)制"等)、酚化合物與二乙烯基苯或二環戊二烯等二烯烴化合物的加成反應所獲得的聚酚化合物與表氯醇的反應物、用過乙酸等將4-乙烯基環己烯-l-氧化物的開環聚合物環氧基化的物質、具有線狀含磷結構的環氧樹脂、具有環狀含磷結構的環氧樹脂、a-甲基苯乙烯型液晶環氧樹脂、二苯甲醯氧基苯型液晶環氧樹脂、偶氮苯基型液晶環氧樹脂、偶氮甲鹼苯基型液晶環氧樹脂、二萘基型液晶環氧樹脂、嗪型環氧樹脂、甲基丙烯酸縮水甘油酯共聚合系環氧樹脂("CP-50S，CP-50M;日本油脂(株)制"等)、環己基馬來醯亞胺與甲基丙烯酸縮水甘油酯的共聚環氧樹脂、雙(縮水甘油基氧基苯基)芴型環氧樹脂、雙(縮水甘油基氧基苯基)金剛烷型環氧樹脂等，但並非限定於這些。這些環氧樹脂可單獨使用l種，還可並用2種以上。另外，除了l分子中具有至少2個環氧乙烷基的上述環氧基化合物以外，還可使用1分子中含有至少2個在P位具有垸基的環氧基的環氧基化合物，特別優選含有P位被垸基取代的環氧基(更具體地為e-烷基取代縮水甘油基等)的化合物。上述至少含有在3位具有烷基的環氧基的環氧基化合物可以是1分子中所含的2個以上的環氧基全部為e-烷基取代縮水甘油基，還可以是至少1個的環氧基為3-烷基取代縮水甘油基。上述氧雜環丁烷化合物例如可以舉出1分子內具有至少2個氧雜環丁烷基的氧雜環丁垸化合物。具體地說，例如除了雙[(3-甲基-3-氧雜環丁垸基甲氧基)甲基]醚、雙[(3-乙基-3-氧雜環丁垸基甲氧基)甲基]醚、1，4-雙[(3-甲基-3-氧雜環丁烷基甲氧基)甲基]苯、1，4-雙[(3-乙基_3-氧雜環丁垸基甲氧基)甲基]苯、(3-甲基-3-氧雜環丁烷基)甲基丙烯酸酯、(3-乙基-3-氧雜環丁垸基)甲基丙烯酸酯、(3-甲基-3-氧雜環丁烷基)甲基甲基丙烯酸酯、(3-乙基-3-氧雜環丁烷基)甲基甲基丙烯酸酯或它們的寡聚物或共聚物等多官能氧雜環丁垸類之外，還可舉出具有氧雜環丁垸基的化合物與清漆型樹脂、聚(對羥基苯乙烯)、卡路德(cardo)型雙酚類、杯芳烴類、杯間苯二酚芳烴(calixresorcinarene)類、矽倍半氧烷等具有羥基的樹脂等的醚化合物，另外，還可舉出具有氧雜環丁烷環的不飽和單體與垸基(甲基)丙烯酸酯的共聚物等。另外，上述聚異氰酸酯化合物可以使用日本特開平5-9407號公報記載的聚異氰酸酯化合物，該聚異氰酸酯化合物還可以從含有至少2個異氰酸酯基的脂肪族、環式脂肪族或芳香族基取代脂肪族化合物衍生而來。具體地說，可以舉出2官能異氰酸酯(例如1，3-亞苯基二異氰酸酯與1，4-亞苯基二異氰酸酯的混合物、2，4-及2，6-甲苯二異氰酸酯、1，3-及1，4-二甲苯二異氰酸酯、雙(4-異氰酸酯-苯基)甲烷、雙(4-異氰酸酯環己基)甲烷、異佛爾酮二異氰酸酯、六亞甲基二異氰酸酯、三甲基六亞甲基二異氰酸酯等)、該2官能異氰酸酯與三羥甲基丙烷、季戊四醇、甘油等的多官能醇；該多官能醇的氧化烯加成物與上述2官能異氰酸酯的加成體；六亞甲基二異氰酸酯、六亞甲基-1，6-二異氰酸酯及其衍生物等環式三倍體等。使阻滯劑與上述聚異氰酸酯化合物反應而獲得化合物，也就是使阻滯劑與聚異氰酸酯及其衍生物的異氰酸酯基反應而獲得化合物中，作為異氰酸酯基阻滯劑，可以舉出醇類(例如異丙醇、叔丁醇等)、內醯胺類(例如e-己內醯胺等)、酚類(例如、苯酚、甲酚、對-叔丁基苯酚、對-仲丁基苯酚、對-仲戊基苯酚、對辛基苯酚、對壬基苯酚等)、雜環式羥基化合物(例如、3-羥基吡啶、8-羥基喹啉等)、活性亞甲基化合物(例如丙二酸二垸基酯、甲乙酮肟、乙醯丙酮、烷基乙醯乙酸酯肟、丙酮肟、環己酮肟等)等。除此之外，還可使用日本特開平6-295060號公報記載的分子內具有至少1個可聚合的雙鍵和至少1個嵌段異氰酸酯基的任一個的化合物等。上述蜜胺衍生物例如可以舉出羥甲基蜜胺、烷基化羥甲基蜜胺(用甲基、乙基、丁基等將羥甲基醚化的化合物)等。這些物質可以單獨使用1種，還可並用2種以上。其中，從保存穩定性良好、對提高感光層的表面硬度或固化膜的膜強度本身有效的觀點出發，優選垸基化羥甲基蜜胺，特別優選為六甲基化羥甲基蜜胺。—-填充物-一上述感光性樹脂組合物中根據需要為了提高永久圖案的表面硬度、或者將線膨張係數抑制為很低、或者將固化膜本身的介電常數或介電損耗正切抑制為很低，可以添加無機填充物或有機填充物(有機微粒子)。