一種淋釉機調節裝置製造方法
2023-05-29 02:13:41
一種淋釉機調節裝置製造方法
【專利摘要】本實用新型提供一種淋釉機調節裝置，包括固定腔體、活動腔體、調節部件、擋板、調節杆、調節部件、偏心軸及支撐調節部件；固定腔體和活動腔體為凹腔形結構，固定腔體和活動腔體間設有控釉腔，固定腔體頂部與活動腔體相接觸處為下端相內傾斜的三角形結構，活動腔體上設置有腔體調節孔，擋板上設置有腔體活動杆和擋板進釉孔；偏心軸一端設有偏心軸連接杆插孔。該裝置結構簡單，同時便於操作，很好地節約了淋釉機生產及使用過程中的成本，並且一般技術人員很容易學習和掌握，從而很大程度的節約了時間成本。
【專利說明】一種淋釉機調節裝置
【技術領域】
[0001] 本實用新型涉及瓷磚加工設備【技術領域】，具體涉及一種淋釉機調節裝置。
【背景技術】
[0002] 淋釉機主要用於為磚述表面施底釉及面釉，其中淋釉機調節裝置用於淋釉量及淋 釉速度的控制與調節，目前的淋釉機調節裝置結構複雜且操作困難，十分影響淋釉加工效 率，而且一般技術人員需要很長時間的學習掌握才能進行良好的操作加工，所以亟需一種 結構簡單且便於操作的淋釉機調節裝置以解決上述不足。 實用新型內容
[0003] 本實用新型的目的在於針對現有技術的不足，提供一種淋釉機調節裝置，該裝置 結構簡單且便於操作，可以很大的提高淋釉加工的工作效率。
[0004] 為達到上述要求，本實用新型採取的技術方案是：提供一種淋釉機調節裝置，包括 固定腔體、活動腔體、調節部件、設置於所述固定腔體和活動腔體兩側的擋板、與兩側所述 擋板相連接的調節杆、用來調節所述調節杆旋轉角度的調節部件、固定於所述調節杆上的 偏心軸及設置於所述活動腔體上位置與所述偏心軸相對應的支撐調節部件；固定腔體和活 動腔體為凹口向內的凹腔形結構，固定腔體和活動腔體間設有空腔形結構的控釉腔，固定 腔體頂部與活動腔體相接觸處為下端相內傾斜的三角形結構，固定腔體固定於擋板之間， 活動腔體上設置有用來與擋板相連接的腔體調節孔，腔體調節孔為圓形孔狀結構，擋板上 設置有位置與腔體調節孔相對應的腔體活動杆和與控釉腔相連通的擋板進釉孔；偏心軸一 端設有偏心軸連接杆插孔，支撐調節部件上設置有兩個偏心軸固定板，偏心軸固定板上設 有位置與偏心軸連接杆插孔相對應的支撐調節部件連接杆插孔，偏心軸與支撐調節部件通 過偏心軸連接杆相連接。
[0005] 該淋釉機調節裝置利用偏心軸原理，通過調節部件及調節轉盤實現對淋釉機的精 密調節，該裝置結構簡單，便於操作，同時可以降低淋釉成本達到百分之十五以上，並且一 般技術人員很容易學習及掌握從而很大的節約了時間成本。
【專利附圖】
【附圖說明】
[0006] 此處所說明的附圖用來提供對本申請的進一步理解，構成本申請的一部分，在這 些附圖中使用相同的參考標號來表示相同或相似的部分，本申請的示意性實施例及其說明 用於解釋本申請，並構成對本申請的不當限定。在附圖中：
[0007] 圖1示意性地示出了根據本申請一個實施例的安裝了該淋釉機調節裝置的淋釉 機的示意圖。
[0008] 圖2示意性地示出了根據本申請一個實施例的淋釉機調節裝置局部的結構示意 圖。
[0009] 圖3示意性地示出了根據本申請一個實施例的淋釉機調節裝置偏心軸的結構示 意圖。
[0010] 圖4示意性地示出了根據本申請一個實施例的淋釉機調節裝置支撐調節部件的 主視圖。
[0011] 圖5示意性地示出了根據本申請一個實施例的淋釉機調節裝置支撐調節部件的 左視圖。
[0012] 圖6示意性地示出了根據本申請一個實施例的淋釉機調節裝置支撐調節部件的 俯視圖。
[0013] 圖7示意性地示出了根據本申請一個實施例的淋釉機調節裝置擋板的示意圖。
[0014] 圖8示意性地示出了根據本申請一個實施例的淋釉機調節裝置受壓部件的固定 腔體和活動腔體示意圖。
