鍍膜裝置的製作方法
2023-05-29 09:33:41
專利名稱：鍍膜裝置的製作方法
技術領域：
本發明涉及一種鍍膜裝置，尤其涉及一種具有鍍膜傘架的鍍膜裝置。
背景技術：
當前，許多工業產品表面都鍍有功能薄膜，以改善產品表面的各種性能。如在光學鏡片的表面鍍上一層抗反射膜，以降低鏡片表面的反射率，降低入射光通過鏡片的能量損耗。又如在某些濾光元件表面鍍上一層濾光膜，可濾掉某一預定波段的光，製成各種各樣的濾光片。一般地，鍍膜方法主要包括離子鍍膜法、射頻磁控濺鍍、真空蒸發法、化學氣相沉積法等。Ichiki，M.等人在2003年 5 月發表於2003 Symposium on Design, Test, Integration andPackaging of MEMS/MOEMS StJife^IThin film formation-a fabrication onnon-planar surface by spray coating method中介紹了通過噴塗在非平面形成薄膜的方法。蒸鍍是一種物理氣相沉積技術，即以物理的方式進行薄膜沉積。具體地，其通過離子束或電子束對蒸鍍材料進行加熱，使蒸鍍材料變成氣態或離子態，而沉積在待鍍工件表面以形成一蒸鍍材料膜層。在對工件的某一面進行鍍膜時，通常是將待鍍工件固定於鍍膜傘架上，蒸鍍靶材設置於鍍膜傘架下方，通過蒸發而將靶材衝至鍍膜傘架，從而對待鍍工件的朝向鍍膜傘架下方的一面進行鍍膜。然而，蒸鍍材料中可能含有雜質，當蒸鍍時，雜質也可能會被鍍至工件表面，從而產生白、麻點等缺陷。另外，只需要在待鍍工件的朝向鍍膜傘架下方的一面進行鍍膜，但是在蒸鍍製程中，變成氣態或離子態的蒸鍍材料在真空腔體內是以無序的方式運動，其容易從固定式傘架的周圍流動至傘架上方，附著在待鍍工件的周緣及另一面從而汙染待鍍工件。
發明內容
有鑑於此，有必要提供一種可防止待鍍工件在鍍膜製程中被汙染的鍍膜裝置。本發明提供一種鍍膜裝置，其包括一個鍍膜傘架，所述鍍膜傘架具有多個容置通孔，所述多個容置通孔用於容置待鍍工件，所述鍍膜裝置還包括一個鍍膜傘架遮罩及一個過濾板。所述鍍膜傘架遮罩用於自該鍍膜傘架頂部罩住該鍍膜傘架。所述過濾板安裝於該鍍膜傘架底部，所述過濾板上形成有多個過濾孔，所述過濾孔用於透過氣態或離子態的蒸鍍材料，並阻擋雜質。相較於現有技術，所述鍍膜裝置包括一鍍膜傘架遮罩及一過濾板，鍍膜傘架遮罩用於從頂部罩住所述鍍膜傘架，從而防止蒸鍍材料從側面汙染鍍膜傘架及待鍍工件，過濾板安裝於鍍膜傘架底部並開有可透過蒸鍍材料及阻擋雜質的過濾孔，從而防止雜質汙染鍍膜傘架及待鍍工件。
圖1是本發明實施方式提供的鍍膜裝置的立體示意圖。
圖2是本發明實施方式提供的鍍膜裝置的立體分解示意圖。主要元件符號說明鍍膜裝置100鍍膜傘架200容置通孔201鍍膜傘架遮罩300第一罩體10傘狀支架12支撐軸14遮擋片16連接軸18螺孔122第二罩體20支撐架22螺栓24過濾板400過濾孔401螺孔40具體實施例方式下面將結合附圖，對本發明作進一步的詳細說明。請參閱圖1及圖2，本發明實施方式提供一種鍍膜裝置100，其包括一個鍍膜傘架 200、一個鍍膜傘架遮罩300及一個過濾板400。所述鍍膜傘架200具有多個容置通孔201，用於容置待鍍工件(圖未示)。所述多個容置通孔201大小相同，且排列整齊。所述鍍膜傘架200的形狀為傘狀。鍍膜時，蒸鍍源設置於鍍膜傘架200的下方，且蒸鍍源從鍍膜傘架200的下方向上進行鍍膜。所述鍍膜傘架遮罩300用於自鍍膜傘架200的頂端罩住所述鍍膜傘架200，其包括一個第一罩體10及一個第二罩體20。所述第一罩體10直接罩在鍍膜傘架200上，所述第二罩體20用於罩住第一罩體10。