上述無機填充物並無特別限定，可以從公知物質中適當選擇，例如可以舉出高嶺土、硫酸鋇、鈦酸鋇、氧化矽粉、微粉狀氧化矽、氣相法二氧化矽、無定形二氧化矽、結晶性二氧化矽、熔融二氧化矽、球狀二氧化矽、滑石、粘土、碳酸鎂、碳酸鈣、氧化鋁、氫氧化鋁、雲母等。其中，從冷熱衝擊試驗耐性的觀點出發，優選二氧化矽。上述無機填充物的平均粒徑優選小於lOyiiK更優選為3um以下。該平均粒徑小於lOnm日寸，可以防止由於光散射導致的解析度惡化。上述有機填充物並無特別限定，可以根據目的適當選擇，例如可以舉出蜜胺樹脂、苯並胍胺樹脂、交聯聚苯乙烯樹脂等。另外，可以使用平均粒徑0.35um、吸油量100200m7g左右的二氧化矽、交聯樹脂所構成的球狀多孔微粒子等。上述填充物的添加量優選為560質量％。該添加量為5質量％以上時，可以充分地降低線膨脹係數，為60質量％以下時，當在感光層表面形成固化膜時，防止該固化膜的膜質變脆，使用永久圖案形成配線時，可以迴避損害作為配線的保護膜的功能。-一熱固化促進劑一-為了促進作為上述熱交聯劑的環氧基化合物或上述氧雜環丁烷化合物的熱固化，作為熱固化促進劑例如可以使用胺化合物(例如雙氰胍、苄基二甲基胺、4-(二甲基氨基)-N，N-二甲基苄基胺、4-甲氧基-N，N-二甲基苄基胺、4-甲基-N，N-二甲基苄基胺等)、季銨鹽化合物(例如三乙基苄基氯化銨等)、嵌段異氰酸酯化合物(例如二甲基胺等)、咪唑衍生物二環式脒化合物及其鹽(例如咪唑、2-甲基咪唑、2-乙基咪唑、2-乙基-4-甲基咪唑、2-苯基咪唑、4-苯基咪唑、l-氰基乙基-2-苯基咪唑、1-(2-氰基乙基)-2-乙基-4-甲基咪唑等)、磷化合物(例如三苯基膦等)、胍胺化合物(例如蜜胺、胍胺、乙醯胍胺、苯並胍胺等)、S-三嗪衍生物(例如2，4-二氨基-6-甲基丙烯醯氧基乙基-S-三嗪、2-乙烯基-2，4-二氨基-S-三嗪、2-乙烯基-4，6-二氨基-S-三嗪'異氰酸加成物、2，4-二氨基-6-甲基丙烯醯氧基乙基-S-三嗪'異氰酸加成物等)等。這些物質可單獨使用1種，還可並用2種以上。另外，只要是上述環氧樹脂化合物或上述氧雜環丁烷化合物的固化催化劑或者能夠促進它們與羧基的反應的物質則無特別限定，可以使用上述以外的可促進熱固化的化合物。上述環氧基化合物、上述氧雜環丁烷化合物及可促進它們與羧酸的熱固化的熱固化促進劑在上述感光性樹脂組合物固形成分中的固形成分含量通常為0.0115質量％。另外，為了促進作為上述熱交聯劑的環氧基化合物或上述氧雜環丁烷化合物以外的熱交聯劑的熱固化，作為熱固化促進劑例如可以使用胺化合物(例如雙氰胍、苄基二甲基胺、4-(二甲基氨基)-N，N-二甲基苄基胺、4-甲氧基-N，N-二甲基苄基胺、4-甲基-N，N-二甲基苄基胺等)、季銨鹽化合物(例如三乙基苄基氯化銨等)、嵌段異氰酸酯化合物(例如、二甲基胺等)、咪唑衍生物二環式脒化合物及其鹽(例如咪唑、2-甲基咪唑、2-乙基咪唑、2-乙基-4-甲基咪唑、2-苯基咪唑、4-苯基咪唑、1-氰基乙基-2-苯基咪唑、1-(2-氰基乙基)-2-乙基-4-甲基咪唑等)、磷化合物(例如三苯基膦等)、胍胺化合物(例如蜜胺、胍胺、乙醯胍胺、苯並胍胺等)、5-三嗪衍生物(例如2，4-二氨基-6-甲基丙烯醯氧基乙基-S-三嗪、2-乙烯基-2，4-二氨基-S-三嗪、2-乙烯基-4，6-二氨基-S-三嗪'異氰酸加成物、2，4-二氨基-6-甲基丙烯醯氧基乙基-S-三嗪"異氰酸加成物等)等。這些物質可單獨使用l種，還可並用2種以上。予以說明，只要是上述熱交聯劑的固化催化劑或者可促進它們與羧基的反應的物質則無特別限定，可以使用上述以外的可促進熱固化的化合物。上述熱交聯劑及可促進它們與羧酸的熱固化的熱固化促進劑在上述感光性樹脂組合物中的固形成分含量優選為0.0115質量％。一-增感劑-一上述增感劑並無特別限定，可從公知的增感劑中適當選擇，例如可以舉出公知的多核芳香族類(例如芘、茈、三亞苯基)、氧雜蒽類(例如螢光黃、曙紅、赤蘚紅、羅丹明B、玫瑰紅)、菁類(例如吲哚菁、噻碳菁、噁碳菁)、部花青(例如部花青、碳部花青)、噻嗪類(例如硫堇、亞甲基藍、甲苯胺藍)、吖啶類(例如吖啶橙、氯黃素、啶黃素、9-苯基吖啶、1，7-雙(9，9'-吖啶基)庚烷)、蒽醌類(例如蒽醌)、方菁類(例如方菁)、吖啶酮類(例如吖啶酮、氯吖啶酮、N-甲基吖啶酮、N-丁基吖啶酮、N-丁基-氯吖啶酮、2-氯-10-丁基吖啶酮等)、香豆素類(例如、3-(2-苯並呋喃甲醯基)_7-二乙基氨基香豆素、3-(2-苯並呋喃甲醯基)-7-(1-吡咯垸基)香豆素、