[0015] 圖9示意性地示出了根據本申請一個實施例的淋釉機調節裝置導流板的示意圖。
[0016] 其中：1、接釉盆；2、導流板；3、偏心軸；4、擋板；5、支撐調節部件；6、調節杆；7、 固定腔體；8、活動腔體；9、進釉管；10、調節部件；11、調節轉盤；12、出釉管；13、固定部件； 14、偏心軸連接杆；15、偏心軸固定板；16、腔體固定杆；17、擋板進釉孔；18、腔體活動杆； 19、調節杆插孔；20、偏心軸連接杆插孔；21、固定部件插孔；22、支撐調節部件連接杆插孔； 23、腔體固定孔；24、控釉腔；25、腔體調節孔、26、出釉刀；27、出釉刀凹口；28、第一導流外 擋板；29、第一引流槽擋板；30、第二引流槽擋板；31、第二導流外擋板；32、第二導流外槽； 33、導流槽；34、第一導流外槽。
【具體實施方式】
[0017] 為使本申請的目的、技術方案和優點更加清楚，以下結合附圖及具體實施例，對本 申請作進一步地詳細說明。
[0018] 在以下描述中，對" 一個實施例"、"實施例"、" 一個示例"、"示例"等等的引用表明 如此描述的實施例或示例可以包括特定特徵、結構、特性、性質、元素或限度，但並非每個實 施例或示例都必然包括特定特徵、結構、特性、性質、元素或限度。另外，重複使用短語"根據 本申請的一個實施例"雖然有可能是指代相同實施例，但並非必然指代相同的實施例。
[0019] 為簡單起見，以下描述中省略了本領域技術人員公知的某些技術特徵。
[0020] 根據本申請的一個實施例，提供一種淋釉機調節裝置，如圖1至圖3所示，包括固 定腔體7、活動腔體8、調節部件10、設置於該固定腔體7和活動腔體8兩側的擋板4、與兩 側擋板4相連接的調節杆6、用來調節該調節杆6旋轉角度的調節部件10、固定於所述調節 杆6上的偏心軸3及設置於活動腔體8上位置與偏心軸3相對應的支撐調節部件5。
[0021] 根據本申請的一個實施例，提供一種淋釉機調節裝置，如圖1至圖2所示，調節部 件10可以帶動調節杆6及設置於調節杆6上的偏心軸3轉動，從而改變該偏心軸3施於受 支撐調節部件5上的力的大小及方向，當偏心軸3凸起的一側正對支撐調節部件5時，該支 撐調節部件5收到向內的最大的力，此時活動腔體8底部最貼近固定腔體7底部，而使得活 動腔體8和固定腔體7底部的出釉刀26間的間隙最小，出釉速度最慢，當偏心軸3凸起的 一側從正對支撐調節部件5狀態下開始轉動時，該支撐調節部件5收到向內的力會逐漸變 小，此時活動腔體8底部開始遠離固定腔體7底部，而使得活動腔體8和固定腔體7底部的 出釉刀26間的間隙不斷變大，出釉速度變快，這樣通過調節偏心軸3的角度就可以對淋釉 機出釉量及出釉速度進行調節和控制。
[0022] 根據本申請的一個實施例，提供一種淋釉機調節裝置，如圖8所示，固定腔體7和 活動腔體8為凹口向內的凹腔形結構，該固定腔體7和活動腔體8間設有空腔形結構的控 釉腔24,固定腔體7頂部與活動腔體8相接觸處為下端相內傾斜的三角形結構，該固定腔體 7固定於擋板4之間，活動腔體8上設置有用來與該擋板4相連接的腔體調節孔25,該腔體 調節孔25為圓形孔狀結構。
[0023] 根據本申請的一個實施例，提供一種淋釉機調節裝置，如圖7所示，擋板4上設置 有位置與腔體調節孔25相對應的腔體活動杆18和與控釉腔24相連通的擋板進釉孔17。
[0024] 根據本申請的一個實施例，提供一種淋釉機調節裝置，如圖2至圖6所示，偏心軸3 一端設有偏心軸連接杆插孔20,支撐調節部件5上設置有兩個偏心軸固定板15,該偏心軸 固定板15上設有位置與偏心軸連接杆插孔20相對應的支撐調節部件連接杆插孔22,偏心 軸3與支撐調節部件5通過偏心軸連接杆14相連接。