所述第一罩體10包括一個中空傘狀支架12。所述傘狀支架12包括多個支撐軸 14。所述多個支撐軸14呈對稱分布於傘狀支架12上。在本實施方式中，所述支撐軸14的數量設置為8個。所述每個支撐軸14的內側均設置有多個遮擋片16，所述每個遮擋片16 均設置為通過一個連接軸18而連接懸掛於支撐軸14的內側。所述連接軸18可以設置為可活動的連接於支撐軸14上，從而使遮擋片16的角度具有一定的靈活性。在本實施方式中， 所述多個遮擋片16大小相同且對稱分布於所述第一罩體10上。所述每個遮擋片16的形狀設置為與所述鍍膜傘架200的用於容置待鍍工件的容置通孔201的形狀相同，並且其排列方式與鍍膜傘架200的容置通孔201的排列相對應。鍍膜時，蒸鍍源從鍍膜傘架200的下方向上進行鍍膜，則待鍍工件的朝向鍍膜傘架200的下方的那個面會被鍍膜，而另一個面不會鍍到。此第一罩體10的設置可以使待鍍工件的另一個面被遮擋片16遮住，從而保證另一面不會被蒸鍍源汙染。另一方面，由於鍍膜時的溫度很高，常加熱到170至200度， 而待鍍工件如為鏡片，其材質通常為塑膠、玻璃等，在高溫下很容易產生應力形變，而導致待鍍工件產生翹曲等，造成良率下降。此遮擋片16的設置同時也可以壓制住待鍍工件，從而避免待鍍工件發生翹曲。所述第二罩體20用於罩住第一罩體10。所述第一罩體10在鍍膜傘架200底部至頂部方向上的高度為hl，所述第二罩體在相同方向上的高度為h2，所述第二罩體20的高度 h2不小於第一罩體10的高度hi，如此，可以將第一罩體10完全罩於第二罩體20內。所述第二罩體20的形狀可設置為圓桶狀或傘狀等。本實施方式中，該第二罩體20的形狀為圓桶狀，其內部為中空結構，且頂部設置有一個十字形支撐架22。當然，所述第二罩體20的頂部也可以設置為中空傘狀。所述支撐架22的中心設置有一個螺栓M。而第一罩體10的傘狀支架12的頂部中心設置有一個螺孔122。所述第二罩體20和第一罩體10的螺栓M 和螺孔122可以相互配合，並使第二罩體20和第一罩體10固定連接。當然，所述第一罩體 10和第二罩體20之間也可以使用其他連接方式固定。例如，所述第二罩體20的底側邊緣可以設置數個搭扣結構，當第二罩體20罩到第一罩體10的外部後，可使用搭扣來將第一罩體10和第二罩體20固定。所述第一罩體10、第二罩體20及所述鍍膜傘架200的底面均為圓形，且其底面直徑相當。優選的，所述第一罩體10的底面直徑略大於鍍膜傘架200的底面直徑，而第二罩體20的底面直徑略大於第一罩體10的底面直徑。這樣，第一罩體10可將鍍膜傘架200罩住，而第二罩體20可將第一罩體10及鍍膜傘架200都罩住。如此，可以使氣態或離子態的蒸鍍材料不會直接衝擊到鍍膜傘架200及第一罩體10的周緣，從而防止蒸鍍材料從側面汙染鍍膜傘架200及待鍍工件，提高鍍膜的潔淨度。所述過濾板400安裝於鍍膜傘架200的底部，即面向蒸鍍源的一端，所述過濾板 400上形成有多個過濾孔401，用於透過氣態或離子態的蒸鍍材料，並阻擋雜質。由於雜質和蒸鍍材料的物理特徵不同，因此在蒸鍍中，蒸鍍材料會蒸發成氣態或離子態，而雜質不會。因此雜質的尺寸大小要大於呈氣態或離子態的蒸鍍材料的尺寸大小，因此可通過設置過濾孔401的孔徑，使得過濾板400可透過氣態或離子態的蒸鍍材料，並阻擋雜質。過濾孔 401的孔徑可隨蒸鍍材料的不同而變化。在本實施方式中，過濾孔401的孔徑為15 20毫米(mm) ο在本實施方式中，過濾板400呈圓形，其外徑等於第一罩體10的底面直徑。在過濾板400上形成有螺孔402，第一罩體10的底面上形成有對應的螺孔(圖未示)，用於穿過螺釘(圖未示)，從而將過濾板400安裝於第一罩體10上。