3-苯甲醯基-7-二乙基氨基香豆素、3-(2-甲氧基苯甲醯基)-7-二乙基氨基香豆素、3-(4-二甲基氨基苯甲醯基)-7-二乙基氨基香豆素、3，3，-羰基雙(5，7-二-正丙氧基香豆素)、3，3，-羰基雙(7-二乙基氨基香豆素)、3-苯甲醯基-7-甲氧基香豆素、3-(2-呋喃甲醯基)-7-二乙基氨基香豆素、3-(4-二乙基氨基肉桂醯基)-7-二乙基氨基香豆素、7-甲氧基-3-(3-吡啶基撥基)香豆素、3-苯甲醯基-5，7-二丙氧基香豆素等)及噻噸酮化合物(噻噸酮、異丙基噻噸酮、2，4-二乙基噻噸酮、1-氯-4-丙氧基噻噸酮、QuantacureQTX等)等，另外，還可舉出日本特開平5-19475號、日本特開平7-271028號、日本特開2002-363206號、日本特開2002-363207號、日本特開2002-363208號、日本特開2002-363209號等各公報所記載的香豆素化合物等)，其中，優選芳香族環或雜環稠合的化合物(稠環系化合物)，更優選雜稠環系酮化合物及吖啶類。上述雜稠環系酮化合物中，特別優選吖啶酮化合物及噻噸酮化合物。作為上述光聚合引發劑與上述增感劑的組合，例如可以舉出日本特開2001-305734號公報所記載的電子轉移型引發系[(l)供電子型引發劑及增感色素、(2)受電子型引發劑及增感色素、(3)供電子型引發劑、增感色素及受電子型引發劑(三元引發系)]等的組合。上述增感劑的含量相對於感光性膜用感光性樹脂組合物的總成分優選為0.014質量％、更優選為0.022質量％、特別優選為0.051質量%。上述含量為0.01質量％以上時，感度變得良好，為4質量％以下時，圖案的形狀變得良好。—-熱聚合抑制劑一-上述熱聚合抑制劑可以用於防止上述感光層的上述聚合性化合物的熱聚合或經時聚合而添加。上述熱聚合禁止劑例如可以舉出4-甲氧基苯酚、氫醌、垸基或芳基取代氫醌、叔丁基兒茶酚、鄰苯三酚、2-羥基二苯甲酮、4-甲氧基-2-羥基二苯甲酮、氯化銅、吩噻嗪、四氯苯醌、萘基胺、萘酚、2，6-二叔丁基-4-甲酚、2，2，-亞甲基雙(4-甲基-6-叔丁基苯酚)、吡啶、硝基苯、二硝基苯、苦味酸、4-甲苯胺、亞甲基藍、銅和有機螯合劑反應物、水楊酸甲酯及吩噻嗪、亞硝基化合物、亞硝基化合物與A1的螯合物等。上述熱聚合禁止劑的含量相對於上述感光性樹脂組合物優選為0.0015質量％、更優選為0.0052質量％、特別優選為O.011質量％。上述含量為0.001質量％以上時，可以防止保存時的穩定性降低，為5質量％以下時，相對於活性能量射線的感度變得良好。---增塑劑-一上述增塑劑還可為了控制上述感光層的膜物性(可撓性)而添加。上述增塑劑例如可以舉出苯二甲酸二甲酯、苯二甲酸二丁酯、苯二甲酸二異丁酯、苯二甲酸二庚酯、苯二甲酸二辛酯、苯二甲酸二環己酯、苯二甲酸二(十三垸基)酯、苯二甲酸丁基苄酯、苯二甲酸二異癸酯、苯二甲酸二苯酯、苯二甲酸二烯丙酯、辛基辛醯苯二甲酸酯等苯二甲酸酯類；三甘醇二乙酸酯、四甘醇二乙酸酯、二甲基乙二醇苯二甲酸酯、乙基鄰苯二甲醯乙基乙醇酸酯、甲基鄰苯二甲醯乙基乙醇酸酯、丁基鄰苯二甲醯丁基乙醇酸酯、三甘醇二辛酸酯等二醇酯類；磷酸三甲苯酯、磷酸三苯酯等磷酸酯類；4-甲苯磺醯胺、苯磺醯胺、N-正丁基苯磺醯胺、N-正丁基乙醯胺等醯胺類；己二酸二異丁酯、二辛基己二酸酯、癸二酸二甲酯、癸二酸二丁酯、癸二酸二辛酯、壬二酸二辛酯、馬來酸二丁酯等脂肪族二元酸酯類；檸檬酸三乙酯、檸檬酸三丁酯、甘油三乙醯基酯、月桂酸丁酯、4，5-二環氧基環己垸-1，2-二羧酸二辛酯等聚乙二醇、聚丙二醇等二醇類。上述增塑劑的含量相對於上述感光層的總成分優選為0.150質量％、更優選為0.540質量％、特別優選為130質量％。著色顏料-一上述著色顏料並無特別限定，可根據目的適當選擇例如可以舉出鹼性豔藍B0(C.I.42595)、鹼性槐黃(C.I.41000)、脂肪黑HB(C.I.26150)、莫努萊特(千乂，,卜)'黃GT(C.I.顏料'黃12)、永固'黃GR(C.I.顏料，黃17)、永固.黃服(C.I.顏料'黃83)、永固'胭脂紅FBB(C.I.顏料'紅146)、郝斯塔瑪姆(水^夕一"'一厶)紅ESB(C.I.顏料'紫19)、永固'紅玉色FBH(C.I.顏料'紅ll)、法斯特路(77;^亍粉B斯普啦(^7°，)(C.I.顏料'紅81)單星'耐曬'藍(C.I.顏料'藍15)、莫努萊特'耐曬'黑B(C.I.顏料'黑1)、碳、C.I.