[0025] 根據本申請的一個實施例，提供一種淋釉機調節裝置，如圖4至圖6所示，支撐調 節部件5兩側設置有用來與活動腔體8相連接的固定部件插孔21。
[0026] 根據本申請的一個實施例，提供一種淋釉機調節裝置，如圖1所示，調節部件10上 設置有可旋轉的調節轉盤11。
[0027] 根據本申請的一個實施例，提供一種淋釉機調節裝置，如圖8所示，固定腔體7和 活動腔體8底部設置有出釉刀26,該出釉刀26底部設有向內凹槽型結構的出釉刀凹口 27。
[0028] 根據本申請的一個實施例，提供一種淋釉機調節裝置，如圖9所示，固定腔體7和 活動腔體8正下方設置有用來控制出釉方向的導流板2,延該導流板2對稱軸上設置有導流 槽33,該導流槽33兩側設置有第一引流槽擋板29和第二引流槽擋板30,導流板2的兩側 外邊界處設置有對稱的第一導流外擋板28和第二導流外擋板31 ;所述第一導流外擋板28 與第一引流槽擋板29間設有凹槽型結構的第一導流外槽34,第二引流槽擋板30與第二導 流外擋板31間設有凹槽型結構的第二導流外槽32。
[0029] 根據本申請的一個實施例，提供一種淋釉機調節裝置，如圖9所示，導流板2為上 底大於下底的梯形結構，第一導流外擋板28和第二導流外擋板31高度大於第一引流槽擋 板29和第二引流槽擋板30,第一引流槽擋板29和第二引流槽擋板30長度相同且相互平 行，導流槽33橫截面寬度小於第二導流外槽32和第一導流外槽34下端橫截面寬度。
[0030] 根據本申請的一個實施例，提供一種淋釉機調節裝置，如圖7至圖8所示，固定腔 體7與擋板4相連接，且固定腔體7固定於兩側的擋板4之間，該固定腔體7上可以設有至 少兩個腔體固定孔23,擋板4上可以設置有位置和數量皆與該腔體固定孔23相對應的腔體 固定杆16,該腔體固定杆16穿過固定腔體7上的腔體固定孔23將固定腔體7與擋板4相 連接，並保證二者固定得牢固。
[0031] 根據本申請的一個實施例，提供一種淋釉機調節裝置，如圖1所示，調節杆6和調 節部件10均設於擋板4上，通過調節部件10可以對淋釉機出釉速度進行調節，並使釉液沿 導流板2流入接釉盆1。
[0032] 根據本申請的一個實施例，如圖4至圖6所示，提供一種淋釉機調節裝置，活動腔 體8上設置有與偏心軸3位置對應的支撐調節部件5,該支撐調節部件5主要承受來自偏心 軸3不同大小及方向的力進而對淋釉機出釉量及出釉速度進行調節。
[0033] 根據本申請的一個實施例，如圖3所示，提供一種淋釉機調節裝置，該裝置偏心軸 3上設置有偏心軸3連接杆插孔20和調節杆插孔19,調節杆6貫穿調節杆插孔19從而與 偏心軸3連接，並使該偏心軸3牢牢固定於調節杆6上當對調節部件10進行調節時會帶動 調節杆6 -起轉動，進而帶動偏心軸3轉動以對淋釉速度進行調節。
[0034] 根據本申請的一個實施例，圖4至圖6所示，提供一種淋釉機調節裝置，支撐調節 部件5上設置有偏心軸固定板15及起固定作用的固定部件插孔21，偏心軸固定板15上設 有支撐調節部件連接杆插孔22,偏心軸3上設有位置與心軸固定板15上的支撐調節部件連 接杆插孔22位置對應的偏心軸連接杆插孔20,偏心軸連接杆14穿過偏心軸連接杆插孔20 和支撐調節部件連接杆插孔22從而起到對偏心軸3和支撐調節部件5起到連接固定作用。
[0035] 根據本申請的一個實施例，提供一種淋釉機調節裝置，如圖1所示，該調節部件10 上設置有可旋轉的的調節轉盤11，該調節轉盤11上可以設置有旋轉杆，轉動旋轉杆可以使 該淋釉機調節裝置在使用過程中更加方便省力，當轉動該調節轉盤11或轉動該調節轉盤 11上的旋轉杆是可以對調節杆6的旋轉角度進行調節，進而調節淋釉機的出釉速度。
