鎂合金蝕刻工藝的製作方法
2023-05-29 01:24:21
專利名稱：鎂合金蝕刻工藝的製作方法
技術領域：
本發明涉及一種金屬表面處理工藝，特別是涉及一種鎂合金表面處理工藝。
鎂合金具有重量輕、比強度高、彈性模量小、抗電磁幹擾、屏蔽性好、減 震能力強、加工性能好、導熱性能好等優點，已經在國防、電子電器等方面得 到廣泛應用。而在化學蝕刻加工方面，因其化學活性太強， 一般的金屬蝕刻溶 液與其反應太快，使蝕刻反應無法控制，因此迫需開發一種適應於鎂合金蝕刻 加工的新溶液及工藝。
鑑於以上問題，本發明的主要目的在於提供一種鎂合金蝕刻溶液，該溶液 能夠很好的控制蝕刻反應的進度，具有廣泛的應用前景。
為達到上述目的，本發明提供的一種鎂合金蝕刻溶液，其主要包括
蝕刻反應抑制劑 1 5 g/L。
其中，該溶液中還可添加適量整平劑、酸霧抑制劑等輔助試劑，以提高工 藝質量，而常用的酸霧抑制劑可選用0P-10。
而所述蝕刻反應抑制劑可優選為擰檬酸。
另該溶液隨著硝酸的加入，可使該溶液兼具化學拋光的功效，使蝕刻後的 鎂合金表面呈現出光亮的平面效果。
另外，本發明的另一目的則在於提供一種鎂合金蝕刻方法，該方法工藝簡 單，操作方便。
化學蝕刻是通過化學反應利用化學溶液的腐蝕作用將不需要的金屬快速溶 解除掉的過程。
本發明提供的該種鎂合金蝕刻方法，其步驟基本如下
1. 前處理，其主要包括脫脂、活化等步驟，其用以將初始鎂合金工件進行
清洗、除油等表面清潔；
2. 塗布，該步驟可包括製作菲霖、曝光顯影、製作網板、絲印等步驟，而
背景技術：
發明內容
硝酸 90 130g/L
硝酸鈉 40 60 g/L 酒石酸 0. 5 3g/L
通常是將上述處理後的鎂合金工件其表面塗覆感光膠，再按照加工圖樣進行感 光膠的曝光，而後進行顯影及堅膜處理；
3. 蝕刻，利用上述配製的鎂合金蝕刻溶液腐蝕該鎂合金工件之暴露金屬部
位；
4. 脫膜，待上述腐蝕到一定程度，再將其表面剩餘的膠膜用溶解液去掉， 最後用水清洗乾淨而得到蝕刻加工工件產品。
本發明提供的鎂合金蝕刻工藝，其蝕刻液通過加入蝕刻反應抑制劑，能夠 很好的控制蝕刻反應進行的速度，並且該蝕刻液兼備化學拋光的作用，可使得 蝕刻後的鎂合金表面呈現光亮的平面效果，另其加工工藝簡單，操作方便，具 有廣泛的應用前景。
具體實施例方式
實施例1
首先按照下述配方配製鎂合金蝕刻溶液
硝酸 117g/L ;
硝酸鈉 35g/L ;
酒石酸 0. 5g/L ;
檸檬酸 2g/L。
然後選一鎂合金工件樣品進行清洗、除油等表面清潔，進而在其表面塗覆 感光膠，再按照加工圖樣進行感光膠的曝光，而後進行顯影及堅膜處理，處理 完之後則將該樣品浸漬於上述配製的鎂合金蝕刻溶液中，待腐蝕到一定程度， 再將其表面剩餘的膠膜用鹼性溶液去掉，最後用水清洗乾淨而得到產品，整個 過程在室溫條件下進行，所得到的產品其蝕刻部位呈現光亮的平面效果。
實施例2
首先按照下述配方配製鎂合金蝕刻溶液
硝酸 105g/L ;
硝酸鈉 40g/L ;
酒石酸 lg/L ;
檸檬酸 3g/L ;
0P-10 2g/L。