顏料'紅97、C.I.顏料'紅122、C.I.紅149、C.I.顏料'紅168、C,I.顏料'紅177、C.I.顏料-紅180、C.I.顏料-紅192、C.I.顏料-紅215、C.I.顏料'綠7、C.I.顏料'綠36、C.I.顏料'藍15:1、C.I.顏料.藍15:4、C.I.顏料'藍15:6、C.I.顏料'藍22、C.I.顏料'藍60、C.I.顏料'藍64等。這些物質可單獨使用l種，還可並用2種以上。另外，還可使用根據需要從公知的染料中適當選擇的染料。上述著色顏料在上述感光性樹脂組合物固形成分中的固形成分含量可以考慮永久圖案形成時的感光層的曝光感度、解析度等決定，隨上述著色顏料的種類而不同，一般優選為0.0110質量％、更優選為0.055質-一密合促進劑一-為了提高各層間的密合性、或者感光層與基體的密合性，可以在各層中使用公知的常說的密合促進劑。上述密合促進劑可以舉出例如日本特開平5-11439號公報、日本特開平5-341532號公報及日本特開平6-43638號公報等所記載的密合促進劑。具體地說，苯並咪唑、苯並噁唑、苯並噻唑、2-巰基苯並咪唑、2-巰基苯並噁唑、2-巰基苯並噻唑、3-嗎啉代甲基-1-苯基-三唑-2-硫、3-嗎啉代甲基-5-苯基-噁二唑-2-硫、5-氨基_3-嗎啉代甲基-噻二唑-2-硫及2-巰基-5-甲基硫-噻二唑、三唑、四唑、苯並三唑、羧基苯並三唑、含氨基的苯並三唑、矽垸偶聯劑等。上述密合促進劑的含量相對於上述感光層的總成分優選為0.001質量%20質量％、更優選為0.0110質量％、特別優選為0.1質量％5質量％。上述消泡工序為對上述塗布液實施消泡處理的工序。消泡處理的方法並無特別限定，可根據目的適當選擇，例如可以舉出使用了真空泵的膜消泡或使用了離心力的離心分離消泡、使用了超聲波消泡裝置的超聲波消泡等。其中，從抑制針孔或凹陷等面狀缺陷的效果的觀點出發，優選超聲波消泡。上述超聲波消泡裝置是指通過利用超聲波照射產生空泡，促進氣體的發泡的裝置。即，通過利用局部產生的微小壓力變化，發生液體中氣體的發泡或溶解，進行液體的消泡。超聲波照射時的壓力並無特別限定，從控制氣體溶解性的觀點出發，優選常壓下的超聲波照射。裝置的控制通過電壓值進行超聲波振子的功率控制。例如，可以舉出在配管或罐上設置在日本阿勒庫斯(7^'7^(株)或本多電子(株)超聲波發信器連接有超聲波振子的裝置。作為使用上述超聲波消泡裝置時的條件並無特別限定，可以根據目的適當選擇，作為功率例如優選為IV以上200V以下、更優選為10V以上150V以下、特別優選為30V以上110V以下。另外，作為使用膜消泡裝置時的條件並無特別限定，可以根據目的適當選擇，作為功率例如優選為大氣壓以下、更優選為0.01氣壓以上0.5氣壓以下、特別優選為0.05氣壓以上0.15氣壓以下。〈塗布工序〉上述塗布工序為在上述消泡工序後在支撐體上塗布上述塗布液的工序。上述塗布液的塗布方法並無特別限定，可以根據目的適當選擇，例如可以舉出噴霧法、輥塗法、旋塗法、夾縫塗布法、擠壓塗布法、窗式塗法、模塗布法、凹版塗布法、絲棒塗布法、氣刀塗布法等各種塗布方法。-支撐體-上述支撐體並無特別限定，可以根據目的適當選擇，優選可以剝離上述感光層、且透光性良好，更優選表面的平滑性良好。上述支撐體優選合成樹脂制、且透明，例如可以舉出聚對苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚丙烯、聚乙烯、三醋酸纖維素、二醋酸纖維素、聚(甲基)丙烯酸烷基酯、聚(甲基)丙烯酸酯共聚物、聚氯乙烯、聚乙烯醇、聚碳酸酯、聚苯乙烯、玻璃紙、聚偏氯乙烯共聚物、聚醯胺、聚醯亞胺、氯乙烯'醋酸乙烯酯共聚物、聚四氟乙烯、聚三氟乙烯、纖維素繫膜、尼龍膜等各種塑料膜，其中特別優選聚對苯二甲酸乙二醇酯。這些物質可以單獨使用1種，還可並用2種以上。上述支撐體的厚度並無特別限定，可以根據目的適當選擇，例如優選為2150um、更優選為5100um、特別優選為850um。上述支撐體的形狀並無特別限定，可以根據目的適當選擇，優選為長條狀。上述長條狀的支撐體長度並無特別限定，例如可以舉出1020000m的長度。〈乾燥工序〉上述乾燥工序為乾燥上述塗布液在上述支撐體上形成感光層的工序。上述乾燥的條件隨各成分、溶劑的種類、使用比例等而不同，通常為60110。C的溫度下30秒鐘15分鐘左右。-感光層-上述感光層只要是由感光性樹脂組合物構成的層則無特別限定，可以根據目的適當選擇。