當然，所述過濾板400也可與第二罩體20或鍍膜傘架200連接，連接方式也可採用螺釘連接之外的方式，例如搭扣連接。所述第一罩體10、第二罩體20、過濾板400的材料可以選自銅、鋁及不鏽鋼等。所述鍍膜裝置100在使用時，先將第一罩體10罩在鍍膜傘架200上，並將多個遮擋片16對齊鍍膜傘架200的容置通孔201，此時，容置通孔201內已經放置好了待鍍工件。 然後，將第二罩體20罩在第一罩體10及鍍膜傘架200上，再將螺栓M擰在螺孔122內，並使第二罩體20和第一罩體10固定緊密。最後，通過螺釘將過濾板400安裝於第一罩體10 的底面。此時，即可以將鍍膜傘架200進行後續鍍膜製程。相較於現有技術，所述鍍膜裝置包括一鍍膜傘架遮罩及一過濾板，鍍膜傘架遮罩
5用於從頂部罩住所述鍍膜傘架，從而防止蒸鍍材料從側面汙染鍍膜傘架及待鍍工件，過濾板安裝於鍍膜傘架底部並開有可透過蒸鍍材料及阻擋雜質的過濾孔，從而防止雜質汙染鍍膜傘架及待鍍工件。 可以理解的是，對於本領域的普通技術人員來說，可以根據本發明的技術構思做出其它各種相應的改變與變形，而所有這些改變與變形都應屬於本發明權利要求的保護範圍。
權利要求
1.一種鍍膜裝置，其包括一個鍍膜傘架，所述鍍膜傘架具有多個容置通孔，所述多個容置通孔用於容置待鍍工件，其特徵在於，所述鍍膜裝置還包括一個鍍膜傘架遮罩及一個過濾板；所述鍍膜傘架遮罩用於自該鍍膜傘架頂部罩住該鍍膜傘架；所述過濾板安裝於該鍍膜傘架底部，所述過濾板上形成有多個過濾孔，所述過濾孔用於透過氣態或離子態的蒸鍍材料，並阻擋雜質。
2.如權利要求1所述的鍍膜裝置，其特徵在於，所述鍍膜傘架遮罩包括一個第一罩體， 所述第一罩體用於直接罩在該鍍膜傘架上，其包括一個中空傘狀支架，所述傘狀支架包括多個支撐軸，所述每個支撐軸的內側設置有多個遮擋片，所述多個遮擋片與所述鍍膜傘架的容置通孔相對應。
3.如權利要求2所述的鍍膜裝置，其特徵在於，所述鍍膜傘架遮罩還包括一個第二罩體，所述第二罩體用於罩住第一罩體，且所述第二罩體在所述鍍膜傘架底部至頂部方向上的高度不小於所述第一罩體在該方向上的高度。
4.如權利要求2所述的鍍膜裝置，其特徵在於，所述多個遮擋片的形狀設置與所述鍍膜傘架的容置通孔的形狀相同。
5.如權利要求2所述的鍍膜裝置，其特徵在於，所述多個遮擋片大小相同且對稱分布於所述第一罩體上。
6.如權利要求2所述的鍍膜裝置，其特徵在於，所述每一個遮擋片為通過連接軸而懸掛於相應的支撐軸的內側，且每個遮擋片的連接軸可活動地與相應的支撐軸連接。
7.如權利要求3所述的鍍膜裝置，其特徵在於，所述第一罩體、第二罩體與所述鍍膜傘架的底面直徑相當。
8.如權利要求1所述的鍍膜裝置，其特徵在於，所述過濾孔的孔徑為15 20毫米。
9.如權利要求1所述的鍍膜裝置，其特徵在於，所述鍍膜傘架遮罩及過濾板的材料為銅、鋁或不鏽鋼。
全文摘要
本發明提供一種鍍膜裝置，其包括一個鍍膜傘架，所述鍍膜傘架具有多個容置通孔，所述多個容置通孔用於容置待鍍工件，所述鍍膜裝置還包括一個鍍膜傘架遮罩及一個過濾板。所述鍍膜傘架遮罩用於自該鍍膜傘架頂部罩住該鍍膜傘架。所述過濾板安裝於該鍍膜傘架底部，所述過濾板上形成有多個過濾孔，所述過濾孔用於透過氣態或離子態的蒸鍍材料，並阻擋雜質。所述鍍膜傘架遮罩可防止待鍍工件被汙染。
文檔編號C23C16/458GK102465275SQ201010549489
公開日2012年5月23日 申請日期2010年11月18日 優先權日2010年11月18日
發明者王仲培 申請人:鴻富錦精密工業(深圳)有限公司, 鴻海精密工業股份有限公司