[0036] 根據本申請的一個實施例，提供一種淋釉機調節裝置，圖4所示，該裝置支撐調節 部件5上設有固定部件插孔21，固定部件13通過貫穿固定部件插孔21使支撐調節部件5 與活動腔體8連接，當偏心軸3轉動時會使該支撐調節部件5收到方向和大小不同的力， 進而對固定腔體7和活動腔體8的底部間距進行調整，以改變淋釉機的出釉速度。
[0037] 以上所述實施例僅表示本實用新型的幾種實施方式，其描述較為具體和詳細，但 並不能理解為對本實用新型範圍的限制。應當指出的是，對於本領域的普通技術人員來說， 在不脫離本實用新型構思的前提下，還可以做出若干變形和改進，這些都屬於本實用新型 保護範圍。因此本實用新型的保護範圍應該以所述權利要求為準。
【權利要求】
1. 一種淋釉機調節裝置，其特徵在於：包括固定腔體（7)、活動腔體（8)、調節部件 (10)、設置於固定腔體（7)和活動腔體（8)兩側的擋板（4)、與兩側擋板（4)相連接的調節杆 (6)、用來調節調節杆（6)旋轉角度的調節部件（10)、固定於所述調節杆（6)上的偏心軸（3) 及設置於活動腔體（8)上位置與偏心軸（3)相對應的支撐調節部件（5); 所述固定腔體（7)和活動腔體（8)為凹口向內的凹腔形結構，所述固定腔體（7)和活 動腔體（8)間設有空腔形結構的控釉腔（24)，所述固定腔體（7)頂部與活動腔體（8)相接 觸處為下端相內傾斜的三角形結構，所述固定腔體（7)固定於擋板（4)之間，所述活動腔體 (8)上設置有用來與擋板（4)相連接的腔體調節孔（25)，所述腔體調節孔（25)為圓形孔狀 結構，所述擋板（4)上設置有位置與腔體調節孔（25)相對應的腔體活動杆（18)和與控釉腔 (24)相連通的擋板進釉孔（17); 所述偏心軸（3) -端設有偏心軸連接杆插孔（20)，所述支撐調節部件（5)上設置有兩 個偏心軸固定板（15 )，偏心軸固定板（15 )上設有位置與所述偏心軸連接杆插孔（20 )相對 應的支撐調節部件連接杆插孔（22)，所述偏心軸（3)與支撐調節部件（5)通過偏心軸連接 杆（14)相連接。
2. 根據權利要求1所述的淋釉機調節裝置，其特徵在於：所述支撐調節部件（5)兩側設 置有用來與活動腔體（8)相連接的固定部件插孔（21)。
3. 根據權利要求1所述的淋釉機調節裝置，其特徵在於：所述調節部件（10)上設置有 調節轉盤（11)。
4. 根據權利要求1所述的淋釉機調節裝置，其特徵在於：所述固定腔體（7)和活動腔體 (8 )底部設置有出釉刀（26 )，出釉刀（26 )底部設有向內凹槽型結構的出釉刀凹口（ 27 )。
5. 根據權利要求1所述的淋釉機調節裝置，其特徵在於：所述固定腔體（7)和活動腔體 (8)正下方設置有用來控制出釉方向的導流板（2)，所述導流板（2)對稱軸上設置有導流槽 (33) ，所述導流槽（33)兩側設置有第一引流槽擋板（29)和第二引流槽擋板（30)，所述導流 板（2)的兩側外邊界處設置有對稱的第一導流外擋板（28)和第二導流外擋板（31);所述第 一導流外擋板（28)與第一引流槽擋板（29)間設有凹槽型結構的第一導流外槽（34)，所述 第二引流槽擋板（30)與第二導流外擋板（31)間設有凹槽型結構的第二導流外槽（32)。
6. 根據權利要求1所述的淋釉機調節裝置，其特徵在於：所述導流板（2)為上底大於下 底的梯形結構，所述第一導流外擋板（28)和所述第二導流外擋板（31)高度大於第一引流 槽擋板（29)和第二引流槽擋板（30)，所述第一引流槽擋板（29)和第二引流槽擋板（30)長 度相同且相互平行，所述導流槽（33)橫截面寬度小於第二導流外槽（32)和第一導流外槽 (34) 下端橫截面寬度。
【文檔編號】C04B41/86GK203999391SQ201420242803
【公開日】2014年12月10日 申請日期:2014年5月13日 優先權日:2014年5月13日
【發明者】李小成, 周超 申請人:四川漢莫尼機械設備有限公司