上述感光層的厚度並無特別限定，可以根據目的適當選擇，例如優選為l100um、更優選為250iim、特別優選為430um。另外，上述感光層的層疊數並無特別限定，可以根據目的適當選擇，例如可以為l層，還可以為2層以上。利用本發明的感光性膜的製造法，能夠製造面狀缺陷少的膜，因此可以高效地獲得絕緣性優異的高精細的永久圖案(保護膜、層間絕緣膜及阻焊劑圖案等)。(感光性膜)本發明的感光性膜至少具有支撐體、在該支撐體上具有的由本發明感光性樹脂組合物構成的感光層、根據需要的熱塑性樹脂層等適當選擇的其他層。支撐體和感光層的構成如上所述。〈其它層〉上述其他層並無特別限定，可以根據目的適當選擇，例如可以舉出保護膜、熱塑性樹脂層、阻擋層、剝離層、粘接層、光吸收層、表面保護層等層。上述感光性膜可以單獨具有這些層的l種，還可具有2種以上。《保護膜》上述感光性膜還可在上述感光層上形成保護膜。上述保護膜例如可以舉出在上述支撐體中使用的物質，紙，層疊有聚乙烯、聚丙烯的紙等，其中優選聚乙烯膜、聚丙烯膜。上述保護膜的厚度並無特別限定，可以根據目的適當選擇，例如優選5100lim、更優選為850ym、特別優選為1030um。上述支撐體與保護膜的組合(支撐體/保護膜)例如可以舉出聚對苯二甲酸乙二醇酯/聚丙烯、聚對苯二甲酸乙二醇酯/聚乙烯、聚氯乙烯/玻璃紙、聚醯亞胺/聚丙烯、聚對苯二甲酸乙二醇酯/聚對苯二甲酸乙二醇酯等。另外，通過對支撐體及保護膜的至少1個進行表面處理，可以調整層間粘接力。上述支撐體的表面處理可以為了提高與上述感光層的粘接力而實施，例如可以舉出底塗層的塗設、電暈放電處理、火焰處理、紫外線照射處理、高頻率照射處理、發光放電照射處理、活性等離子體照射處理、雷射照射處理等。另外，上述支撐體與上述保護膜的靜摩擦係數優選為0.31.4、更優選為O.51.2。上述靜摩擦係數只要為0.3以上，則可以防止由於過滑巻繞成輥狀時發生巻繞偏差；為1.4以下時，可以巻繞成良好的輥狀。上述感光性膜例如優選巻繞成圓筒狀巻芯，以長條狀巻繞成輥狀進行保管。上述長條狀感光性膜的長度並無特別限定，例如可以從1020000m範圍中適當選擇。另外，為了使用者易於使用，還可進行夾縫加工、將1001000m範圍的長條體製成輥狀。另外，在此情況下優選按照上述支撐體處於最外側進行巻繞。另外，還可將上述輥狀感光性膜夾縫加工成片狀。在保管時，從保護端面、防止邊緣融合的觀點出發，優選在端面設置隔離物(特別是防溼性物質、裝有乾燥劑的物質)，另外包裝也優選使用透溼性低的材料。上述保護膜還可為了調整上述保護膜與上述感光層的粘接性而進行表面處理。上述表面處理例如在上述保護膜的表面上形成由聚有機矽氧烷、氟化聚烯烴、聚氟乙烯、聚乙烯醇等聚合物構成的底塗層。該底塗層的形成可以通過將上述聚合物的塗布液塗布於上述保護膜表面後，在3015(TC下乾燥130分鐘而形成。上述乾燥時的溫度特別優選為50120。C。(感光性層疊體)上述感光性層疊體至少具有基體、設置於上述基體上的感光層而成，層疊根據目的適當選擇的其他層而成。上述感光層是由上述製造方法製作的上述感光性膜轉印而成，具有與上述相同的構成。〈基體〉上述基體為形成有感光層的被處理基體或轉印有本發明感光性膜的至少感光層的被轉印體、並無特別限定，可以根據目的適當選擇，例如可以從表面平滑性高的物質至具有凸凹表面的物質中任意選擇。優選板狀的基體，使用常說的基板。具體地可以舉出公知的印製配線板製造用基板(印製電路板)、玻璃板(鹼玻璃板等)、合成樹脂性的膜、紙、金屬板等。〈感光性層疊體的製造方法〉上述感光性層疊體的製造方法可以舉出一邊對本發明感光性膜的至少感光層進行加熱及加壓的至少一個一邊進行轉印、層疊的方法。感光性層疊體的製造方法一邊對本發明感光性膜進行加熱及加壓的至少一個一邊層疊於上述基體的表面上。予以說明，當上述感光性膜具有上述保護膜時，優選剝離該保護膜，按照上述感光層重疊於上述基體進行層疊。上述加熱溫度並無特別限定，可以根據目的適當選擇，例如優選為15180°C、更優選為60140°C。上述加壓的壓力並無特別限定，可以根據目的適當選擇，例如優選為0.11.0MP、更優選為0.20.8MPa。作為進行上述加熱的至少一個的裝置並無特別限定，可以根據目的適當選擇，例如優選舉出層疊機(例如大成，$水一夕社制VP-II、二f"-一乇一卜>(株)制VP130)等。