然後選一鎂合金工件樣品進行清洗、除油等表面清潔，進而在其表面塗覆 感光膠，再按照加工圖樣進行感光膠的曝光，而後進行顯影及堅膜處理，處理 完之後則將該樣品浸漬於上述配製的鎂合金蝕刻溶液中，待腐蝕到一定程度， 再將其表面剩餘的膠膜用鹼性溶液去掉，最後用水清洗乾淨而得到產品，整個 過程在室溫條件下進行，所得到的產品其蝕刻部位呈現光亮的平面效果。
實施例3
首先按照下述配方配製鎂合金蝕刻溶液
硝酸 130g/L ;
硝酸鈉 30g/L ;
酒石酸 lg/L ;
檸檬酸 3g/L。
然後選一鎂合金工件樣品進行清洗、除油等表面清潔，進而在其表面塗覆 感光膠，再按照加工圖樣進行感光膠的曝光，而後進行顯影及堅膜處理，處理 完之後則將該樣品浸漬於上述配製的鎂合金蝕刻溶液中，待腐蝕到一定程度， 再將其表面剩餘的膠膜用鹼性溶液去掉，最後用水清洗乾淨而得到產品，整個 過程在室溫條件下進行，所得到的產品其蝕刻部位呈現光亮的平面效果。
以上具體實施方式
，是對本發明所作的詳細說明。注意這些實施方式並非 用以限定本發明，對於本領域的熟練技術人員，在不背離本發明精神的情況下 所做出的改進和補充，應該視為在本發明的保護範圍之內。
權利要求
1.一種鎂合金蝕刻溶液，其特徵在於，主要包括硝酸90～130g/L；硝酸鈉 40～60g/L；酒石酸 0.5～3g/L；蝕刻反應抑制劑 1～5g/L。
2. 根據權利要求1所述的鎂合金蝕刻溶液，其特徵在於，該溶液中還可添 加適量整平劑、酸霧抑制劑等輔助試劑，以提高工藝質量。
3. 根據權利要求2所述的鎂合金蝕刻溶液，其特徵在於，所述酸霧抑制劑 可選用0P-10。
4. 根據權利要求1所述的鎂合金蝕刻溶液，其特徵在於，所述蝕刻反應抑 製劑可優選為檸檬酸。5. —種鎂合金蝕刻方法，其特徵在於，主要步驟基本如下1. 前處理，其主要包括脫脂、活化等步驟，其用以將初始鎂合金工件進行 清洗、除油等表面清潔；2. 塗布，進而將該鎂合金工件其表面塗覆感光膠，再按照加工圖樣進行感 光膠的曝光，而後進行顯影及堅膜處理；3. 蝕刻，利用上述配製的鎂合金蝕刻溶液腐蝕該鎂合金工件之暴露金屬部位；4. 脫膜，待上述腐蝕到一定程度，再將其表面剩餘的膠膜用溶解液去掉， 最後用水清洗乾淨而得到蝕刻加工工件產品。
全文摘要
本發明提供一種鎂合金蝕刻工藝，其先將鎂合金工件進行前處理，再在其表面塗覆感光膠，然後按照加工圖樣進行感光膠的曝光，而後進行顯影及堅膜處理，之後則浸漬於蝕刻溶液中，該蝕刻溶液主要包括硝酸90～130g/L、硝酸鈉40～60g/L、酒石酸0.5～3g/L、蝕刻反應抑制劑1～5g/L，蝕刻完成後則脫膜，得到產品。本發明提供的鎂合金蝕刻工藝，其蝕刻液通過加入蝕刻反應抑制劑，能夠很好的控制蝕刻反應進行的速度，並且該蝕刻液兼備化學拋光的作用，可使得蝕刻後的鎂合金表面呈現光亮的平面效果，另其加工工藝簡單，操作方便，具有廣泛的應用前景。
文檔編號C23F1/10GK101173358SQ20061012318
公開日2008年5月7日 申請日期2006年10月31日 優先權日2006年10月31日
發明者李三旭 申請人:佛山市順德區漢達精密電子科技有限公司