本發明的感光性膜及上述感光性層疊體由於膜厚均一、針孔或凹陷等面狀缺陷的發生比例極低，因此絕緣可靠性優異、可高效地形成高精細的永久圖案(保護膜、層間絕緣膜及阻焊劑圖案等)。因此，可以作為電子材料領域的高精細永久圖案的形成用廣泛使用，特別可優選用於印製電路板的永久圖案形成用。(永久圖案形成方法)本發明的永久圖案形成方法至少含有曝光工序，進而含有根據需要選擇的顯影工序等其他工序。〈曝光工序>上述曝光工序是對本發明的感光性層疊體的感光層進行曝光的工序。本發明的感光性層疊體如上所述。上述曝光的對象只要是上述感光性層疊體的感光層則無特別限定，可以根據目的適當選擇，例如如上所述，優選對一邊對感光膜進行加熱和加壓的至少一個一邊層疊於基材上而形成的層疊體進行。上述曝光並無特別限定，可以根據目的適當選擇，可以舉出數碼曝光、模擬曝光等，其中優選數碼曝光。上述其他工序並無特別限定，可以根據目的適當選擇，例如可以舉出基材的表面處理工序、顯影工序、固化處理工序、後曝光工序等。《顯影工序》上述顯影通過將上述感光層的未曝光部分除去而進行。上述未固化區域的除去方法並無特別限定，可以根據目的適當選擇，例如可以舉出使用顯影液進行除去的方法等。上述顯影液並無特別限定，可以根據目的適當選擇，例如可以舉出鹼性水溶液、水系顯影液、有機溶劑等，其中優選弱鹼性水溶液。該弱鹼水溶液的鹼成分例如可以舉出氫氧化鋰、氫氧化鈉、氫氧化鉀、碳酸鋰、碳酸鈉、碳酸鉀、碳酸氫鋰、碳酸氫鈉、碳酸氫鉀、磷酸鈉、磷酸鉀、偏磷酸鈉、偏磷酸鉀、硼砂等。上述弱鹼性水溶液的pH例如優選為約812、更優選為約911。上述弱鹼性水溶液例如可以舉出0.15質量％的碳酸鈉水溶液或碳酸鉀水溶液等。上述顯影液的溫度可對應上述感光層的顯影性適當選擇，例如優選約為2540°C。上述顯影液還可以與表面活性劑、消泡劑、有機鹼(例如乙二胺、乙醇胺、四甲基氫氧化銨、二乙撐三胺、三乙撐五胺、嗎啉、三乙醇胺等)或用於促進顯影的有機溶劑(例如醇類、酮類、酯類、醚類、醯胺類、內酯類等)等。另外，上述顯影液還可以是混合有水或鹼水溶液和有機溶劑的水系顯影液，還可以是有機溶劑單獨。《固化處理工序》上述固化處理工序是在上述顯影工序進行之後，對所形成的圖案的感光層進行固化處理的工序。上述固化處理工序並無特別限定，可以根據目的適當選擇，例如優選舉出全面曝光處理、全面加熱處理等。上述全面曝光處理的方法例如可以舉出在上述顯影后對形成有上述永久圖案的上述層疊體上的整個面進行曝光的方法。通過該全面曝光，促進形成上述感光層的感光性樹脂組合物中的樹脂固化，上述永久圖案的表面固化。進行上述全面曝光的裝置並無特別限定，可以根據目的適當選擇，例如優選舉出超高壓滎燈等UV曝光機。上述全面加熱處理的方法可以舉出在上述顯影后對形成有上述永久圖案的上述層疊體上的整個面進行加熱的方法。通過該全面加熱，上述永久圖案的表面的膜強度增高。上述全面加熱的加熱溫度優選為120250°C、更優選為120200°C。該加熱溫度為12(TC以上時，通過加熱處理膜強度提高，為250。C以下時，可以防止上述感光性樹脂組合物中的樹脂發生分解、膜質變弱、變脆。上述全面加熱的加熱時間優選為10120分鐘、更優選為1560分鐘。進行上述全面加熱的裝置並無特別限定，可以從公知的裝置中根據目的適當選擇，例如可以舉出幹烘箱、加熱板、IR加熱器等。上述永久圖案的形成方法為形成保護膜、層間絕緣膜及阻焊劑圖案的至少一個的永久圖案形成方法時，可以利用上述永久圖案形成方法在印製配線板上形成永久圖案，進而如下進行焊錫。艮P，通過上述顯影形成作為上述永久圖案的固化層，金屬層露出至上述印製配線板的表面。對露出至該印製配線板表面的金屬層的部位進行鍍金後，進行焊錫。然後，在進行了焊錫的部位安裝半導體或部件等。此時，上述固化層所形成的永久圖案發揮作為保護膜或絕緣膜(層間絕緣膜)、阻焊劑的功能，防止來自外部的衝擊或相鄰電極的導通。(印製電路板)本發明的印製電路板至少具有基體、由上述永久圖案形成方法形成的永久圖案而成，進而還具有根據需要適當選擇的其他構成。作為其他構成並無特別限定，可以根據目的適當選擇，例如可以舉出在基材和上述永久圖案之間進一步設有絕緣層的高密度增層基板等。實施例以下舉出實施例和比較例更加具體地說明本發明，本發明並非限定於下述實施例。-粘合劑的合成-在1000mL三口燒瓶中放入1-甲氧基-2-丙醇159g，在氮氣氣流下加熱至85"C。向其中用2小時的時間滴加丙烯酸苄基甲酯63.4g、甲基丙烯酸72.3g、V-601(和光純藥制)3.0g的l-甲氧基-2-丙醇159g溶液。滴加結束後，進一步加熱5小時使其反應。接著，停止加熱，獲得丙烯酸苄基甲酯/甲基丙烯酸(30/70moP/。比)的共聚物。接著，在上述共聚物溶液內的120.0g移至300mL三口燒瓶，加入甲基丙烯酸縮水甘油酯16.6g、對甲氧基苯酚O.16g，進行攪拌使其溶解。溶解後，進行空氣排氣，同時加入三苯基膦3.0g，加熱至10(TC，經過20分鐘後，加入甲基丙烯酸縮水甘油酯進行加成反應。利用氣相色譜確認甲基丙烯酸縮水甘油酯消失，停止加熱。加入l-甲氧基-2-丙醇，製備固形成分45質量％的下述結構式(29)所示粘合劑的溶液。利用以聚苯乙烯為標準物質的凝膠滲透色譜法(GPC)測定所得粘合劑的質均分子量(Mw)，結果為30000。另外，由使用了氫氧化鈉的滴定，單位固形成分的酸價為2.2meq/g。進而，利用碘價滴定求得的單位固形成分的乙烯性不飽和鍵的含量(C二C價)為2.lmeq/g。1幼結構式(29)(實施例l)-感光性樹脂組合物的製備-以下述量配合各成分，製備感光性樹脂組合物溶液(塗布液)。〔感光性樹脂組合物溶液的各成分量〕-上述粘合劑(上述l-甲氧基-2-丙醇溶液中的固形成分質量45質量％)'■■45.51質量份■季戊四醇四丙烯酸酯(聚合性化合物)'■■11.03質量份結構式(26)所示的光聚合引發劑'■0.35質量份■二乙基噻噸酮'■■0.37質量份■雙F型環氧樹脂(熱交聯劑、東都化成(株)制、YDF-170)'■■4.57質量份■熱固化劑(雙氰胍>■■0.08質量份.二氧化矽S0-C2((株)7卜-t於7夕7社制).■■7.ll質量份-著色顏料(BASF社制、HELIOGENBLUED7086),■■0.17質量份-甲乙酮'■■16.74質量份-乙酸正丙酯'■■13.96質量份予以說明，感光性樹脂組合物溶液的粘度為40mPa"s。-感光性膜的製造-將所得感光性樹脂組合物溶液通入超聲波消泡裝置(SDF)後，塗布於作為上述支撐體的厚度16um的PET(聚對苯二甲酸乙二醇酯)膜上將其乾燥，形成膜厚30um的感光層。接著，在該感光層上作為上述保護膜用層疊機層疊20um厚的聚丙烯膜，製造上述感光性膜。予以說明，超聲波消泡裝置作為發信號機使用日本7^'7^^(株)NEOSONIC系列0833-16，將電壓值設定為35V、調整發信號功率進行使用。〈面狀缺陷的評價〉記載評價順序/標準。利用紅色透過光目視評價用上述方法製作的感光性膜。作為評價基準將直徑為lmm以上的氣泡作為凹陷(大)、lmm以下的氣泡作為凹陷(小)。予以說明，感光性膜的大小為lm2。〈絕緣可靠性試驗〉在作為印製電路板的經過配線形成的鍍銅層疊板(L/S=50ym/50um梳子型圖案、銅厚度12um)的表面實施化學研磨處理，進行製備。在該鍍銅層疊板上按照上述感光性膜的感光層與上述鍍銅層疊板相連接的方式一邊剝離上述感光性膜的保護膜，一邊使用真空層疊機(二*^'一壬一卜>(株)社審ij、VP130)將其層疊，製備按順序層疊有上述鍍銅層疊板、上述感光層和上述聚對苯二甲酸乙二醇酯膜(支撐體)的感光性層疊體。壓接條件為抽真空的時間40秒、壓接溫度7(TC、壓接壓力0.2MPa、加壓時間10秒。使用該基板，在130°C/85%/0.196Mpa/10V/200h的條件下使用ETAC制、離子遷移評價裝置SIR12實施絕緣可靠性試驗。予以說明，進行10檢體試驗，記載短路的個數。將結果示於表l。(實施例2)除了將SDF的條件從35V改變為70V之外，與實施例1同樣地製造感光性膜、評價面狀缺陷及絕緣可靠性。將結果示於表l。(實施例3)除了將SDF的條件從35V改變為100V之外，與實施例1同樣地製造感光性膜、評價面狀缺陷及絕緣可靠性。將結果示於表l。(比較例1)除了將SDF的條件從35V改變為0V之外，與實施例1同樣地製造感光性膜、評價面狀缺陷及絕緣可靠性。將結果示於表l。表1tableseeoriginaldocumentpage36由表1可知，未實施消泡工序的比較例1的感光性膜的面狀缺陷多、絕緣可靠性很差，與此相對實施了消泡工序的實施例13的感光性膜的面狀缺陷非常少、絕緣可靠性優異。由於本發明的感光性膜中實施了消泡處理的塗布液可以大大抑制針孔或凹陷等面狀缺陷的發生比例，因此可以提供絕緣可靠性優異的感光性膜、感光性層疊體。因此，可以高效地形成高精細的永久圖案(保護膜、層間絕緣膜及阻焊劑圖案等)，因此可以作為電子材料領域的高精細永久圖案的形成用廣泛使用，特別可優選地用於印製電路板的永久圖案形成用。本發明的永久圖案形成方法由於使用本發明的上述感光性膜，因此可以優選地使用需要高精細曝光的各種圖案的形成等，特別是可以優選地用於印製電路板的永久圖案形成。權利要求1.一種感光性膜的製造方法，其特徵在於，包括以下工序製備含有感光性樹脂組合物的塗布液的塗布液製備工序，所述感光性樹脂組合物含有i)導入有感光性基團和用於賦予鹼顯影性的酸基的化合物、ii)聚合性化合物、iii)光聚合引發劑；對所述塗布液實施消泡處理的消泡工序；在所述消泡工序後，將所述塗布液塗布於支撐體的塗布工序；使所述塗布液乾燥，在所述支撐體上形成感光層的乾燥工序。2.根據權利要求1所述的感光性膜的製造方法，其中，消泡處理為超聲波消泡。3.根據權利要求1所述的感光性膜的製造方法，其中，感光性樹脂組合物還含有iv)熱交聯劑。4.根據權利要求1所述的感光性膜的製造方法，其中，感光性樹脂組合物還含有v)填充物。5.根據權利要求1所述的感光性膜的製造方法，其特徵在於，塗布液的粘度為5mPa's100mPa's。6.根據權利要求5所述的感光性膜的製造方法，其特徵在於，塗布液的粘度為10mPa's50mPa's。7.—種感光性膜，其為利用包括以下工序的感光性膜製造方法製得的感光性膜-製備含有感光性樹脂組合物的塗布液的塗布液製備工序，所述感光性樹脂組合物含有i)導入有感光性基團和用於賦予鹼顯影性的酸基的化合物、ii)聚合性化合物、iii)光聚合引發劑；對所述塗布液實施消泡處理的消泡工序；在所述消泡工序後，將所述塗布液塗布於支撐體的塗布工序；使所述塗布液乾燥，在所述支撐體上形成感光層的乾燥工序，感光性膜為長條狀，被巻繞成輥狀。8.—種感光性層疊體，其為具備基體和設於所述基體上的感光層的感光性層疊體，其特徵在於，所述感光層是由利用包括以下工序的感光性膜製造方法製得的感光性膜轉印而得的感光層製備含有感光性樹脂組合物的塗布液的塗布液製備工序，所述感光性樹脂組合物含有i)導入有感光性基團和用於賦予鹼顯影性的酸基的化合物、ii)聚合性化合物、iii)光聚合引發劑；對所述塗布液實施消泡處理的消泡工序；在所述消泡工序後，將所述塗布液塗布於支撐體的塗布工序；使所述塗布液乾燥，在所述支撐體上形成感光層的乾燥工序。9.一種永久圖案形成方法，其特徵在於，至少包括對下述感光性層疊體中的感光層進行曝光的曝光工序，所述感光性層疊體為具備基體和設於所述基體上的感光層的感光性層疊體，所述感光層是由利用包括以下工序的感光性膜製造方法製得的感光性膜轉印而得的感光層製備含有感光性樹脂組合物的塗布液的塗布液製備工序，所述感光性樹脂組合物含有i)導入有感光性基團和用於賦予鹼顯影性的酸基的化合物、ii)聚合性化合物、iii)光聚合引發劑；對所述塗布液實施消泡處理的消泡工序；在所述消泡工序後，將所述塗布液塗布於支撐體的塗布工序；使所述塗布液乾燥，在所述支撐體上形成感光層的乾燥工序。10.—種印製電路板，其特徵在於，具備通過永久圖案形成方法形成的永久圖案，所述永久圖案形成方法至少包括對下述感光性層疊體中的感光層進行曝光的曝光工序，所述感光性層疊體為具備基體和設於所述基體上的感光層的感光性層疊體，.所述感光層是由利用包括以下工序的感光性膜製造方法製得的感光性膜轉印而得的感光層製備含有感光性樹脂組合物的塗布液的塗布液製備工序，所述感光性樹脂組合物含有i)導入有感光性基團和用於賦予鹼顯影性的酸基的化合物、ii)聚合性化合物、iii)光聚合引發劑；對所述塗布液實施消泡處理的消泡工序；在所述消泡工序後，將所述塗布液塗布於支撐體的塗布工序；使所述塗布液乾燥，在所述支撐體上形成感光層的乾燥工序。全文摘要本發明的感光性膜的製造方法的特徵在於包括以下工序製備含有感光性樹脂組合物的塗布液的塗布液製備工序，上述感光性樹脂組合物含有i)導入有感光性基團和用於賦予鹼顯影性的酸基的化合物、ii)聚合性化合物、iii)光聚合引發劑；對上述塗布液實施消泡處理的消泡工序；在上述消泡工序後，將上述塗布液塗布於支撐體的塗布工序；使上述塗布液乾燥，在上述支撐體上形成感光層的乾燥工序。文檔編號H05K1/00GK101685256SQ20091017863公開日2010年3月31日申請日期2009年9月24日優先權日2008年9月25日發明者中澤隆浩,林利明申請人:富士膠片株式會社